連続処理 の意味・用法を知る
連続処理 とは、溝掘等特殊目的の掘削及び土砂の移送 や地盤中に固結物質を施すことによる地盤強化 などの分野において活用されるキーワードであり、日立建機株式会社 やコニカミノルタ株式会社 などが関連する技術を6,002件開発しています。
このページでは、 連続処理 を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
連続処理の意味・用法
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従って、特許文献1に記載のフィルム材の 連続処理 槽は、ウェブの搬送速度が速い場合に随伴流がウェブに与える影響を抑制できない点で不利であった。
- 公開日:2017/08/10
- 出典:ウェブ搬送装置
- 出願人:東レエンジニアリング株式会社
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前記優先順位指示部は、前記条件[1]を[2]に優先させる指示をする通常処理指示部と、 連続処理 を指定された複数の前記処理シンボルについて、前記条件[2]を[1]に優先させる指示をする連続処理指示部と、を有する請求項1に記載の動作指令生成装置。
- 公開日:2017/10/05
- 出典:動作指令生成装置、動作指令生成方法、コンピュータプログラム、及び処理システム
- 出願人:株式会社安川電機
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電力消費を抑えつつ異なる2以上の機能を続けて実行する 連続処理 の処理時間を短縮させた画像形成装置及びプログラムを提供する。
- 公開日:2012/02/02
- 出典:画像形成装置及びプログラム
- 出願人:富士ゼロックス株式会社
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前記第1キュー状態保持部は、連続して前記第1キューから取り出して実行した入出力処理の数である第1キュー 連続処理 数を保持し、前記切り替え条件は、前記第1キュー連続処理数の上限値である閾値であり、前記実行部は、前記第1キュー連続処理数が前記閾値未満である場合には前記第1キューから入出力処理を取得して実行し、前記第1キュー連続処理数が前記閾値に達した場合には前記第2キューから入出力処理を取得して実行することを特徴とする請求項3に記載の入出力処理装置。
- 公開日:2011/08/25
- 出典:入出力制御装置、入出力制御方法
- 出願人:日本電気株式会社
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一定の処理時間Tの真空処理を繰り返す動作個数m個の動作周期を、一真空処理の一処理開始時刻がT/mずつ異なるように設定し、基準とした動作条件の 連続処理 開始時刻から、他の動作周期の連続処理開始時刻を、遅れ時間(n・T+T/m)(nは1以上の整数)ずつ遅らせ、連続処理回数N枚の処理を行うと、動作状態から待機状態に変更し、クリーニング処理が終了した処理装置と交代させる。
- 公開日:2013/03/14
- 出典:成膜とクリーニングを行う真空処理方法
- 出願人:株式会社アルバック
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その結果、副生塩が炉壁にスケーリングし、ロータリーキルン内に副生塩が滞留し、 連続処理 できなかった。
- 公開日:2002/01/29
- 出典:有機物含有無機塩の精製方法及び食塩電解用精製塩
- 出願人:東ソー株式会社
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入力情報に基づいて、処理テープを送りながらこれに印刷を行う印刷処理部と、入力情報に基づいて、処理テープを送りながらこれに物理的加工を行う加工処理部と、を備え、印刷処理、加工処理および印刷加工処理を選択的に行い得ると共に、複数のラベルを連ねた連続ラベルを作成する 連続処理 が可能に構成されたラベル作成装置のラベル作成方法であって、印刷処理および加工処理では、連続処理を許容し、印刷加工処理では、連続処理を禁止する。
- 公開日:2006/10/26
- 出典:ラベル作成装置のラベル作成方法、およびラベル作成装置
- 出願人:セイコーエプソン株式会社
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基板の 連続処理 中の基板周辺部の温度の変化を小さくする。
- 公開日:2002/03/29
- 出典:半導体装置の製造方法および半導体装置の製造装置
- 出願人:株式会社日立国際電気
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前記分解サイクルの繰り返しを開始してから各分解サイクルで発生した残渣の量が前記装置本体からの回収を要する所定量に達するまでの 連続処理 サイクルにおいて、該連続処理サイクル内にて投入された生ゴミの投入量が予め定められた累計投入量に達した際に前記残渣が前記所定量に達する生ゴミ処理装置であって、前記連続サイクル内で投入された前記投入量を累計して連続処理内累計量として記憶する連続処理内累計量記憶手段と、前記連続処理内累計量が前記累計投入量に達した際に、これを報知する累計投入量知手段と、を備えたことを特徴とする請求項1記載の生ゴミ処理装置。
- 公開日:2005/03/17
- 出典:生ゴミ処理装置
- 出願人:中央電子株式会社
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下部走行体1上に旋回可能に設けた上部旋回体2に、バケット18を備えたフロント作業機構を設け、また下部走行体1側には、バケット18からの土砂が投入される投入部20と、スクリューコンベア23を設けた 連続処理 槽21及び排出手段22からなる処理ユニットを設けて、上部旋回体2側には、土質改良材供給手段5を設け、投入部20から投入された土砂を連続処理槽21で攪拌する間に、タンク50からフィーダ51を経てこの連続処理槽21の所定の位置に土質改良材を供給して、土砂と均一に混合させて、排出手段22から排出するようにしている。
- 公開日:1998/12/02
- 出典:掘削手段を備えた土質改良機械
- 出願人:日立建機株式会社
連続処理の問題点 に関わる言及
