膜質 の意味・用法を知る
膜質 とは、薄膜トランジスタ や気相成長(金属層を除く) などの分野において活用されるキーワードであり、セイコーエプソン株式会社 やソニー株式会社 などが関連する技術を38,838件開発しています。
このページでは、 膜質 を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
膜質の意味・用法
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基本となるめっき液の組成を変更させることなく、これまでにない速度調整剤を任意の割合で添加することで、コバルト膜、コバルト合金膜、ニッケル膜、ニッケル合金膜の 膜質 を変化させることなく、めっき速度を上昇させることができる無電解めっき液の提供。
- 公開日:2015/08/27
- 出典:無電解めっき液
- 出願人:三菱瓦斯化学株式会社
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なお、ここで「 膜質 」とは、導体膜の品質を定性的に表したもので、クラックが無く被覆率(すなわち導体膜がそれが設けられた基材を覆っている割合)が高いほど膜質がよい。
- 公開日:2011/11/10
- 出典:レジネートペースト
- 出願人:株式会社ノリタケカンパニーリミテド
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スパッタ成膜室内に保持された基板の表面に、反応性スパッタ法により化合物薄膜を成膜する装置であって、前記スパッタ成膜室に、前記基板の表面に成膜される化合物薄膜の 膜質 を調整する膜質調整用ガスを前記基板の裏面に導入する第1の膜質調整用ガス導入手段を備える。
- 公開日:2010/06/03
- 出典:成膜装置及び成膜方法
- 出願人:株式会社アルバック
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製膜速度を増加させてもSiH2/SiH比が高くならず、 膜質 の悪化を防いで高い生産性を得ることができる真空処理方法及び真空処理装置を提供すること。
- 公開日:2008/09/11
- 出典:真空処理方法及び真空処理装置
- 出願人:三菱重工業株式会社
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これにより、レーザーが基板に均一に照射されるため、 膜質 をより均一にすることができる。
- 公開日:2007/01/25
- 出典:半導体装置の作製方法
- 出願人:株式会社半導体エネルギー研究所
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成膜される薄膜が所望の 膜質 を有するものであるかどうかをプロセス中に判断することができる薄膜成膜プロセスの監視方法および薄膜成膜装置を提供する。
- 公開日:2005/02/24
- 出典:薄膜成膜プロセスの監視方法および薄膜成膜装置
- 出願人:凸版印刷株式会社
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迅速に膜の有無や 膜質 を知ることができ、かつ、処理用ガス供給部材の状態を把握可能とする。
- 公開日:2005/03/31
- 出典:蒸着膜検査方法及び蒸着膜検査システム
- 出願人:東洋製罐グループホールディングス株式会社
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しかし、これはレジストパターン剥がれの抑制にある一定の効果は見られるものの、形成されたSOG膜の 膜質 を十分に改質するまでには至らなかった。
- 公開日:2005/07/28
- 出典:膜形成方法及び基板処理装置
- 出願人:株式会社東芝
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さらに詳しくは、磁気ディスク装置の信頼性を向上させるために、4nm以下の極薄膜保護膜の 膜質 と潤滑膜の材料、および潤滑膜厚との最適な組合わせを提供することである。
- 公開日:2003/10/24
- 出典:磁気ディスクの設計方法及び磁気ディスク装置の設計方法
- 出願人:株式会社HGSTジャパン
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膜質 としては、レジスト膜中の残存溶媒量が測定される。
- 公開日:2003/01/10
- 出典:基板処理装置および基板処理方法
- 出願人:株式会社SCREENホールディングス
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気相成長(金属層を除く)
- 成長法
- 成長層の組成
- 導入ガス
- 成長条件(1)成膜温度T 請求項+実施例に記載されている成膜温度を全て付与する(除く従来例)
- 成長条件(2)成膜時の圧力P 請求項+実施例に記載されている成膜時の圧力を全て付与する(除く従来例)
- 被成膜面の組成・基板の特徴・ダミー基板・マスク
- 目的
- 半導体素子等への用途
- 機能的用途
- 半導体成長層の構造
- 半導体層の選択成長
- 絶縁体成長層の構造・絶縁体層の選択成長
- 装置の形式(1)基板支持の形態・成膜中の基板の運動 図面+詳細な説明に例示されている形式をすべて付与する(除く従来例)
- 装置の形式(2)成膜室の形態 図面+詳細な説明に例示されている形式をすべて付与する(除く従来例)
- 成膜一般
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- 機械加工プロセスとの組み合わせ
- 他プロセスとの組合せ