酸素濃度 の意味・用法を知る
酸素濃度 とは、濃淡電池(酸素濃度の測定) や内燃機関に供給する空気・燃料の電気的制御 などの分野において活用されるキーワードであり、トヨタ自動車株式会社 やパナソニック株式会社 などが関連する技術を97,254件開発しています。
このページでは、 酸素濃度 を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
酸素濃度の意味・用法
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DRAMキャパシタにおける誘電体膜の下層に設けられるTiN系材料からなる下部電極204であって、両外側に設けられた相対的に 酸素濃度 が低い2層の第1のTiON膜241と、それらの内側にそれぞれ形成された相対的に酸素濃度が高い第2のTiON膜242と、第2のTiON膜242の内側に設けられた中心層をなすTiN膜243とを有する5層の積層構造からなる。
- 公開日:2017/06/29
- 出典:DRAMキャパシタの下部電極およびその製造方法
- 出願人:東京エレクトロン株式会社
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装置内の 酸素濃度 を容易かつ迅速に判別することや監視することができる電子部品搬送装置および電子部品検査装置を提供すること。
- 公開日:2016/10/06
- 出典:電子部品搬送装置および電子部品検査装置
- 出願人:セイコーエプソン株式会社
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酸素濃度 測定装置1において、酸素センサ10の出力はディジタルマルチメータ20に接続されている。
- 公開日:2016/09/15
- 出典:酸素センサ及び計測装置
- 出願人:高橋三男
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例えば土壌環境などの直接測定が困難な測定環境中の 酸素濃度 と水分量とを同時にかつ簡易に測定することができる酸素・水分量センサを提供することにある。
- 公開日:2017/12/07
- 出典:酸素・水分量センサ及びその計測方法
- 出願人:東日本電信電話株式会社
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酸素濃度 の低い炭化珪素エピタキシャル層を形成した炭化珪素エピタキシャル基板の提供。
- 公開日:2017/01/12
- 出典:炭化珪素単結晶基板
- 出願人:住友電気工業株式会社
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エチレン−ビニルエステル系共重合体を製造する際に、ビニルエステル系モノマーとして、貯蔵及び/又は輸送時の 酸素濃度 を2〜8ppmとし、重合時の酸素濃度を2ppm未満とする。
- 公開日:2015/08/06
- 出典:エチレン−ビニルエステル系共重合体の製造方法、及びエチレン−ビニルエステル系共重合体ケン化物
- 出願人:三菱レイヨン株式会社
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チャンバー内に大きな圧力変動が繰り返される場合であっても正確に 酸素濃度 を測定することができる熱処理装置を提供する。
- 公開日:2017/06/15
- 出典:熱処理装置
- 出願人:株式会社SCREENホールディングス
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そして、制御装置80は、エンジン1において燃料カットが実行されているときにNOxセンサ150で検出された 酸素濃度 が大気中の酸素濃度よりも低い場合には、排気浄化機構の異常診断についてその実行を禁止する。
- 公開日:2017/08/17
- 出典:排気浄化機構の異常診断装置
- 出願人:トヨタ自動車株式会社
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...岐する吸気マニホールドと、各接続流路4aに開口し吸気を取り入れるための流入口21bと吸気マニホールドよりも上流側の吸気通路4に開口し取り入れた吸気を送り出すための流出口21aを有するバイパス通路21と、バイパス通路21に設けられる吸気 酸素濃度 検知手段23と、吸気酸素濃度検知手段23により検知された実酸素濃度と運転状況に応じた吸気通路4内の目標酸素濃度とに基づいて燃焼室2への吸気の導入や燃焼室2内における燃焼の制御を行う吸気燃焼制御手段31とを備えるエンジンの制御装置とした。
- 公開日:2017/02/16
- 出典:エンジンの制御装置
- 出願人:三菱自動車工業株式会社
