高周波電力 の意味・用法を知る

第１の表面波励振体１０３ａおよび第２の表面波励振体１０３ｂと、第１の 高周波電力 供給部１１０ａおよび第２の高周波電力供給部１１０ｂと、高周波電力発生部１２０を備える高周波加熱装置１００であって、第１の表面波励振体１０３ａと第２の表面波励振体１０３ｂは、被加熱物１０２を挟み込むように、互いに対向した位置に設置され、第１の表面波励振体１０３ａと第２の表面波励振体１０３ｂは、それぞれ励振周波数が異なる。

• 公開日：2018/01/11
• 出典：高周波加熱装置
• 出願人：パナソニックＩＰマネジメント株式会社

第１の表面波励振体１０３ａおよび第２の表面波励振体１０３ｂと、第１の 高周波電力 供給部１１０ａおよび第２の高周波電力供給部１１０ｂと、高周波電力発生部１２０を備える高周波加熱装置１００であって、第１の表面波励振体１０３ａと第２の表面波励振体１０３ｂは、被加熱物１０２を挟み込むように、互いに対向した位置に設置されている。

• 公開日：2018/01/11
• 出典：高周波加熱装置
• 出願人：パナソニックＩＰマネジメント株式会社

直流電力７ａを 高周波電力 に変換して出力するブリッジ回路７ｇ、ブリッジ回路７ｇから出力される高周波電力を変圧するための変圧器７ｊ、および変圧部７ｊに直列接続された共振用キャパシタＣを有する高周波電源回路７と、インダクタであり変圧部７ｊにて変圧された高周波電力が供給されるプラズマ生成用アンテナ５ｅと、を備える。

• 公開日：2017/04/27
• 出典：プラズマ処理装置、プラズマ生成方法、およびセルフバイアス印加方法
• 出願人：独立行政法人産業技術総合研究所

テトラエトキシシランの導入を停止し、反応剤の導入と 高周波電力 の供給とを継続する（ステップＳ４）。

• 公開日：2018/01/25
• 出典：酸化ケイ素膜の製造方法
• 出願人：日新電機株式会社

被処理体に対するプラズマ処理によって、酸化シリコンから構成された第１領域Ｒ１を窒化シリコンから構成された第２領域Ｒ２に対して選択的にエッチングする方法であって、被処理体は、凹部を画成する第２領域Ｒ２、該凹部を埋める第１領域Ｒ１、及び、第１領域Ｒ１上に設けられたマスクＭＫを有し、フルオロカーボンガスを含む処理ガスのプラズマを生成する第１工程と、堆積物に含まれるフルオロカーボンのラジカルによって第１領域をエッチングする第２工程を備え、第２工程では、プラズマの形成に寄与する 高周波電力 をパルス波状に印加し、これらの工程は繰り返される。

• 公開日：2017/12/07
• 出典：エッチング方法
• 出願人：東京エレクトロン株式会社

本発明は、試料がプラズマ処理されるプラズマ処理室１０１と、プラズマを生成するための 高周波電力 を供給するプラズマ電源１１３とを備えるプラズマ処理装置において、第一の振幅を有する第一の期間と前記第一の振幅より小さい有限値の第二の振幅を有する第二の期間を周期的に繰り返すパルス波形により前記高周波電力を時間変調させ、前記第二の期間を第二の振幅を有する高周波電力により前記第一の振幅を有する第一の期間で生成したプラズマの消滅を所定の解離度で維持する。

• 公開日：2017/04/06
• 出典：プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
• 出願人：株式会社日立ハイテクサイエンス

基板Ｇに対して所定のプラズマ処理を施すプラズマ処理装置１は、基板Ｇを収容する処理容器２と、処理容器２内に処理ガスを供給するガス供給部２８と、処理容器２内に配置された電極３と、電極３に、パルス変調された 高周波電力 を供給する高周波電源部５３と、処理容器２から高周波電源部５３に向けて戻る反射波電力を所定周期で測定する反射波電力測定部５４と、反射波電力測定部５４で測定した反射波電力が所定の条件になったときに、処理容器２内でアーク放電が発生する蓋然性がある、または実際にアーク放電が発生したと判定する判定部１２１とを備え、パルス変調された高周波電力のパルス周期と、反射波電力測定部５４における測定周期が異なる。

• 公開日：2017/10/05
• 出典：プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
• 出願人：東京エレクトロン株式会社

高周波電力 が一旦停止された後、再開されるまでの時間に関係なく、整合時間を略一定に制御することができるプラズマ処理装置を提供する。

• 公開日：2017/08/10
• 出典：プラズマ処理装置
• 出願人：株式会社アルバック

受電装置２０１は、リセットＩＣ２８が送電回路１２による 高周波電力 の切り替えを検出すると、送電装置１０１に伝送する信号の内容に基づいて、送電回路１２から負荷回路２３側をみた入力インピーダンスを変化させる。

• 公開日：2018/03/22
• 出典：ワイヤレス給電システム
• 出願人：株式会社村田製作所

第２高周波電源３４は、例えば、３．２ＭＨｚの 高周波電力 ＬＦを載置台２０に印加する。

• 公開日：2017/12/28
• 出典：エッチング処理方法
• 出願人：東京エレクトロン株式会社