短波長 の意味・用法を知る
短波長 とは、光学フィルタ やホトレジスト感材への露光・位置合せ などの分野において活用されるキーワードであり、ソニー株式会社 や富士通株式会社 などが関連する技術を3,836件開発しています。
このページでは、 短波長 を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
短波長の意味・用法
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短波長 赤外帯域の特定の部分の取り込みをなくすように修正がなされる、短波長赤外帯域において画像を取り込むためのカメラが提供される。
- 公開日:2015/06/11
- 出典:帯域制約を有する短波長赤外線カメラ
- 出願人:センサーズアンリミテッドインコーポレイテッド
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反射層12と半透過反射層20間の光路長が発光領域ごとに調整された共振構造を有し、発光層19が第1の波長域と第1の波長域よりも 短波長 側の第2の波長域との内部発光を行う発光装置E1にて、第1波長域の発光ピーク波長λLINと、第1波長域の共振ピーク波長λLCと、第1波長域の出力波長λLOUTが概ね一致し、かつ、第2波長域の発光ピーク波長λSINと、第2波長域の共振ピーク波長λSCと、第2波長域の出力波長λSOUTは、λSIN>λSOUT>λSCという関係を満たし、発光ピーク波長λSINの発光強度と共振ピーク波長λSC発光強度との積で表される出力波長λSOUTの発光強度が、出力波長λLOUTの発光強度...
- 公開日:2015/03/12
- 出典:発光装置および電子機器
- 出願人:セイコーエプソン株式会社
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近赤外領域において予め設計した設計領域のみの光を透過させるバンドパスフィルタであって、透光性基板に、前記設計領域とともに該設計領域から 短波長 側に離間した可視光領域の光を透過させる膜が積層された透過多層膜と、前記可視光領域の光を遮光する膜が積層された遮光多層膜と、が備えられていることを特徴とするバンドパスフィルタ。
- 公開日:2015/10/22
- 出典:バンドパスフィルタ
- 出願人:株式会社大真空
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検出部121は、半導体レーザ110からの出射光の波長の 短波長 側への移動を検出する。
- 公開日:2015/06/22
- 出典:半導体レーザ装置、光アンプおよび判定方法
- 出願人:富士通株式会社
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集光された励起レーザー光により励起されて、該励起レーザーと同軸上に伝搬する非線形波長変換された高次高調波光などの 短波長 コヒーレント光と上記励起レーザー光を含む多波長コヒーレントビームの中から短波長コヒーレント光のみ高効率で取り出す。
- 公開日:2013/09/30
- 出典:短波長コヒーレント光源及び透過型の減光機構
- 出願人:公立大学法人兵庫県立大学
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明るさが10cd/m2以下若しくは10cd/m2以下になり得る空間に設置される照明装置10に備えられる発光部12は、第2のピーク波長の 短波長 側の半値が暗所視感度のピーク波長より短波長側に存在し、高さ2〜15mに設置されて照射面における平均水平面照度が1〜30lxとなるように構成される。
- 公開日:2012/09/27
- 出典:照明装置
- 出願人:パナソニックIPマネジメント株式会社
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方法、製品、及びLEDタイプ光源における 短波長 のブロック要素であって、ブロック要素は、その表面上に顔料が分布された基板からなり、前記顔料は380nm〜500nmの短波長の選択的吸光を1〜99%の範囲で可能にするような光学密度を有する。
- 公開日:2016/01/28
- 出典:LEDタイプ光源における短波長のブロック要素
- 出願人:ウニベルシダコンプルテンセデマドリード
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網膜はいくつかの方策でそれ自体を 短波長 から自動的に防護し、すなわち、短波長に敏感な光受容体が黄斑窩(macular depression)において存在しないような光受容体の不均質分布によって、及び同じ領域内に存在する防護作用も発揮する黄色色素(ルテイン、ゼアキサンチン、及びメソゼアキサンチン)の作用によって防護する。
- 公開日:2016/03/31
- 出典:可視スペクトルの青色及び紫色光によってもたらされる眼損傷の変動の検出及び定量化のための装置及び方法
- 出願人:ウニベルシダコンプルテンセデマドリード
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可視光の 短波長 側の光に励起されて、発光強度の高い遠赤色発光の蛍光体及びそれを用いた発光装置を提供することを目的とする。
- 公開日:2013/12/19
- 出典:遠赤色発光蛍光体及びそれを用いた発光装置
- 出願人:日亜化学工業株式会社
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半導体ウェハに対する回路パターンの転写を阻害するデブリを発生させることなく、半導体ウェハに高集積化した回路を形成するのに最適な 短波長 の光を発生させることのできる半導体リソグラフィ用光源装置を提供することを課題とする。
- 公開日:2012/04/19
- 出典:半導体リソグラフィ用光源装置
- 出願人:学校法人関西大学
短波長の原理 に関わる言及
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さらに、以下の実施例では適用例として、励起光として赤外光を発光光として可視光で説明するが、発光光の波長が励起光の波長より 短波長 側であれば、赤外光、可視光、紫外光のどの帯域であってもかまわないことは言うまでもない。
- 公開日: 1994/05/20
- 出典: 画像処理装置
- 出願人: キヤノン株式会社
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本手段においては、長波長である励起光は、表面側に配置された励起光の反射防止部分により吸収されるので、励起光の反射が小さく抑えられる。一方、 短波長 である露光光は、励起光反射防止部分を透過し、露光光反射部分に到達して反射される。
- 公開日: 2007/04/05
- 出典: 多層膜反射鏡及びEUV露光装置
- 出願人: 株式会社ニコン
