磁場強度 の意味・用法を知る
磁場強度 とは、マイクロ波、NMR等による材料の調査 や磁気共鳴イメージング装置 などの分野において活用されるキーワードであり、ルネサスエレクトロニクス株式会社 やシグニファイホールディングビーヴィ などが関連する技術を12,430件開発しています。
このページでは、 磁場強度 を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
磁場強度の意味・用法
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被検体の表面または内部に存在する傷を探知する探傷装置であって、磁気発生手段と、前記磁気発生手段により生じた磁場の第1方向成分である第1 磁場強度 を計測する磁気センサと、を有し、前記磁気センサが、無傷であると予め判明している標準検体を前記被検体とした場合に、前記第1磁場強度の絶対値が最少になるよう前記磁気発生手段との相対位置が調整された探傷装置を提供する。
- 公開日:2017/08/31
- 出典:探傷装置および探傷方法
- 出願人:東京ガス・エンジニアリング株式会社
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検光子9を介した反射光によって被測定物8の色画像19の観測が可能であるとともに、該色画像19とカラーバー16等とを用いて被測定物8の 磁場強度 の定量的な表示又は測定が可能である。
- 公開日:2018/02/22
- 出典:磁気光学イメージングプレートを用いて磁場分布を定量的に色表示するイメージング装置及びイメージング方法
- 出願人:国立大学法人長岡技術科学大学
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...前記放射RF信号に対応して前記RFトランスデューサアレイの前記複数のコイルによって生成された検出RF信号を取得し、前記ローカルクロック信号の第1のインジケーションが、前記検出RF信号を取得した時間を指し示し、前記磁場に対応して前記磁場センサアレイの前記複数のフィールドセンサプローブによって生成された 磁場強度 信号を取得し、前記ローカルクロック信号の第2のインジケーションが、前記磁場強度信号を取得した時間を指し示し、且つ前記取得した検出RF信号と、前記取得した磁場強度信号と、前記ローカルクロック信号の前記第1及び第2のインジケーションとに基づいて、k空間情報を形成する、ことを有するプロセスを実行す...
- 登録日:2019/11/22
- 出典:RFトランスデューサアレイと磁場プローブアレイとを有するワイヤレス型RFコイル装置
- 出願人:シグニファイホールディングビーヴィ
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角度センサ10において、第一の磁気検知部は、回動軸3aからの距離が等しく互いに等間隔に配設された複数個の第一磁気検出素子11a〜11cと、それぞれの第一磁気検出素子11a〜11cで検出した位相の異なる 磁場強度 を重ね合わせることにより第一磁場強度を算出する第一演算部21と、を備え、第二の磁気検知部は、回動軸3aからの距離が等しく互いに等間隔に配設された複数個の第二磁気検出素子12a〜12cと、それぞれの第二磁気検出素子12a〜12cで検出した位相の異なる磁場強度を重ね合わせることにより第二磁場強度を算出する第二演算部22と、第一磁場強度と第二磁場強度との関係から、回転体3の回転角度を算出する回転...
- 公開日:2017/03/16
- 出典:角度センサ、及び、角度センサによる角度検出方法
- 出願人:下西技研工業株式会社
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車両の位置を定める方法であって、以下の処理工程、すなわち、車両(1)に配置された第1の磁場センサ(11)を用いて、第1の位置(A−i)において、磁場の少なくとも1つの第1の 磁場強度 を測定する工程(S01)と、前記第1の磁場センサ(11)から間隔を置いて前記車両(1)に配置された第2の磁場センサ(12)を用いて、第2の位置(B−i)において、前記磁場の少なくとも1つの第2の磁場強度を測定する工程(S02)と、少なくとも、測定された前記第1の磁場強度および前記第2の磁場強度に基づくデータと、前記磁場の所定の磁場情報との比較によって、前記車両(1)の位置データを定める工程(S03)と、前記位置データ...
