ガドリニウム の意味・用法を知る

本発明の実施例に係る磁性材料は、鉄（Ｆｅ）、リン（Ｐ）及びホウ素（Ｂ）を含むＦｅ−Ｐ−Ｂ系合金と、 ガドリニウム （Ｇｄ）と、を含み、ガドリニウム（Ｇｄ）の含量は０．０５ａｔ％〜２ａｔ％である。

• 公開日：2015/12/03
• 出典：磁性材料及びそれを用いるインダクタ
• 出願人：サムソンエレクトロ−メカニックスカンパニーリミテッド．

本発明は、立方晶系の結晶学的構造を持つ結晶相を有し、0.6〜0.93の原子比Gd/[Gd+U]を持つ、ウラン、 ガドリニウム 及び酸素で作られた新規な物質に係り、該ウランは+IV及び/又は+Vの酸化状態で存在している。

• 公開日：2016/08/04
• 出典：ウラン、ガドリニウム及び酸素で作られた新規物質及びその消耗性の中性子毒としての使用
• 出願人：コミッサリアタレネルジーアトミクエオエネルジーオルタネイティヴ

Ｏは酸素原子を表し、Ｇｄは ガドリニウム 原子を表す。

• 公開日：2017/02/16
• 出典：共役ジエン重合用触媒及びそれを用いた共役ジエン重合体、変性共役ジエン重合体、それらの製造方法、タイヤ用ゴム組成物、並びにゴムベルト用ゴム組成物
• 出願人：宇部興産株式会社

ガドリニウム ベースのMRI造影剤を使用すると、明るく画像を強調し(画像上の明るいシグナル)、鉄剤を使用すると、暗く画像を強調する(画像が暗くなる)。

• 公開日：2013/04/04
• 出典：腫瘍の磁気共鳴画像化法のためのリポソームナノ粒子
• 出願人：メディカルリサーチカウンシル

撮像装置とともに使用される修飾ＧＯＳ材料であり、当該ＧＯＳ材料の ガドリニウム （Ｇｄ）の一部が、イットリウム（Ｙ）、ランタン（Ｌａ）及びルテチウム（Ｌｕ）の群から選択された少なくとも１つの元素で置換された修飾ＧＯＳ材料、を有する発光物質。

• 公開日：2011/12/15
• 出典：発光物質及びそれを用いた放射線検出方法
• 出願人：フィリップスエレクトロニクスネムローゼフェンノートシャップ

ガドリニウム を含む、合成のリン酸カルシウムベースの医用材料。

• 公開日：2009/11/19
• 出典：医用材料
• 出願人：アパテックリミテッド

光学薄膜の製造方法は、基板を用意することと、ランタンと ガドリニウム の合計モル数に対する前記ガドリニウムのモル数の比が０．１〜０．９５となるように、フッ化ランタンとフッ化ガドリニウムを混合した蒸着原料を用意することと、前記基材上に前記蒸着原料を蒸着することを含む。

• 公開日：2011/06/16
• 出典：光学薄膜およびその製造方法、光学薄膜を含む光学多層膜、光学薄膜を有する光学部品、光学部品を含む露光装置および露光方法
• 出願人：株式会社ニコン

本発明の合金は、合計で2.0から 5.0,好ましくは 2.3から 4.6at%の ガドリニウム 並びに可溶性重ランタニド及びイットリウムからなる群から選択された少なくとも1種の元素と‐但し可溶性重ランタニド及びイットリウムの合算量のガドリニウムに対する比率が 1.25:1と 1.75:1の間、より好ましくは約 1.5:1である‐、0から0.3 at%以下、好ましくは少なくとも0.03at%の任意の亜鉛と併せてジルコニウムと‐但し亜鉛が存在した場合は亜鉛の量は、ジルコニウム重量に対する亜鉛重量の比率は好ましくは2:1未満であり、より好ましくは0.75:1未満である、−総量で0.2 at%未満、好ま...

• 公開日：2010/02/04
• 出典：ガドリニウム含有マグネシウム合金
• 出願人：マグネシウム・エレクトロン・リミテツド

下記構造式で示されるような、特定の構造を有する本発明の ガドリニウム 錯化合物は、カリウムイオン、カルシウムイオン、グルコース等に応答性を発揮するので、本発明のガドリニウム錯化合物をMRIプローブとして用いることにより、生体内のこれらのイオンや化合物を検出したり濃度分布を知ることが可能になる。

• 公開日：2008/08/14
• 出典：錯化合物及びそれから成るＭＲＩプローブ
• 出願人：独立行政法人科学技術振興機構

ガドリニウム ターゲットとチタン製バッキングプレートとの組立体であって、ガドリニウムターゲットとチタン製バッキングプレートとの接合界面に、固相拡散接合界面を有することを特徴とするガドリニウムターゲットとチタン製バッキングプレート組立体。ガドリニウム製スパッタリングターゲットに適合するバッキングプレートを見出すと共に、最適な接合条件を探索し、成膜速度を向上させると共にスパッタリングを安定させ、ターゲット材とバッキングプレートの接合強度を増加させてターゲット材とバッキングプレートの反りの発生や剥離を防止し、スパッタリング時のパーティクルの発生を抑制することを課題とする。

• 公開日：2013/05/09
• 出典：ガドリニウム製スパッタリングターゲット及び同ターゲットの製造方法
• 出願人：ＪＸ金属株式会社