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被加工物を 連続処理 で放電加工する場合において、伸縮性を有する被加工物であっても、被加工物を伸長させずに放電加工処理を行うことができる、放電加工処理装置及び放電加工処理方法を提供することにある。
- 公開日: 2004/06/03
- 出典: 放電加工処理装置
- 出願人: グンゼ株式会社
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また、処理液補充方式でない 連続処理 の可能な写真感光材料処理装置もわずかに存在したが、この場合は、処理槽に貯留した処理液だけで処理を続行するので、処理量に応じて処理液の処理能力が低下し、処理結果が時と共に悪くなっていくことは避けられなかった。
- 公開日: 1994/10/21
- 出典: 写真感光材料処理装置
- 出願人: コニカミノルタ株式会社
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この処理方法によれば、黒鉛の粉砕などの前処理を行うことなく、固体の状態で酸化電解処理を施すことができる。また、電解処理によるため 連続処理 を行うことができ、多量の黒鉛固体廃棄物を簡単に処理できる。
- 公開日: 1999/07/30
- 出典: 黒鉛固体廃棄物の処理方法、放射性化物質回収方法並びに黒鉛固体廃棄物の処理装置
- 出願人: 株式会社東芝
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また、従来、接着性を向上するためのシリコーンゴム成形体の物理的表面処理方法としては、コロナ放電処理、低温プラズマ処理、プラズマ重合処理、火炎処理、紫外線処理、電子線処理、イオン注入処理などが知られているが、低温プラズマ処理、プラズマ重合処理、イオン注入処理は 連続処理 が困難であり、コロナ放電処理、紫外線処理は密着性向上効果の持続性に問題があった。電子線処理は、通常の照射では密着性向上効果が十分でなかった。
- 公開日: 2002/12/18
- 出典: シリコーンゴム成形体の製造方法
- 出願人: 信越化学工業株式会社
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一般にフッ素系樹脂材表面に無電解金属めっきを施す場合、フッ素系樹脂とめっき金属との密着性を高めるための前処理として、フッ素系樹脂材表面の親水性化処理が行われる。この場合、被処理材が長尺材であれば、被処理材の親水性化処理はバッチ処理ではなく 連続処理 で行われる。
- 公開日: 1997/03/25
- 出典: フッ素系樹脂長尺材の連続親水性化処理槽
- 出願人: 東京特殊電線株式会社
連続処理の特徴 に関わる言及
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被処理体の処理対象面に対して複数種類の処理を連続的に効率よく施すことができ、その複数種類の処理の組み合わせの変更や追加が可能であり、スムーズに 連続処理 が行える連続処理装置および連続処理方法を提供すること。
- 公開日: 2004/10/07
- 出典: 連続処理装置および連続処理方法
- 出願人: セイコーエプソン株式会社
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また、前述した発酵廃液の処理方法において、剪断式反応機は、断続的に発酵廃液を送給するバッチ処理式、継続的に発酵廃液を送給する 連続処理 式、双方の処理方式に用いることが可能である。
- 公開日: 1999/03/02
- 出典: 発酵廃液の処理方法
- 出願人: パスコエンジニアリング株式会社
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そのため、被処理物をバッチ処理する処理部と 連続処理 する処理部とが混在する場合、バッチ処理する複数の処理部を並設することで、バッチ処理する処理部での見掛上の処理時間をその処理部の数に応じて大幅に短縮できるから、全体のタクトタイムも短縮することができる。
- 公開日: 1998/05/22
- 出典: 処理装置
- 出願人: 芝浦メカトロニクス株式会社
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地下かん水の活性汚泥での処理は、活性汚泥と処理対象である地下かん水とを混合して処理する方法、活性汚泥を担体に固定化してこれに地下かん水を通水する方法などを利用でき、バッチ処理、 連続処理 、半連続処理など目的に応じた処理方法を選択できる。
- 公開日: 2010/03/04
- 出典: 地下かん水に含まれるアンモニアの処理方法
- 出願人: 関東天然瓦斯開発株式会社
連続処理の使用状況 に関わる言及
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通常、大型のオートクレーブで処理される医療技術、食品産業、等での多くの段階的処理に於て、バッチ式の製品処理方法であり、ながらある程度 連続処理 が可能なような処理方法及びその装置を得る。
- 公開日: 1995/07/11
- 出典: 処理媒体を使って塊の製品を多段階処理するための方法及びその方法を行う装置
- 出願人: フレセニウスアーゲー
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半導体装置の製造工程において、マスクとして使用されるレジスト膜や有機膜の除去にアッシング処理が用いられる。これまでアッシング処理は、エッチング処理後、エッチング処理装置とは別に専用のアッシング処理装置を用いて処理されてきた。しかし、処理時間短縮の観点から、エッチング処理とアッシング処理を同一の装置で 連続処理 する要求が高まってきた。
- 公開日: 2010/02/12
- 出典: プラズマ処理方法
- 出願人: 株式会社日立ハイテクサイエンス
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一方、プラスチック廃棄物の処理量が増大するにつれて、 連続処理 できる廃プラスチック加熱油化装置が必要不可欠になってきており、連続処理方式の廃プラスチック加熱油化装置が開発されている。
- 公開日: 1998/09/22
- 出典: 廃プラスチック加熱油化装置
- 出願人: 株式会社東芝
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