ショット の意味・用法を知る

ここで、本実施形態では、１枚の基板Ｐ上に複数の露光対象領域（適宜、区画領域、又は ショット 領域と称して説明する）が設定され、これら複数のショット領域に順次マスクパターンが転写される。

• 公開日：2018/02/01
• 出典：露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び露光方法
• 出願人：株式会社ニコン

マスクと基板とを走査しながらマスクのパターンを基板に転写する露光装置であって、基板を保持して移動するステージと、ステージの移動を制御する制御部と、基板の ショット 領域が露光が行われる露光領域に到達する前に、高さ方向の位置を計測する第１計測部と、第１計測部に先立って高さ方向の位置を計測する第２計測部と、を有し、制御部は、第２計測部で高さ方向の位置を計測したあと且つショット領域が露光領域に到達するまでに、第２計測部の計測結果に基づいて基板を高さ方向に駆動する第１駆動と、第１駆動に続いて第１計測部の計測結果に基づいて基板を高さ方向に駆動する第２駆動とを行うようにステージを制御し、第１駆動の高さ方向への...

• 公開日：2018/03/22
• 出典：露光装置及び物品の製造方法
• 出願人：キヤノン株式会社

荷電粒子ビーム描画装置は、描画データ記憶部と、 ショット 分割部と、パターン属性情報に対応して伝熱の近似計算の際に計算上併合する補正区画領域を判定する指標を保存する指標記憶部と、描画スケジュールを作成する描画スケジュール作成部と、描画ショットよりも前に描画される他のショットからの伝熱の近似計算方法を決定する近似計算方法決定部と、近似計算方法に基づき描画ショットよりも前に描画される他のショットからの伝熱による温度上昇量を計算する熱拡散計算部と、温度上昇量に基づきショットの代表温度を求めるショット温度計算部と、代表温度に基づきショットデータにより描画されるショットの照射量を変調する照射量変調部と、変調...

• 公開日：2017/03/16
• 出典：荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
• 出願人：株式会社ニューフレアテクノロジー

ターゲット ショット グループのショットは、実効温度に基づいて変更される。

• 公開日：2017/05/25
• 出典：温度効果を含む成形ビームリソグラフィを使用してパターンを形成するための方法及びシステム
• 出願人：ディー・ツー・エス・インコーポレイテッド

デフォーカスに起因する露光不良を防ぐためには、 ショット 領域毎にフォーカス駆動を行う必要があるが、フォーカス駆動に要する時間が長くなるとスループットが低下してしまう。

• 公開日：2016/12/08
• 出典：露光装置および露光方法、ならびに物品の製造方法
• 出願人：キヤノン株式会社

基板上に露光される第１ ショット 領域の位置と第１ショット領域の一部につなぎ領域を設けて露光される第２ショット領域の位置とのずれを計測するための第１、第２マークを有するマスクであって、第１マークは第１ショット領域内のつなぎ領域に露光されるマークであり、第１減光領域と第１減光領域の光透過率とは異なる光透過率の第１領域を有し、第２マークは第２ショット領域内のつなぎ領域に第１マークと重ね合わせて露光されるマークであり、第２減光領域と第２減光領域の光透過率とは異なる光透過率の第２領域を有し、第１、第２マークを重ねた場合に第１マークの第１領域の境界が第２マークの第２減光領域にあり、第２マークの第２領域の...

• 公開日：2018/01/18
• 出典：マスク、計測方法、露光方法、及び、物品製造方法
• 出願人：キヤノン株式会社

前記制御部は、前記傾き情報に基づいて、前記モールドの傾きが前記基板のインプリント対象の ショット 領域に応じた傾きとなるように前記モールド駆動部を制御する、ことを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。

• 公開日：2017/09/28
• 出典：インプリント装置、インプリント装置の動作方法および物品製造方法
• 出願人：キヤノン株式会社

しかる後、このマーク位置情報と新たに形成されるパターン（例えばレチクルパターン）の既知の位置情報とに基づいて、ウエハ上の１つの ショット 領域をそのパターンに対して位置合わせするウエハアライメントが行われる。

• 公開日：2017/11/30
• 出典：基板処理システム及び基板処理方法、並びにデバイス製造方法
• 出願人：株式会社ニコン

インプリント材が供給された位置から接触工程が行われる位置へ ショット 領域を移動させる時に吐出口から型を保持する型保持部に向かう方向へのガスの第１の流れを生成し、移動工程の後に基板の中心から外周に向かってガスの第２の流れを生成するように、ガスを供給する。

• 公開日：2017/11/02
• 出典：インプリント方法及び物品の製造方法
• 出願人：キヤノン株式会社

インプリント装置は、基板における有効領域と無効領域とを識別するための領域情報に基づいて、基板の ショット 領域における前記有効領域の大きさを評価するための指標を求め、インプリント処理に関する動作を前記指標に応じて制御する制御部を備える。

• 公開日：2017/06/29
• 出典：インプリント装置、情報処理装置および物品製造方法
• 出願人：キヤノン株式会社