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本手段においては、 短波長 である露光光は、表面側に配置された露光光反射部分により反射される。一方、長波長である励起光は、露光光反射部分を透過し、励起光の反射防止部分に到達して吸収されるので、励起光の反射が小さく抑えられる。
- 公開日: 2006/08/17
- 出典: 多層膜反射鏡
- 出願人: 株式会社ニコン
短波長の問題点 に関わる言及
短波長の特徴 に関わる言及
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赤色光R、黄色光Y、長波長緑色光LG、 短波長 緑色光SGおよび青色光Bは、反射型液晶ライトバルブあるいは透過型液晶ライトバルブにより、赤色変調光RM、黄色変調光YM、長波長緑色変調光LGM、短波長緑色変調光SGMおよび青色変調光BMに変換される。
- 公開日: 2008/05/01
- 出典: 画像表示装置
- 出願人: 日本放送協会
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このタンデム型の薄膜光電変換装置では、 短波長 の光を非晶質型光電変換ユニットにより効率よく吸収し、かつ長波長の光を結晶質型光電変換ユニットで吸収することができるため、光電変換効率を著しく改善することができる。
- 公開日: 2000/09/14
- 出典: タンデム型の薄膜光電変換装置の製造方法
- 出願人: テクノポリマー株式会社
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このため、従来、磁気記録媒体の磁気記録層の厚さ方向の磁化により記録を行う垂直磁気記録方式が提案されている。垂直磁気記録方式によれば、記録密度が高密度になるに従い減磁界が小さくなることから、特に高密度記録、 短波長 記録において上述の面内長手方向磁化による記録よりも優れていることが知られている。
- 公開日: 1994/01/28
- 出典: 磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体製造装置
- 出願人: ソニー株式会社
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ここでは、反射型色表示素子を可視光より 短波長 の電磁波を干渉反射させる反射型電磁波空間変調素子として利用するものであり、ここでは反射型色表示素子を反射型電磁波空間変調素子と称して説明する。
- 公開日: 2005/07/21
- 出典: 反射型色表示素子およびその製造方法、ならびに該表示素子を備えた情報表示装置
- 出願人: 富士フイルム株式会社
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このように、光が入射されるガラス基板の面から順に非晶質の光電変換ユニットと多結晶の光電変換ユニットを形成することにより、 短波長 の光を非晶質光電変換層で効率よく吸収し、かつ長波長の光を多結晶光電変換層で吸収することができるので、光電変換効率を著しく改善することができる。
- 公開日: 2001/01/12
- 出典: 薄膜光電変換装置
- 出願人: 株式会社カネカ
短波長の使用状況 に関わる言及
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近年の磁気記録媒体は、高記録密度であることが要求され、 短波長 記録特性に優れた磁気記録媒体が要求されるようになってきている。磁気記録媒体としては、磁性層単層の磁気記録媒体と、非磁性層と磁性層を併せ持つ重層磁気記録媒体とがあるが、いずれの磁気記録媒体も高記録密度である磁気記録媒体を得るための手段の一つとして、磁性層の表面を平滑にすることが行われている。
- 公開日: 2002/01/25
- 出典: 磁気記録媒体
- 出願人: TDK株式会社
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近年、この分野においては、記録の高密度化、記録波長の 短波長 化が進められており、上記塗布型の磁気記録媒体においても、そのような高密度記録化、短波長記録化に対応する特性を有することが求められるようになっている。
- 公開日: 1998/12/18
- 出典: 磁気記録媒体及びその製造方法
- 出願人: ソニー株式会社
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半導体レーザ
- 半導体レーザの構造(垂直共振器を除く)−(1)
- 半導体レーザの構造(垂直共振器を除く)−(2)
- 垂直共振器を有するレーザの構造
- モノリシックな集積(同じ成長基板上に複数の素子を備えたもの)
- 半導体の積層方向の構造−1
- 半導体の積層方向の構造−2
- 活性層の材料系−基板材料
- 不純物に特徴があるもの
- 電極構造・材料に特徴があるもの
- 被覆構造・材料に特徴があるもの
- 製造方法1
- 製造方法2
- 課題・目的
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- モジュール・パッケージのタイプ(典型的なタイプを抽出)
- マウント・モジュール・パッケージにおける目的
- LDチップのマウント
- パッケージ・光モジュールの構成
- 発明の特徴となっている組合せ光学要素(LDチップ外)
- 駆動におけるレーザーのタイプ
- 用途(駆動)
- 駆動において特徴となる目的
- 安定化制御(主に検知・帰還制御)
- 駆動制御
- 異常対策
- 回路構成に特徴があるもの
- 被試験・被検査形状
- 試験・検査する項目
- 試験・検査において特徴と認められる点
- 試験・検査の内容
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半導体の露光(電子、イオン線露光を除く)
- 半導体の露光の共通事項
- 紫外線,光露光の種類
- 紫外線,光露光用光源
- 光学系
- ステージ,チャック機構,及びそれらの動作
- ウェハ,マスクの搬送
- 露光の制御,調整の対象,内容
- 検知機能
- 検知機能の取付場所
- 制御,調整に関する表示,情報
- 位置合わせマーク
- 位置合わせマークの配置
- 位置合わせマークの特殊用途
- 位置を合わせるべき2物体上のマーク
- 位置合わせマークの光学的検出
- 検出用光学系
- 位置合わせマークの検出一般及び検出の補助
- X線露光
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- X線露光用マスク
- レジスト塗布以前のウェハの表面処理
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- 湿式現像,リンス
- ドライ現像
- レジスト膜の剥離
- 多層レジスト膜及びその処理
- 光の吸収膜,反射膜