高周波電力 の意味・用法を知る

被処理体に対するプラズマ処理によって、酸化シリコンから構成された第１領域Ｒ１を窒化シリコンから構成された第２領域Ｒ２に対して選択的にエッチングする方法であって、被処理体は、凹部を画成する第２領域Ｒ２、該凹部を埋める第１領域Ｒ１、及び、第１領域Ｒ１上に設けられたマスクＭＫを有し、フルオロカーボンガスを含む処理ガスのプラズマを生成する第１工程と、堆積物に含まれるフルオロカーボンのラジカルによって第１領域をエッチングする第２工程を備え、第２工程では、プラズマの形成に寄与する 高周波電力 をパルス波状に印加し、これらの工程は繰り返される。

• 公開日：2017/12/07
• 出典：エッチング方法
• 出願人：東京エレクトロン株式会社

本発明は、試料がプラズマ処理されるプラズマ処理室１０１と、プラズマを生成するための 高周波電力 を供給するプラズマ電源１１３とを備えるプラズマ処理装置において、第一の振幅を有する第一の期間と前記第一の振幅より小さい有限値の第二の振幅を有する第二の期間を周期的に繰り返すパルス波形により前記高周波電力を時間変調させ、前記第二の期間を第二の振幅を有する高周波電力により前記第一の振幅を有する第一の期間で生成したプラズマの消滅を所定の解離度で維持する。

• 公開日：2017/04/06
• 出典：プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
• 出願人：株式会社日立ハイテクサイエンス

基板Ｇに対して所定のプラズマ処理を施すプラズマ処理装置１は、基板Ｇを収容する処理容器２と、処理容器２内に処理ガスを供給するガス供給部２８と、処理容器２内に配置された電極３と、電極３に、パルス変調された 高周波電力 を供給する高周波電源部５３と、処理容器２から高周波電源部５３に向けて戻る反射波電力を所定周期で測定する反射波電力測定部５４と、反射波電力測定部５４で測定した反射波電力が所定の条件になったときに、処理容器２内でアーク放電が発生する蓋然性がある、または実際にアーク放電が発生したと判定する判定部１２１とを備え、パルス変調された高周波電力のパルス周期と、反射波電力測定部５４における測定周期が異なる。

• 公開日：2017/10/05
• 出典：プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
• 出願人：東京エレクトロン株式会社

高周波電力 が一旦停止された後、再開されるまでの時間に関係なく、整合時間を略一定に制御することができるプラズマ処理装置を提供する。

• 公開日：2017/08/10
• 出典：プラズマ処理装置
• 出願人：株式会社アルバック

受電装置２０１は、リセットＩＣ２８が送電回路１２による 高周波電力 の切り替えを検出すると、送電装置１０１に伝送する信号の内容に基づいて、送電回路１２から負荷回路２３側をみた入力インピーダンスを変化させる。

• 公開日：2018/03/22
• 出典：ワイヤレス給電システム
• 出願人：株式会社村田製作所

第２高周波電源３４は、例えば、３．２ＭＨｚの 高周波電力 ＬＦを載置台２０に印加する。

• 公開日：2017/12/28
• 出典：エッチング処理方法
• 出願人：東京エレクトロン株式会社

プラズマ処理装置を用いて予め実行されたプラズマ処理により取得された、第１の 高周波電力 と第１のエッチング速度との関係を示す第１のデータベース、較正の基準となる基準プラズマ処理装置を用いて予め実行されたプラズマ処理により取得された、第２の高周波電力と第２のエッチング速度との関係を示す第２のデータベース、および、プロセスレシピを保持する記憶部と、第２のデータベースからレシピ指定電力に相当する第２の高周波電力に対応する基準装置換算速度を読み出すとともに、第１のデータベースから基準装置換算速度に相当する前記第１のエッチング速度に対応する補正電力を算出する演算部と、レシピ指定電力を、演算部で算出された補正...

• 公開日：2017/09/14
• 出典：プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
• 出願人：パナソニックＩＰマネジメント株式会社

第１高周波電源が出力する第１ 高周波電力 を用いてフッ素含有ガスを含む第１の処理ガスからプラズマを生成し、生成されたプラズマによりシリコン酸化膜とシリコン窒化膜との積層膜をエッチングする第１の工程と、前記第１の工程の後、前記第１高周波電力を用いて臭素含有ガスを含む第２の処理ガスからプラズマを生成し、生成されたプラズマにより前記積層膜をエッチングする第２の工程とを有する、プラズマエッチング方法が提供される。

• 公開日：2017/06/08
• 出典：プラズマエッチング方法
• 出願人：東京エレクトロン株式会社

真空容器内部に配置され内側が減圧される処理室と、この処理室内に配置され処理対象のウエハが載せられる試料台と、前記処理室内の前記試料台の上方にプラズマを形成するための第１の 高周波電力 を供給する第１の高周波電源と、前記試料台内に配置された電極に前記ウエハ上にバイアス電位を形成するための第２の高周波電力を供給する第２の高周波電源とを有し、前記第１及び第２の高周波電力の少なくとも何れかが高低の異なる値を各々所定の期間だけ出力することを特定の周期で繰り返す場合に、前記第１及び第２の高周波電力の両方が高い出力で出力されている時点で検出された一方の前記高周波電力についての情報を用いて当該一方の高周波電力につ...

• 公開日：2017/02/02
• 出典：プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
• 出願人：株式会社日立ハイテクサイエンス

高周波電力 を、高速に変化する所望の波形として出力することができる高周波電源を提供する。

• 公開日：2017/11/09
• 出典：高周波電源
• 出願人：株式会社ダイヘン