設定誤差 の意味・用法を知る
設定誤差 とは、交流電動機の制御一般 や光学的手段による測長計器 などの分野において活用されるキーワードであり、ルネサスエレクトロニクス株式会社 やJFEスチール株式会社 などが関連する技術を46件開発しています。
このページでは、 設定誤差 を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
設定誤差の意味・用法
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位相角θHVとdq軸直交座標系における一次電流の位相角とが同符号の場合、h軸誘起電圧誤差には軸ずれの影響が顕著に現れるので、電動機定数、特には一次抵抗の 設定誤差 に対しロバストな制御系を実現できる。
- 公開日:2010/09/09
- 出典:電動機制御装置
- 出願人:東芝シュネデール・インバータ株式会社
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このため、連続鋳造工程でのスラブ幅計算値もしくはスラブヤードでのローダー掴み幅の実測値を、設定計算のスラブ幅データの初期値として用いると、前記した連続鋳造する際に生じるスラブの幅変動、その後の冷却過程あるいは加熱過程で生じるスラブの幅変動が考慮されていないため、サイジングプレスの開度に 設定誤差 が生じる。
- 公開日:2010/09/09
- 出典:熱延鋼帯の圧延方法
- 出願人:JFEスチール株式会社
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ここで、電動機定数の 設定誤差 により、「制御の基準軸」の信号である位相指令θ**と「電動機の磁束軸」の信号である回転位相θ* の偏差である位相誤差Δθが発生すると、制御軸(dc−qc)から実軸(d−q)への座標変換行列は数(9)となる。
- 公開日:2006/08/31
- 出典:交流電動機の制御装置
- 出願人:ルネサスエレクトロニクス株式会社
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上記位置 設定誤差 補正を行ったのちに存在する各種欠陥検査装置と異物組成分析装置との間の残留位置設定誤差を予め計測した残留位置設定誤差2次元データ群を格納する手段を有し、上記被分析異物の組成を分析する際に、当該被分析試料を検査した欠陥検査装置の残留位置設定誤差2次元データを前記残留位置設定誤差2次元データ群から検索し、前記残留位置設定誤差2次元データに基づいて、所望位置における前記残留位置設定誤差の範囲に電子ビームを拡散照射あるいは走査照射することを特徴とする請求項2記載の異物組成自動分析装置。
- 公開日:1997/10/31
- 出典:異物組成自動分析装置及び異物組成自動分析方法
- 出願人:富士通株式会社
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フリンジスキャン干渉法において、FFT演算に用いるウインドウの 設定誤差 に起因する誤差を低減し、面形状を正確に計測すること、および、該計測機能を備えた形状計測装置を実現すること。
- 公開日:1994/10/21
- 出典:形状計測方法および装置
- 出願人:ルネサスエレクトロニクス株式会社
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このようにすれば、特性類似領域の 設定誤差 があっても高精度な影判定が可能となる。
- 公開日:2020/02/27
- 出典:影検出装置、影検出方法、影検出プログラム、学習装置、学習方法、及び学習プログラム
- 出願人:セコム株式会社
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弾性変形による寸法変化は、速度切換位置z1の 設定誤差 の原因になる。
- 公開日:2020/01/30
- 出典:基板処理装置および基板処理方法
- 出願人:東京エレクトロン株式会社
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光モジュールでは、VOAの減衰量を変更する場合、MEMSミラーの第2の軸を調整することになるが、 設定誤差 がある場合には、TOFの透過中心周波数がずれる場合もある。
- 公開日:2019/12/12
- 出典:光伝送装置及び制御方法
- 出願人:富士通オプティカルコンポーネンツ株式会社
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初期画像に対応する出力画像とクリア画像とを比較し、前記初期画像に対応する出力画像とクリア画像との間の誤差が 設定誤差 未満になるまで、ノイズリダクションネットワーク、対象抽出ネットワーク、およびディテール強化ネットワークのパラメータを調整することで、ノイズリダクションネットワーク、対象抽出ネットワーク、およびディテール強化ネットワークの訓練を完了した後、現在のパラメータをノイズリダクションネットワーク、対象抽出ネットワーク、およびディテール強化ネットワークのパラメータとする。
- 公開日:2019/12/12
- 出典:画像処理方法、画像処理装置および電子機器
- 出願人:北京曠視科技有限公司
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従来、前方車両を含む前方環境を認識する前方環境認識手段と、前方車両の走行軌跡を推定する走行軌跡推定手段と、前方車両のうち、自車両に設定された基準点に対する走行軌跡の車幅方向の誤差が最も小さくかつ誤差が 設定誤差 以下の前方車両を先行車として登録する先行車登録手段と、先行車の軌跡に基づいて自車両が走行すべき目標コースを設定可能な目標コース設定手段とを備える走行軌跡認識装置が開示されている(例えば、特許文献1参照)。
- 公開日:2019/11/21
- 出典:走行軌跡認識装置、走行軌跡認識方法、車両制御装置、および車両制御方法
- 出願人:三菱電機株式会社
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放射線を利用した材料分析
- 試料入射粒子(源),刺激(含意図外,直分析外)
- 利用,言及生起現象;分折手法(含意図外、直分析外)
- 試料出射粒子(含意図外,直分析外)
- 検出器関連言及
- 分光;弁別(E,λ;e/m;粒子)
- 信号処理とその周辺手段(測定出力提供とその精度向上関連
- 測定内容;条件;動作等関連変数,量ψ
- 表示;記録;像化;観察;報知等
- 制御;動作;調整;安定化;監視;切換;設定等
- 分析の目的;用途;応用;志向
- 対象試料言及(物品レベル)
- 試料形状言及
- 検出;定量;着目物質とその構成元素;関連特定状態等
- 測定前後の試料の動き
- 試料保特,収容手段;状態等
- 試料作成;調製;試料及び他部分に対する処理;措置等
- 機能要素;部品素子;技術手段要素等;雑特記事項その他