LF の意味・用法を知る

本発明は、がんの治療用組成物及び方法に関する。いくつかの実施形態では、本発明は、骨髄異形成症候群（ＭＤＳ）、急性骨髄性白血病（ＡＭＬ）、急性リンパ性白血病（ＡＬＬ）、成人Ｔ細胞白血病（ＡＴＬＬ）、リンパ腫、胃がん、多発性骨髄腫、またはそれらの組み合わせ、または異常活性のＣＤＸ２−ＫＬＦ４シグナル伝達経路と関連した状態を治療するために、ＣＤＸ２−ＫＬＦ４シグナル伝達経路中で成分を調節することができる薬剤の使用に関する。

• 公開日：2016/10/13
• 出典：がんの治療用組成物及び方法
• 出願人：アプトースバイオサイエンシーズ，インコーポレイテッド

アミノ酸配列ＫＫＬＤＴＦＦＶＫＬＳＬＦＴＥＲ（配列番号：２）を含む単離されたペプチド。

• 公開日：2016/10/13
• 出典：免疫系調節薬
• 出願人：カニムガイドセラピューティックスアーベー

...て、顔料分散ペーストを得た。 次いで、得られた顔料分散ペースト１３３．８部（固形分１２３部）、「スミジュールＮ−３３００」（商品名、住化バイエルウレタン社製、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート環付加物、固形分含有率１００％）５７部、ジブチル錫ジアセテート０．０４部及び「ディスパロン ＬＦ−１９８５−５０」（商品名、楠本化成社製、表面調整剤、固形分含有率５０％）０．１部（固形分０．０５部）を均一に混合し、さらに固形分が３０％になるように酢酸ブチルで希釈攪拌して、下塗り塗料組成物（Ａ−１）を得た。

• 公開日：2017/10/19
• 出典：複層塗膜形成方法
• 出願人：関西ペイント株式会社

ａ．ラテラルフローアッセイ（ＬＦＡ）と、ｂ．第１の相溶液及び第２の相溶液に分離する混合相溶液を含む水性二相系（ＡＴＰＳ）とを備える、試料中の目的とする被分析物の検出及び／または定量のためのデバイス。

• 公開日：2017/05/25
• 出典：被分析物の抽出、濃縮及び検出を一体化するためのデバイス
• 出願人：ザ・レジェンツ・オブ・ザ・ユニバーシティ・オブ・カリフォルニア

ディスプレイ１３０は、プロセッサ１４０の制御により、ＶＥ画像Ｇ１０上に、ＶＥ画像Ｇ１０における長軸ＭＰＲ面ＬＦ１の位置を示す参照線ＲＬ１を表示する。

• 公開日：2018/03/15
• 出典：医用画像処理装置及び医用画像処理プログラム
• 出願人：ザイオソフト株式会社

生のタマネギを、所定のｐＨ、温度条件下にて加熱し、アリイナーゼ及び催涙因子合成酵素の活性を低減又消失させる工程を含む、アリイナーゼ及びＬＦＳの活性が抑制され、かつＰＲＥＮＣＳＯ含有量の高いタマネギ加工品の製造方法。

• 公開日：2017/06/01
• 出典：ＰＲＥＮＣＳＯ含有物の製造方法
• 出願人：ハウス食品グループ本社株式会社

従来、下記特許文献１には、図１５に示すインナーガイドユニット１００が記載されている。このインナーガイドユニット１００は、筒状フィルムＦが連続的に繋がった、シート状に折り畳まれた帯状の長尺フィルムＬＦ内に収容されるインナーガイド１０１と、このインナーガイド１０１を長尺フィルムＬＦの外側から支持するガイドサポート１０２とから構成されている。

• 公開日：2017/10/05
• 出典：インナーガイドユニット
• 出願人：株式会社フジシール

インピーダンス、コールドクランクにおける電力、レート容量維持、電荷移動抵抗が現行のＬＦＰ系カソード物質よりも改善されたＬＦＰ電極物質が提供される。電極物質は、結晶質の第１の粒子及び第２の粒子を備え、第１の粒子はプレート状の単相のスフェニシダイト前駆体とリチウム源から形成される。ＬＦＰは、拡張固溶体範囲を含むＬＦＰの相挙動を含む。

• 公開日：2017/05/25
• 出典：リン酸アンモニウム鉄を形成する方法
• 出願人：エー１２３システムズエルエルシー

近年、撮像素子の受光面における光の強度に加えて、その光の進行方向の情報を含んだ画像信号（ライトフィールド（ＬＦ）データ）を取得して、撮影後に合焦位置を変更（リフォーカス）することができる撮像装置が提案されている。

• 公開日：2017/02/23
• 出典：画像処理装置、その制御方法、プログラム及び撮像装置
• 出願人：キヤノン株式会社

ステップＳ１３では、塗布制御部１１１が、回転中のウェハＷの表面Ｗａ上に第一処理液の供給を開始するように処理液供給部３２を制御する。例えば塗布制御部１１１は、ウェハＷの回転中心の上方にノズル３６を配置した状態で、本体３５からノズル３６に第一処理液を供給し、ノズル３６から下方に第一処理液を吐出するように処理液供給部３２を制御する。表面Ｗａ上に到達した第一処理液は、ウェハＷの回転の遠心力によってウェハＷの外周側に広がる。これにより、第一処理液が表面Ｗａ上に塗布され、表面Ｗａ上に液膜ＬＦ１が形成される（図７及び図８参照）。

• 公開日：2017/10/12
• 出典：基板処理方法、基板処理装置及び記録媒体
• 出願人：東京エレクトロン株式会社