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可燃性ガスが含まれる測定ガスの正確な 酸素濃度 を測定することのできる酸素濃度測定装置及び酸素濃度測定方法を提供する。
- 公開日:2016/08/18
- 出典:酸素濃度測定装置及び酸素濃度測定方法
- 出願人:エナジーサポート株式会社
酸素濃度の原理 に関わる言及
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この課題は、前述された種類の内燃機関の吸気における 酸素濃度 を濃縮するための方法において、検出された酸素濃度に依存して少なくとも一つの駆動可能な調整手段により、吸引された空気及び酸素濃縮された空気の濃度を変化させることによって解決される。
- 公開日: 1998/09/22
- 出典: 内燃機関の吸気における酸素濃度を濃縮するための方法及び装置
- 出願人: ローべルトボツシユゲゼルシヤフトミツトベシユレンクテルハフツング
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上述したNOx発生量推定装置によって推定されたNOx発生量に基づいて燃料の燃焼を制御する装置として具体的には以下のものが挙げられる。つまり、上記推定されたNOx発生量が、予め設定されたNOx許容量以下となるように燃焼室内の 酸素濃度 を制御する酸素濃度制御手段を備えさせるものである。
- 公開日: 2012/05/17
- 出典: 内燃機関のNOx発生量推定装置及び制御装置
- 出願人: トヨタ自動車株式会社
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また、ウォッベ指数測定装置が、被測定ガスの比重の値を、被測定ガスの屈折率の値および 酸素濃度 の値に基づいて当該被測定ガスの比重を算出することによって得る構成のものであることにより、被測定ガスの比重を測定するための手段を設ける必要がないために当該ウォッベ指数測定装置の小型化を図ることができる。
- 公開日: 2012/12/20
- 出典: ガスの燃焼熱量測定方法およびウォッベ指数測定方法並びにガス測定装置
- 出願人: 理研計器株式会社
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逆に、排気ガス測定室の 酸素濃度 が大気導入室よりも大きい時は、空燃比測定電流を大気導入室側から排気ガス測定室へ流すことにより、排気ガス測定室の酸素を大気導入室から奪うことにより、排気ガス測定室の酸素濃度を減らす。
- 公開日: 2001/04/03
- 出典: リニア空燃比センサ故障診断装置
- 出願人: 株式会社日立製作所
酸素濃度の問題点 に関わる言及
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酸素濃度 が高い雰囲気下でも、不活性ガスで置換した雰囲気下と同様に高い硬化性や密着性を得ることができる活性エネルギー線硬化性組成物、それを用いた電子線による硬化皮膜の形成方法および硬化物の提供。
- 公開日: 2000/04/18
- 出典: 活性エネルギー線硬化性組成物、それを用いた硬化皮膜の形成方法および硬化物
- 出願人: 東洋インキSCホールディングス株式会社
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また、上記のような窒素酸化物濃度検出器を用いた測定方法によれば、窒素酸化物濃度測定の 酸素濃度 依存性や温度依存性が大きいため、正確な窒素酸化物濃度測定が困難である。
- 公開日: 2000/06/23
- 出典: 被測定ガス中の窒素酸化物濃度の測定方法及び窒素酸化物濃度検出器
- 出願人: 日本特殊陶業株式会社
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酸素濃度 が高い雰囲気下でも、不活性ガスで置換した雰囲気下と同様に高い硬化性を得ることができる活性エネルギー線硬化性組成物、それを用いた電子線による硬化皮膜の形成方法および硬化物の提供。
- 公開日: 2000/03/28
- 出典: 硬化性組成物、それを用いた硬化皮膜の形成方法および硬化物
- 出願人: 東洋インキSCホールディングス株式会社
酸素濃度の特徴 に関わる言及
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湿度検出手段または 酸素濃度 検出手段のいずれか一方でも、前述のように脱ガス処理の進捗状況を管理できるが、両方を使用することでより安定した脱ガス処理の管理ができる。
- 公開日: 2009/01/29
- 出典: 金属溶湯の調製装置、金属溶湯の調製方法、金属溶湯の脱ガスまたは非金属介在物除去装置、金属溶湯の製造方法および金属溶湯の脱ガスまたは非金属介在物除去方法
- 出願人: 株式会社豊田中央研究所
