ショット の意味・用法を知る
ショット とは、ホトレジスト感材への露光・位置合せ や半導体の露光(電子、イオン線露光を除く) などの分野において活用されるキーワードであり、株式会社ニコン やキヤノン株式会社 などが関連する技術を52,851件開発しています。
このページでは、 ショット を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
ショットの意味・用法
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ここで、本実施形態では、1枚の基板P上に複数の露光対象領域(適宜、区画領域、又は ショット 領域と称して説明する)が設定され、これら複数のショット領域に順次マスクパターンが転写される。
- 公開日:2018/02/01
- 出典:露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び露光方法
- 出願人:株式会社ニコン
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マスクと基板とを走査しながらマスクのパターンを基板に転写する露光装置であって、基板を保持して移動するステージと、ステージの移動を制御する制御部と、基板の ショット 領域が露光が行われる露光領域に到達する前に、高さ方向の位置を計測する第1計測部と、第1計測部に先立って高さ方向の位置を計測する第2計測部と、を有し、制御部は、第2計測部で高さ方向の位置を計測したあと且つショット領域が露光領域に到達するまでに、第2計測部の計測結果に基づいて基板を高さ方向に駆動する第1駆動と、第1駆動に続いて第1計測部の計測結果に基づいて基板を高さ方向に駆動する第2駆動とを行うようにステージを制御し、第1駆動の高さ方向への...
- 公開日:2018/03/22
- 出典:露光装置及び物品の製造方法
- 出願人:キヤノン株式会社
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荷電粒子ビーム描画装置は、描画データ記憶部と、 ショット 分割部と、パターン属性情報に対応して伝熱の近似計算の際に計算上併合する補正区画領域を判定する指標を保存する指標記憶部と、描画スケジュールを作成する描画スケジュール作成部と、描画ショットよりも前に描画される他のショットからの伝熱の近似計算方法を決定する近似計算方法決定部と、近似計算方法に基づき描画ショットよりも前に描画される他のショットからの伝熱による温度上昇量を計算する熱拡散計算部と、温度上昇量に基づきショットの代表温度を求めるショット温度計算部と、代表温度に基づきショットデータにより描画されるショットの照射量を変調する照射量変調部と、変調...
- 公開日:2017/03/16
- 出典:荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
- 出願人:株式会社ニューフレアテクノロジー
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ターゲット ショット グループのショットは、実効温度に基づいて変更される。
- 公開日:2017/05/25
- 出典:温度効果を含む成形ビームリソグラフィを使用してパターンを形成するための方法及びシステム
- 出願人:ディー・ツー・エス・インコーポレイテッド
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デフォーカスに起因する露光不良を防ぐためには、 ショット 領域毎にフォーカス駆動を行う必要があるが、フォーカス駆動に要する時間が長くなるとスループットが低下してしまう。
- 公開日:2016/12/08
- 出典:露光装置および露光方法、ならびに物品の製造方法
- 出願人:キヤノン株式会社
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基板上に露光される第1 ショット 領域の位置と第1ショット領域の一部につなぎ領域を設けて露光される第2ショット領域の位置とのずれを計測するための第1、第2マークを有するマスクであって、第1マークは第1ショット領域内のつなぎ領域に露光されるマークであり、第1減光領域と第1減光領域の光透過率とは異なる光透過率の第1領域を有し、第2マークは第2ショット領域内のつなぎ領域に第1マークと重ね合わせて露光されるマークであり、第2減光領域と第2減光領域の光透過率とは異なる光透過率の第2領域を有し、第1、第2マークを重ねた場合に第1マークの第1領域の境界が第2マークの第2減光領域にあり、第2マークの第2領域の...
