カルボキシ基 の意味・用法を知る

カルボキシ基 を有し、透明性に優れる（メタ）アクリル系重合体を、簡便かつ効率的に製造する方法を提供すること。

• 公開日：2017/08/17
• 出典：（メタ）アクリル系重合体の製造方法
• 出願人：株式会社クラレ

一般式（１）で表されるエポキシ樹脂（ａ）と分子中に一個以上の重合可能なエチレン性不飽和基と一個以上の カルボキシ基 を併せ持つ化合物（ｂ）と一分子中に二つ以上のカルボキシ基を併せ持つ化合物（ｃ）とを反応せしめて得られる反応性エポキシカルボキシレート化合物（Ａ）、該エポキシ樹脂（ａ）、分子中に一個以上の重合可能なエチレン性不飽和基と一個以上のカルボキシ基を併せ持つ化合物（ｂ）及び多塩基酸無水物（ｄ）を反応せしめて得られる反応性エポキシカルボキシレート化合物（Ａ’）、該反応性エポキシカルボキシレート化合物（Ａ）／（Ａ’）に多塩基酸無水物（ｄ）を反応せしめて得られる反応性ポリカルボン酸化合物（Ｂ）及び反...

• 公開日：2017/10/19
• 出典：エポキシ樹脂、反応性カルボキシレート化合物、それを用いた硬化型樹脂組成物、及びその用途
• 出願人：日本化薬株式会社

セルロース系材料を含むガスバリア膜であって、そのセルロース系材料が、 カルボキシ基 を有し、且つミクロフィブリル単位で分散したセルロースシングルナノファイバー部分と未解繊状態のセルロースナノファイバー部分が緻密に絡み合った構造を形成したセルロース系材料であることを特徴とするガスバリア膜。

• 公開日：2016/09/05
• 出典：ガスバリア膜およびガスバリア膜の製造方法
• 出願人：凸版印刷株式会社

基材の少なくとも一方に、防曇層１２を設け、防曇層が、少なくとも１種類以上の微細化セルロースと、少なくとも１種類以上の多価金属イオンを含有し、微細化セルロースの、短軸の数平均短軸径は１ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、長軸の数平均長軸径は０．０５μｍ以上５０μｍ以下であり、グルコピラノース単位のヒドロキシ基の少なくとも一部が カルボキシ基 に変換されていることを特徴とする防曇フィルム。

• 公開日：2017/07/20
• 出典：防曇フィルム及び防曇用組成物
• 出願人：凸版印刷株式会社

一般式（１）で表されるエポキシ樹脂（ａ）と一分子中に二つ以上のフェノール性水酸基を有する化合物（ｂ）とを反応せしめて得られるエポキシ樹脂（Ａ）、該エポキシ樹脂（Ａ）と分子中に一個以上の重合可能なエチレン性不飽和基と一個以上の カルボキシ基 を併せ持つ化合物（ｃ）とを反応せしめて得られる反応性エポキシカルボキシレート化合物（Ｂ）、該エポキシ樹脂（Ａ）、分子中に一個以上の重合可能なエチレン性不飽和基と一個以上のカルボキシ基を併せ持つ化合物（ｃ）及び一分子中に水酸基とカルボキシ基を併せ持つ化合物（ｄ）を反応せしめて得られる反応性エポキシカルボキシレート化合物（Ｂ’）、該反応性エポキシカルボキシレート化合...

• 公開日：2017/07/27
• 出典：エポキシ樹脂、反応性カルボキシレート化合物、それを用いた硬化型樹脂組成物、およびその用途
• 出願人：日本化薬株式会社

また、酸共存下でPEGと カルボキシ基 含有多糖類との縮合反応を利用して、PEGカルボキシ基含有多糖類グラフトを製造することができる。

• 公開日：2017/01/26
• 出典：薬物徐放性担体及びその製造方法
• 出願人：コスメディ製薬株式会社

前記腐食防止剤が、シラン化合物、および、 カルボキシ基 またはその塩を有する環状化合物、の少なくとも一方を含む、請求項１６に記載のレジスト除去液。

• 登録日：2019/07/19
• 出典：レジスト除去液、レジスト除去方法、再生半導体基板の製造方法
• 出願人：富士フイルム株式会社

...を有していてもよいアリール基である、上記［２］記載の剤。 ［４］前記置換基を有していてもよいアルキル基の置換基が、置換基を有していてもよいフェニル基、窒素を有する複素環残基、アルキルスルファニル基、アリールスルファニル基、ヒドロキシ基、カルバモイル基、アミノ基、グアニジノ基、アルコキシ基、アミド基、 カルボキシ基 、およびカルボキシ基の等価体からなる群より選択される少なくとも１つの基であり、 前記カルボキシ基およびカルボキシ基の等価体が、−ＣＯＯＲ、−ＣＯＮＲ２、−ＣＯＲ、−ＣＮ、−ＮＯ２、−ＮＨＣＯＲ、−ＯＲ、−ＳＲ、−ＯＣＯＲ、−ＳＯ３Ｒ、および−ＳＯ２ＮＲ２からなる群より選択される少なくとも...

• 公開日：2016/09/01
• 出典：炎症性皮膚疾患の予防または治療用製剤
• 出願人：株式会社ナールスコーポレーション

請求項１又は２に記載のアゾ化合物（Ａ）が、下記式（４）で表されるアゾ化合物である請求項１又は２に記載のインク組成物。［式（４）中、Ｒ1は、（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル基； カルボキシ基 で置換された（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル基；フェニル基；スルホ基で置換されたフェニル基；又は、カルボキシ基；を表し、Ｒ2はシアノ基；カルバモイル基；又は、カルボキシ基；を表し、Ｒ3及びＲ4は、それぞれ独立して、水素原子；（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル基；（Ｃ１〜Ｃ４）アルコキシ基；ハロゲン原子；又は、スルホ基；を表し、Ｒ5は、（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルチオ基；ヒドロキシ基、スルホ基およびカルボキシ基よりなる群から選択される少なくとも１種類...

• 公開日：2017/03/30
• 出典：インク組成物、これを用いるインクジェット記録方法、及び着色体
• 出願人：日本化薬株式会社

ゴム、微細セルロース繊維又はその改質物、及び可塑剤を含有してなるゴム組成物であって、該微細セルロース繊維の平均繊維径が０．１ｎｍ以上２００ｎｍ以下であり、該微細セルロース繊維を構成するセルロースが カルボキシ基 を有するものである、ゴム組成物、ならびに、可塑剤と微細セルロース繊維又はその改質物の分散液とを混合した後、溶媒の一部を除去して、微細セルロース繊維又はその改質物／可塑剤の混合物を得る工程、及び、前記工程で得られた混合物とゴムとを混合する工程、を含むゴム組成物の製造方法。

• 公開日：2017/01/12
• 出典：ゴム組成物
• 出願人：花王株式会社