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肺への吸気の欠乏は血中の 酸素濃度 の低下と二酸化炭素濃度の増加とを生ずる。酸素濃度と二酸化炭素濃度の変動は脳に、呼吸を再開し、覚醒するように警告を発する。活力を回復させる深い睡眠が頻繁に中断される結果、早朝の頭痛、日中の非常な眠さ、うつ状態、興奮性および学習および記憶の困難が生ずることが多い。
- 公開日: 2006/10/12
- 出典: 閉塞型睡眠時無呼吸を含む睡眠時呼吸障害の治療のために目標身体部域内たとえば咽頭管内の組織を固定もしくは支持する装置、システムならびに方法
- 出願人: アプネオン,インコーポレイテッド
酸素濃度の使用状況 に関わる言及
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したがって、噴射方向を連続的に変えることができる燃料噴射弁を用いた場合には、吸気の 酸素濃度 が低いほど先行噴射の噴射方向と主噴射の噴射方向とを接近させ、逆に吸気の酸素濃度が高いほど先行噴射の噴射方向と主噴射の噴射方向とを隔離させる。
- 公開日: 2010/09/24
- 出典: 圧縮着火式内燃機関の燃焼制御装置
- 出願人: 日産自動車株式会社
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以上の形態によれば、吸入ガスの酸素量OXM及び 酸素濃度 OXCの両者を考慮してスモーク発生量を抑えるための最大噴射量限界値QOXMLMTが決定され、要求噴射量QDMDがその最大噴射量限界値QOXMLMTを超えるときには指令噴射量QFINが最大噴射量限界値QOXMLMTに制限される。従って、酸素量OXMのみに基づいて燃料噴射量を制限する場合と比較して、スモークの発生をより正確に抑えることができる。
- 公開日: 2006/09/21
- 出典: 内燃機関の燃料噴射制御装置
- 出願人: トヨタ自動車株式会社
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結晶、結晶のための後処理
- 目的・対象とする結晶の形態
- 結晶自体の特徴(クレーム)
- 材料1(元素状、合金)
- 材料2(酸化物)
- 材料3(複合酸化物)
- 材料4(酸素酸塩)
- 材料5(〜化物)
- 材料6(有機物)
- 固相成長
- 液相成長1(常温で液体の溶媒を使用する)
- 液相成長2(溶融溶媒を使用するもの)CG優先
- 液相成長3(融液の凝固によるもの)
- 液相成長4(ゾーンメルティング)
- 液相成長5(融液からの引き出し)
- 液相成長6(液相エピタキシャル)
- 気相成長1(蒸着、昇華)
- 気相成長2(CVD)
- 結晶成長共通1(成長条件の制御)固相成長を除く
- 結晶成長共通2(不純物のドーピング)
- 結晶成長共通3(原料の調製、原料組成)
- 結晶成長共通4(種結晶、基板)
- 結晶成長共通5(成長前の基板の処理、保護)
- 結晶成長共通6(基板への多層成長)
- 結晶成長共通7(装置、治具)
- 結晶成長共通8(検知、制御)
- 結晶成長共通9(特定の成長環境の付加)
- 後処理1(拡散源、その配置)
- 後処理2(後処理のための基板表面の前処理)
- 後処理3(気相からのドーピング)
- 後処理4(電磁波、粒子線照射によるドーピング)
- 後処理5(加熱、冷却処理)
- 後処理6(結晶の接合)
- 後処理7(エッチング、機械加工)
- 後処理8(電場、磁場、エネルギー線の利用)
- 後処理9(その他)
- 後処理10(装置、治具の特徴)
- 結晶の物理的、化学的性質等の評価、決定
- 用途
- 固相からの直接単結晶成長
- 単結晶成長プロセス・装置
- 圧力を加えるもの 例、水熱法
- 塩溶媒を用いるもの 例、フラックス成長
- るつぼ、容器またはその支持体
- ノ−マルフリ−ジングまたは温度勾配凝固
- ゾ−ンメルティングによる単結晶成長、精製
- 溶媒を用いるもの
- るつぼ、容器またはその支持体
- 誘導による溶融ゾ−ンの加熱
- 電磁波による加熱(集光加熱等)
- 制御または調整
- 材料またはヒ−タ−の移動機構、保持具
- 融液からの引出し(保護流体下も含む)
- 結晶化物質(原料)、反応剤の充填、添加
- 引出し方向に特徴
- 融液を入れるるつぼ、容器またはその支持体
- 融液、封止剤または結晶化した物質の加熱
- 制御または調整
- 融液、封止剤、結晶の回転、移動機構
- 種結晶保持器
- 種結晶
- 縁部限定薄膜結晶成長
- 液相エピタキシャル成長
- 特殊な物理的条件下での単結晶成長
- PVD
- イオン化蒸気の凝縮
- 分子線エピタキシャル法
- CVD
- エピタキシャル成長法、装置
- 製造工程
- 反応室
- 反応室または基板の加熱
- 基板保持体またはサセプタ
- 基板とガス流との関係
- ガスの供給・排出手段;反応ガス流の調節
- 制御または調節
- 基板
- 特殊な物理的条件下での単結晶成長