- 登録日:2018/08/10
- 出典:車両の位置を定めるための方法、装置、およびシステム
- 出願人:ロベルト・ボッシュ・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング
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径方向及び/又は周方向の 磁場強度 に基づき回転角度を精確に検出することが可能な回転角度検出装置を提供する。
- 公開日:2017/09/14
- 出典:回転角度検出装置
- 出願人:TDK株式会社
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異なる 磁場強度 により撮影されたターゲットのMRI画像を結合させることによって、高い空間分解能を有するいくつかの色の高コントラスト画像が得られるMRI走査アセンブリ及び方法を提供する。
- 公開日:2016/12/22
- 出典:MRI走査アセンブリ及びターゲットのMRI画像を向上させる方法
- 出願人:アスペクトイメージングリミテッド
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前記第1通過検出部は、前記振動子体の揺動方向上に所定長さを有するマグネットと、前記マグネットによる 磁場強度 を計測する磁気センサと、を有することを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の超音波診断装置。
- 公開日:2015/01/29
- 出典:超音波診断装置および超音波探触子
- 出願人:コニカミノルタ株式会社
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具体的には、傾斜磁場コイル103における3つのコイルは、傾斜磁場電源105から個別に電流供給を受けて、X、Y、Zの各軸に沿って 磁場強度 が変化する傾斜磁場を発生させる。
- 公開日:2020/03/26
- 出典:磁気共鳴イメージング装置
- 出願人:東芝メディカルシステムズ株式会社
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傾斜磁場コイル103は、互いに直交するX、Y、及びZの各軸に対応する3つのコイルが組み合わされて形成されており、これら3つのコイルは、傾斜磁場電源104から個別に電流の供給を受けて、X、Y、及びZの各軸に沿って 磁場強度 が変化する傾斜磁場を発生する。
- 公開日:2020/03/26
- 出典:磁気共鳴イメージング装置及び静磁場磁石ユニット
- 出願人:東芝メディカルシステムズ株式会社
磁場強度の原理 に関わる言及
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結晶、結晶のための後処理
- 目的・対象とする結晶の形態
- 結晶自体の特徴(クレーム)
- 材料1(元素状、合金)
- 材料2(酸化物)
- 材料3(複合酸化物)
- 材料4(酸素酸塩)
- 材料5(〜化物)
- 材料6(有機物)
- 固相成長
- 液相成長1(常温で液体の溶媒を使用する)
- 液相成長2(溶融溶媒を使用するもの)CG優先
- 液相成長3(融液の凝固によるもの)
- 液相成長4(ゾーンメルティング)
- 液相成長5(融液からの引き出し)
- 液相成長6(液相エピタキシャル)
- 気相成長1(蒸着、昇華)
- 気相成長2(CVD)
- 結晶成長共通1(成長条件の制御)固相成長を除く
- 結晶成長共通2(不純物のドーピング)
- 結晶成長共通3(原料の調製、原料組成)
- 結晶成長共通4(種結晶、基板)
- 結晶成長共通5(成長前の基板の処理、保護)
- 結晶成長共通6(基板への多層成長)
- 結晶成長共通7(装置、治具)
- 結晶成長共通8(検知、制御)
- 結晶成長共通9(特定の成長環境の付加)
- 後処理1(拡散源、その配置)
- 後処理2(後処理のための基板表面の前処理)
- 後処理3(気相からのドーピング)
- 後処理4(電磁波、粒子線照射によるドーピング)
- 後処理5(加熱、冷却処理)
- 後処理6(結晶の接合)
- 後処理7(エッチング、機械加工)
- 後処理8(電場、磁場、エネルギー線の利用)
- 後処理9(その他)
- 後処理10(装置、治具の特徴)
- 結晶の物理的、化学的性質等の評価、決定
- 用途
- 固相からの直接単結晶成長
- 単結晶成長プロセス・装置
- 圧力を加えるもの 例、水熱法
- 塩溶媒を用いるもの 例、フラックス成長
- るつぼ、容器またはその支持体
- ノ−マルフリ−ジングまたは温度勾配凝固
- ゾ−ンメルティングによる単結晶成長、精製
- 溶媒を用いるもの
- るつぼ、容器またはその支持体
- 誘導による溶融ゾ−ンの加熱
- 電磁波による加熱(集光加熱等)
- 制御または調整
- 材料またはヒ−タ−の移動機構、保持具
- 融液からの引出し(保護流体下も含む)
- 結晶化物質(原料)、反応剤の充填、添加
- 引出し方向に特徴
- 融液を入れるるつぼ、容器またはその支持体
- 融液、封止剤または結晶化した物質の加熱
- 制御または調整
- 融液、封止剤、結晶の回転、移動機構
- 種結晶保持器
- 種結晶
- 縁部限定薄膜結晶成長
- 液相エピタキシャル成長
- 特殊な物理的条件下での単結晶成長
- PVD
- イオン化蒸気の凝縮
- 分子線エピタキシャル法
- CVD
- エピタキシャル成長法、装置
- 製造工程
- 反応室
- 反応室または基板の加熱
- 基板保持体またはサセプタ
- 基板とガス流との関係
- ガスの供給・排出手段;反応ガス流の調節
- 制御または調節
- 基板
- 特殊な物理的条件下での単結晶成長