酸化雰囲気 の意味・用法を知る
酸化雰囲気 とは、触媒による排ガス処理 や触媒 などの分野において活用されるキーワードであり、新日鐵住金株式会社 や原子燃料工業株式会社 などが関連する技術を21,186件開発しています。
このページでは、 酸化雰囲気 を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
酸化雰囲気の意味・用法
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加熱炉から取り出した素焼きの状態の陶磁器を、加熱炉内に配置し 酸化雰囲気 あるいは還元雰囲気にて1300℃まで加熱し、同温度で数十分間維持した後に加熱を停止し、炉内を冷却する製造方法により、窯変調の色彩を持つ陶磁器が得られる。
- 公開日:2014/09/25
- 出典:貝殻を用いた無施釉の陶磁器の製造方法
- 出願人:島根県
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請求項1乃至3のいずれかに記載の前記セラミック部材にあって、その焼成体表面におけるX線回折により得られる最強ピーク位置(2θ)は、リファレンスとして 酸化雰囲気 焼成により立方晶酸化イットリウムに立方晶酸化セリウムを固溶した固溶体を粉砕して得られた粉末の粉末X線回折により得られる最強ピーク位置(2θ)よりも低角度側にシフトしていることを特徴とする耐蝕性部材。
- 公開日:2010/04/08
- 出典:耐蝕性部材およびその製造方法
- 出願人:TOTO株式会社
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検出対象ガスが 酸化雰囲気 であるか還元雰囲気であるかを判別できる空燃比検出装置を安価に提供する。
- 公開日:2009/10/22
- 出典:空燃比検出装置
- 出願人:矢崎総業株式会社
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低温および/又は 酸化雰囲気 でNOX浄化性能を奏し得る新規なNOX浄化用の触媒を提供する。
- 公開日:2011/05/06
- 出典:NOX浄化用触媒
- 出願人:トヨタ自動車株式会社
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また、潤滑油の使用方法は、POVの上昇が抑制されるように潤滑油に酸化防止剤を連続的、定期的または不定期的に添加しながら、 酸化雰囲気 下で潤滑油を使用するものである。
- 公開日:2002/09/18
- 出典:潤滑油の劣化防止方法および使用方法
- 出願人:住友化学株式会社
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還元雰囲気中処理工程で生じた母体結晶の酸素欠陥が、 酸化雰囲気 焼成により修復され発光輝度の高い蛍光体が得られる。
- 公開日:2004/09/30
- 出典:プラズマディスプレイ装置および蛍光体の製造方法
- 出願人:パナソニック株式会社
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上記 酸化雰囲気 帯は、鋼板温度が300〜850℃となる帯域に設けるのがよく、また、酸化雰囲気帯は外気吸引ブロワー及び吸引ブロワーを設けることによって構成するのがよい。
- 公開日:2003/12/03
- 出典:連続溶融亜鉛めっき用インライン焼鈍炉
- 出願人:JFEスチール株式会社
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内燃機関の排気通路に設けられて排気ガス中の有害物質を浄化する排気浄化用触媒と、該排気浄化用触媒に流入する排気ガスが還元雰囲気である状態の継続に関連して変化する指標を検出する還元雰囲気継続指標検出手段と、前記還元雰囲気継続指標が所定の基準値より還元雰囲気の継続側に外れたときに排気ガスを 酸化雰囲気 にする排気空燃比制御手段とを具えたことを特徴とする内燃機関の排気浄化装置。
- 公開日:2001/12/14
- 出典:内燃機関の排気浄化装置
- 出願人:三菱自動車工業株式会社
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坩堝内にコランダム単結晶原料と発色剤とを入れてO2及び/又はCO2を含む 酸化雰囲気 中で溶融させた後、その融液にコランダム単結晶の種子結晶をつけて該種子結晶を回転しながら引き上げることによりコランダム単結晶を育成する方法であって、前記種子結晶を回転しながら引き上げる際に前記酸化雰囲気中のO2及び/又はCO2の濃度を所定時間徐々に低下させる。
- 公開日:2004/05/27
- 出典:コランダム単結晶育成方法
- 出願人:京セラ株式会社
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酸化雰囲気 でHCを用いてNOxを還元させる選択還元型窒素酸化物還元触媒を用いると共に、リーン運転時のNOx浄化率を向上させる。
- 公開日:2003/11/19
- 出典:内燃機関の排気ガス浄化装置
- 出願人:本田技研工業株式会社
酸化雰囲気の問題点 に関わる言及
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触媒
- 技術主題
- 成分I特定物質
- 成分II無機物質
- 成分III金属元素
- 成分IV非金属元素
- 成分V有機物質及び配位子
- 使用対象反応I環境保全関連
- 使用対象反応II化学合成用(C1化学除く)
- 使用対象反応IIIエネルギーと化学原料関連
- 使用対象反応IVその他
- 使用形態
- 構造及び物性I‐I外形(それ自体)
- 構造及び物性I‐II外形に関する他の特徴
- 構造及び物性II微細構造
- 構造及び物性III 物性
- 構造及び物性IV その他
- 調製及び活性化I 目的
- 調製及び活性化II プロセス
- 調製及び活性化III材料及び条件(クレーム)
- 再生または再活性化
- 光触媒の技術主題
- 光触媒の成分
- 光触媒の活性化
- 光触媒の調製
- 光触媒の使用対象
- その他
- ゼオライト及びモレキュラーシーブ(MS)
- ゼオライト及びMSの合成
- ゼオライト及びMS触媒の特定(クレームのみ)
- ゼオライト及びMS触媒の処理・修飾
- 処理・修飾及び組成物の目的(目的記載個所)
- 触媒組成物の態様
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触媒
- 技術主題
- 成分1特定物質
- 成分2無機物質
- 成分3金属元素
- 成分4非金属元素
- 成分5有機物質及び配位子
- 使用対象反応1環境保全関連
- 使用対象反応II化学合成用(C1化学除く)
- 使用対象反応3エネルギーと化学原料関連
- 使用対象反応4その他
- 使用形態
- 構造及び物性1‐1外形(それ自体)
- 構造及び物性1‐2外形に関する他の特徴
- 構造及び物性2微細構造
- 構造及び物性III 物性
- 構造及び物性IV その他
- 調製及び活性化I 目的
- 調製及び活性化II プロセス
- 調製及び活性化III材料及び条件(クレーム)
- 再生または再活性化
- ゼオライト及びモレキュラーシーブ(MS)
- ゼオライト及びMSの合成
- ゼオライト及びMS触媒の特定(クレームのみ)
- ゼオライト及びMS触媒の処理・修飾
- 処理・修飾及び組成物の目的(目的記載個所)
- 触媒組成物の態様