ジアリル の意味・用法を知る

感熱記録材料として発色記録後の地肌かぶりが少なく、耐熱性に優れた顕色剤である３，３’− ジアリル −４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンを高純度及び高収率で製造する方法。

• 公開日：2015/07/06
• 出典：３，３’−ジアリル−４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造方法
• 出願人：日本化薬株式会社

例えば、特許文献１には、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン又はそのアルカリ金属塩と、アリルハライドとを反応させ、 ジアリル エーテル化ビスフェノール化合物である４，４’−ジアリルオキシジフェニルスルホンとし、次いで得られた４，４’−ジアリルオキシジフェニルスルホンを加熱転位反応させることにより、アリル置換ビスフェノール化合物である３，３’−ジアリル−４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンを製造する方法が記載されている。

• 公開日：2017/10/19
• 出典：アリル置換ビスフェノール化合物の製造方法
• 出願人：日華化学株式会社

１，３− ジアリル グリコールウリルのＩＲスペクトルである。

• 公開日：2015/03/30
• 出典：新規なアリルグリコールウリル類
• 出願人：四国化成工業株式会社

クロスリンカーの他の例は、Ｎ、Ｎ、Ｎ’、Ｎ’−テトラアリルエタンジアミド、及び２、２、２’、２’’、２’’’−（エタン−１、２−ジイルビス（アザネトリイル）テトラキス（Ｎ、Ｎ− ジアリル アセトアミド）である。

• 公開日：2013/10/24
• 出典：複合部材及びその製造方法
• 出願人：シンターファインケミカルズリミテッド

ジアリル アミン及びトリエチルアミンの滴下を３時間後に停止し、反応物を更に１時間撹拌させた。

• 公開日：2013/09/12
• 出典：低表面エネルギー基材の被覆方法
• 出願人：シンターファインケミカルズリミテッド

新規な ジアリル 系ポリスルファンおよびそれらの置換類似体、そのような化合物の製造方法、ならびにポリスルファンの硫黄鎖長を延長する方法を提供する。

• 公開日：2013/12/26
• 出典：アリル系ポリスルファン
• 出願人：エコスプレイリミテッド

...くとも二つ有する有機化合物としては、例えば、ブタジエン、イソプレン、１，４−ペンタジエン、１，５−ヘキサジエン、１，６−へプタジエン、１，７−オクタジエン、１，８−ノナジエン、１，９−デカジエン、１，２−ジビニルシクロヘキサン、１，３−ジビニルシクロヘキサン、１，４−ジビニルシクロヘキサン、１，２− ジアリル シクロヘキサン、１，４−ジアリルシクロヘキサン、ジアリルエーテル、ジビニルエーテル、トリメチロールプロパンジアリルエーテル、エチレングリコールジアリルエーテル、プロピレングリコールジアリルエーテル、ジエチレングリコールジアリルエーテル、ジプロピレングリコールジアリルエーテル、ポリエチレングリ...

• 公開日：2009/08/06
• 出典：硬化性組成物
• 出願人：ナガセケムテックス株式会社

本発明のアンモニウム塩（１）の具体的な例としては、例えば具体的化合物を記載してください。 ジアリル オクチルメチルアンモニウム＝ヘキサフルオロフォスファート、ジアリル−２−メチルヘプチルメチルアンモニウム＝ヘキサフルオロフォスファート、ジアリル−２−エチルヘキシルメチルアンモニウム＝ヘキサフルオロフォスファート、ジアリルノニルメチルアンモニウム＝ヘキサフルオロフォスファート、ジアリル−２−メチルオクチルメチルアンモニウム＝ヘキサフルオロフォスファート、ジアリルデシルメチルアンモニウム＝ヘキサフルオロフォスファート、ジアリル−２−メチルノニルメチルアンモニウム＝ヘキサフルオロフォスファート、ジアリ...

• 公開日：2010/09/02
• 出典：新規なアンモニウム塩
• 出願人：広栄化学工業株式会社

本発明は、新規な ジアリル 系ポリスルファンおよびそれらの置換類似体、そのような化合物の製造方法、ならびにポリスルファンの硫黄鎖長を延長する方法に関する。

• 公開日：2010/03/25
• 出典：アリル系ポリスルファン
• 出願人：エコスプレイリミテッド

皮膜剤としては、例えば、アニオン性皮膜剤（例えば、（メタ）アクリル酸／（メタ）アクリル酸エステル共重合体、メチルビニルエーテル／無水マレイン酸高重合体等）、カチオン性皮膜剤（例えば、カチオン化セルロース、ジメチル ジアリル アンモニウムクロライド重合体、ジメチルジアリルアンモニウムクロライド／アクリルアミド共重合体等）、ノニオン性皮膜剤（例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリル酸エステル共重合体、（メタ）アクリルアミド、高分子シリコーン、シリコーンレジン、トリメチルシロキシケイ酸等）が挙げられる。

• 公開日：2019/10/03
• 出典：化粧料組成物
• 出願人：株式会社資生堂