- 公開日:2018/01/18
- 出典:マスク、計測方法、露光方法、及び、物品製造方法
- 出願人:キヤノン株式会社
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前記制御部は、前記傾き情報に基づいて、前記モールドの傾きが前記基板のインプリント対象の ショット 領域に応じた傾きとなるように前記モールド駆動部を制御する、ことを特徴とする請求項1に記載のインプリント装置。
- 公開日:2017/09/28
- 出典:インプリント装置、インプリント装置の動作方法および物品製造方法
- 出願人:キヤノン株式会社
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しかる後、このマーク位置情報と新たに形成されるパターン(例えばレチクルパターン)の既知の位置情報とに基づいて、ウエハ上の1つの ショット 領域をそのパターンに対して位置合わせするウエハアライメントが行われる。
- 公開日:2017/11/30
- 出典:基板処理システム及び基板処理方法、並びにデバイス製造方法
- 出願人:株式会社ニコン
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インプリント材が供給された位置から接触工程が行われる位置へ ショット 領域を移動させる時に吐出口から型を保持する型保持部に向かう方向へのガスの第1の流れを生成し、移動工程の後に基板の中心から外周に向かってガスの第2の流れを生成するように、ガスを供給する。
- 公開日:2017/11/02
- 出典:インプリント方法及び物品の製造方法
- 出願人:キヤノン株式会社
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インプリント装置は、基板における有効領域と無効領域とを識別するための領域情報に基づいて、基板の ショット 領域における前記有効領域の大きさを評価するための指標を求め、インプリント処理に関する動作を前記指標に応じて制御する制御部を備える。
- 公開日:2017/06/29
- 出典:インプリント装置、情報処理装置および物品製造方法
- 出願人:キヤノン株式会社
ショットの原理 に関わる言及
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ここで、類似 ショット 検出手段15による類似ショットの検出方法について詳述する。本実施の形態の類似ショット検出手段15は、顔検出結果およびカット検出結果を複合して類似ショット検出を行うものである。
- 公開日: 2009/03/05
- 出典: 類似ショット検出装置、プログラムおよび方法
- 出願人: 株式会社東芝
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ドアの開放のための前方、左右部位、上方に大きな設置スペースを設けることなく、開口部をドアによって開閉することができる開口部の開閉装置および ショット ブラス装置用開口部の開閉装置を得る。
- 公開日: 2005/06/30
- 出典: ショットブラスト装置用開口部の開閉装置
- 出願人: 株式会社ニッサンキ
ショットの問題点 に関わる言及
ショットの特徴 に関わる言及
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すなわち、対象となる ショット が前後のショット種別と異なり、かつ前後のショット種別が同一の場合に、全て同一のショット種別に補正する。また、対象となるショットが前後のショット種別と異なり、かつ前後のショット種別も同一でない場合に、対象となるショットのショット種別を時間的に前のショット種別に補正する。
- 公開日: 2009/10/08
- 出典: 動画像データのシーン分割装置
- 出願人: KDDI株式会社
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図6は、動画像処理装置10における動画像処理を示すフローチャートである。動画像処理は、主に、 ショット 区間定義処理、グループ化処理およびメタショット生成処理の3つの処理を含んでいる。
- 公開日: 2005/05/19
- 出典: 動画像処理装置、動画像処理方法および動画像処理プログラム
- 出願人: 株式会社東芝
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半導体の露光(電子、イオン線露光を除く)
- 半導体の露光の共通事項
- 紫外線,光露光の種類
- 紫外線,光露光用光源
- 光学系
- ステージ,チャック機構,及びそれらの動作
- ウェハ,マスクの搬送
- 露光の制御,調整の対象,内容
- 検知機能
- 検知機能の取付場所
- 制御,調整に関する表示,情報
- 位置合わせマーク
- 位置合わせマークの配置
- 位置合わせマークの特殊用途
- 位置を合わせるべき2物体上のマーク
- 位置合わせマークの光学的検出
- 検出用光学系
- 位置合わせマークの検出一般及び検出の補助
- X線露光
- X線光学系
- X線源
- X線露光用マスク
- レジスト塗布以前のウェハの表面処理
- レジスト塗布
- ベーキング装置
- 湿式現像,リンス
- ドライ現像
- レジスト膜の剥離
- 多層レジスト膜及びその処理
- 光の吸収膜,反射膜
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曲げ・直線化成形、管端部の成形、表面成形
- 樹脂材料等(主成形材料)
- 添加剤、配合剤
- 材料の状態、形態
- 挿入物等(補強材、芯材、表面材、ライニング対象部材、接合対象物)
- 機能物品(光学特性→用途物品)
- 表面の性状、外観に特徴ある成形品
- 一般形状、構造物品(用途物品優先)
- 用途物品
- 装置又は装置部材の材料の特徴
- 加熱冷却手段の具体的な特徴
- ホッパー
- 成形装置、成形操作のその他の特徴
- 検出量又は監視量
- 検出手段の特徴
- 調整制御量(制御の対象)
- 曲げ、直線化成形、管端部の成形の区分(1)
- 曲げ、直線化成形、管端部の成形の区分(2)
- 曲げ、直線化成形、管端部の成形システム
- 予備成形品及びその製造
- 予備成形品の前処理・コンディショニング
- 予備成形品等の供給
- 曲げ、直線化成形操作およびそのための装置
- 曲げ、直線化成形の付属操作および付属装置
- 管端部の成形型
- 管端部の成形操作
- 管端部の成形の付属操作
- 曲げ、直線化成形品の後処理・後加工
- 表面成形の区分(1)
- 表面成形の区分(2)
- 表面成形された面の形状
- 予備成形品及びその製造
- 予備成形材料の前処理・コンディショニング
- 予備成形品等の供給
- 表面成形の操作
- 付属装置
- 成形品の後処理、後加工