着工 の意味・用法を知る

吸 着工 程において昇圧された吸着塔Ａ１の圧力を用いて、脱着工程において、オフガスを回収する減圧路Ｌ３ａを設けるとともに、減圧路Ｌ３ａに第一オフガスタンクＴ３ａを設け、吸着塔Ａ１を真空ポンプＰ４でさらに減圧吸引してオフガスを回収する真空減圧路Ｌ４を設けるとともに、真空減圧路Ｌ４に第二オフガスタンクＴ４ａを設け、真空減圧路Ｌ４における真空ポンプＰ４の上流側にバッファタンクＴ４ｂを設けるとともに、吸着塔Ａ１からバッファタンクＴ４ｂに至る流路に減圧弁Ｖ４ａを設けた。

• 公開日：2017/08/31
• 出典：圧力変動吸着式水素製造装置の運転方法
• 出願人：大阪瓦斯株式会社

着色インク組成物の成分を凝集させることができる凝集剤を含む反応液を、被記録媒体Ｆへ、凝集剤の付着量が１００〜１５００ｎｍｏｌ／ｉｎｃｈ2で付着させて、記録領域Ｓ１を形成する反応液付 着工 程と、反応液の付着から３０秒以内に、色材及び樹脂を含む着色インク組成物を記録領域Ｓ１へ付着させて、記録領域Ｓ２を形成する着色インク組成物付着工程と、を有する、記録方法。

• 公開日：2016/04/28
• 出典：記録方法
• 出願人：セイコーエプソン株式会社

インク非吸収性あるいはインク低吸収性の記録媒体１へ、着色インク組成物を凝集または増粘させる反応剤を０．１〜０．９ｍｏｌ／ｋｇの含有量で含む反応液を、反応液の付着量を１．９ｍｇ／ｉｎｃｈ2以下としてインクジェット法により液滴として吐出して付着させる反応液付 着工 程と、反応液を付着させた記録媒体１へ、着色インク組成物を付着させる着色インク組成物付着工程と、を備え、反応液の付着の終了から前記着色インク組成物の付着の開始までの時間が３０秒以内であり、反応液付着工程から着色インク組成物付着工程までの記録媒体１の表面温度が３８℃以下である。

• 公開日：2016/12/28
• 出典：記録方法及び記録装置
• 出願人：セイコーエプソン株式会社

加硫成形されたゴムブッシュの中空孔の周面に、加硫接着剤を塗布する塗布工程と、スタビライザバーの被接着部を加熱する加熱工程と、ゴムブッシュの加硫接着剤が塗布された中空部を、加熱されたスタビライザバーの被接着部に外嵌する嵌合工程と、挟圧装置でゴムブッシュを径方向に挟圧して、ゴムブッシュをスタビライザバーの被接着部へ外嵌固着する固 着工 程とを有する。

• 公開日：2016/04/11
• 出典：ゴムブッシュ付きスタビライザバーの製造方法
• 出願人：三菱製鋼株式会社

（ａ）〜（ｃ）からなる群から選ばれる１種若しくは２種以上のシーケンス単位を２つ以上、又はシーケンス単位（ｃ）を１つ有し、センター材を転動させながら、油付 着工 程及び水付着工程によって、センター材上で液状又は半固形状の油性食品原料２ａと、水性液３とを接触させて、油性食品原料２ａと水性液３との乳化組成物４をセンター材１上に形成させる。（ａ）油付着工程の後に水付着工程を行い、センター材１上に乳化組成物４を形成する（ｂ）水付着工程の後に油付着工程を行い、センター材１上に乳化組成物４を形成する（ｃ）油付着工程と水付着工程を同時に行い、センター材１上に乳化組成物４を形成する

• 公開日：2016/07/11
• 出典：被覆食品の製造方法
• 出願人：森永製菓株式会社

濾布１０の製造方法は、濾布本体１１が袋状である場合には、濾布本体１１の外面１１ａのみに排ガス浄化用触媒形成用組成物を含むスラリーを付着させ、濾布本体１１が筒状である場合には、濾布本体１１の内面１１ｂのみに排ガス浄化用触媒形成用組成物を含むスラリーを付着させるスラリー付 着工 程と、濾布本体１１に付着させたスラリー中の分散媒を除去して、排ガス浄化用触媒を含む触媒層１２を濾布本体の外面１１ａ又は内面１１ｂのみに形成する触媒層形成工程とを有する。

• 公開日：2014/09/22
• 出典：濾布の製造方法
• 出願人：三菱重工環境・化学エンジニアリング株式会社

脱 着工 程の吸着塔の内部を真空ポンプにより大気圧未満に減圧する。

• 公開日：2016/10/06
• 出典：ヘリウムガスの精製方法および精製システム
• 出願人：住友精化株式会社

インク組成物を、付着量が１０〜３０ｍｇ／ｉｎｃｈ２となるように布帛へ付着させる第１の付 着工 程と、前記インク組成物を、付着量が９０〜２５０ｍｇ／ｉｎｃｈ２となるように布帛へ付着させる第２の付着工程と、を有し、前記インク組成物が顔料と樹脂分散体を含み、前記樹脂分散体に含まれる樹脂の含有量が、前記顔料１質量部に対して、０．５〜２．５質量部である、インクジェット記録方法。

• 公開日：2015/05/07
• 出典：インクジェット記録方法
• 出願人：セイコーエプソン株式会社

...処理容器の内部に設けられた静電チャックに被処理体が載置されていない状態で、Ａｒ、Ｈｅ、Ｏ２及びＮ２の少なくともいずれか一つを含む処理ガスのプラズマを生成し、該プラズマ中のイオンによりＳｉを含む部材をスパッタすることによって、Ｃ及びＦを含む反応生成物が付着した前記静電チャックにＳｉ含有物を付着させる付 着工 程と、前記処理容器の内部に前記被処理体が搬入された場合に、前記Ｓｉ含有物が堆積した前記静電チャックによって前記被処理体を吸着する吸着工程と、前記被処理体をプラズマ処理するプラズマ処理工程と、前記Ｓｉ含有物が付着した前記静電チャックからプラズマ処理された前記被処理体を離間させる離間工程とを含む。

• 公開日：2015/11/12
• 出典：プラズマ処理方法
• 出願人：東京エレクトロン株式会社

脱 着工 程として、単位処理期間の初期において、吸着塔１の内部ガスをオフガスとしてオフガスタンクＴに排出する減圧工程を行い、単位処理期間の中期において、負圧状態に調整された真空タンクＳにて、吸着塔１の内部ガスを吸引するタンク吸引工程、及び、真空ポンプＰにて吸着塔１を吸引するポンプ吸引工程を順次行い、単位処理期間の終期において、真空ポンプＰにて真空タンクＳを吸引作用して、真空タンクＳ内のオフガスの排出及び真空タンクＳの負圧状態への調整を行う。

• 公開日：2015/02/26
• 出典：圧力変動吸着式水素製造方法
• 出願人：大阪瓦斯株式会社