相対運動 の意味・用法を知る

転動体の代わりに、ブラシ部材が設けられていてもよい。ブラシ部材は、被加工材を支持すると同時に、当接部材及び被加工材の、被加工材主平面に対して平行な 相対運動 を許可する。

• 公開日： 2010/04/02
• 出典： 板状の被加工材、特に金属薄板を加工する機械、被加工材を加工する機械のための工具セット、ねじフライス削り工具アッセンブリ、及びねじフライス削り工具の使用
• 出願人： トルンプフヴェルクツォイクマシーネンゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツングウントコンパニーコマンディートゲゼルシャフト

また、被検体の周囲にある円柱又は円柱の一部の周りの電磁波を測定するために、アーチ、アーチの一部又は円柱の一部の形のプローブネットワークを利用して、プローブネットワークの平面に対して垂直な上記被検体の 相対運動 を生じさせることも知られている。

• 公開日： 2011/09/22
• 出典： 電磁プローブネットワークと被検体との相対的な位置を調整する装置、及び、電磁プローブネットワークを備えた被検体の少なくとも１つの電磁波特性を測定する装置
• 出願人： マイクロウェーブヴィジョン

さらなる実施態様において、走査装置は、別の軸を中心にして回転可能または枢動可能であるように構成されるため、走査装置と試料収容装置との間の 相対運動 が、走査装置の回転によって実現される。走査装置が静止方式で構成される場合には、別の軸を中心にした試料収容装置の回転も考えられる。

• 公開日： 2001/08/10
• 出典： 複数の試料の光学走査装置
• 出願人： ライカマイクロシステムズハイデルベルクゲーエムベーハー

化学的機械的研磨を行う研磨装置は、研磨パッドからなる研磨面を有する研磨テーブルと、半導体ウエハを保持するための研磨ヘッド等を備えている。このような研磨装置を用いて半導体ウエハの研磨を行う場合には、研磨ヘッドにより半導体ウエハを保持しつつ、この半導体ウエハを研磨テーブルに対して所定の圧力で押圧する。このとき、研磨テーブルと研磨ヘッドとを 相対運動 させることにより半導体ウエハが研磨面に摺接し、半導体ウエハの表面が平坦かつ鏡面に研磨されることとなる。

• 公開日： 2007/03/01
• 出典： 研磨ヘッド、研磨装置及び研磨工具
• 出願人： 株式会社東芝

好適な実施例によれば、複数の要素の 相対運動 が減衰させられるように、複数の要素と減衰部材の間で接触するように、第一群の要素の中の要素と第二群の要素の中の要素との間において少なくとも一つの減衰部材が配置されている。

• 公開日： 2011/07/21
• 出典： 構造の運動を減衰させるための摩擦ダンパー
• 出願人： ダンプテックアンパーツゼルスカブ

磁場中で電気めっきまたは無電解めっきを行うと、めっき溶液中もしくは界面において流れる電解電流により、ローレンツ力が生じ、その結果、めっき溶液と被めっき材との間に 相対運動 が生じる。

• 公開日： 2002/03/27
• 出典： 分散材磁場めっき方法と分散材磁場共析めっき方法
• 出願人： 埼玉県

上記のように、研磨テーブルの研磨面と基板の被研磨面の 相対運動 により生じる圧力差で研磨液供給口から研磨液を供給するので、研磨に必要なだけの研磨液が供給されることになり、研磨液の消費量を大幅に削減できる。

• 公開日： 2002/12/20
• 出典： 研磨装置
• 出願人： 株式会社荏原製作所

また、上記研磨粒子として硬度が高いものを用いるほど、一般的に上記研磨液において上記研磨粒子の沈降速度が速くなる傾向がある。研磨作業中に上記研磨粒子が沈降してしまうと、上記研磨を行うための研磨装置に備えられた定盤あるいは研磨布に上記研磨粒子が固定されてしまう。すると、上記研磨粒子が研磨対象物に対して過度に 相対運動 させられることとなる。このようなことでは、上記研磨対象物の研磨面に研磨キズが生じ、鏡面状態とすることが困難であった。

• 公開日： 2008/01/10
• 出典： 研磨液、その製造方法、および研磨方法
• 出願人： 日鉄住金精密加工株式会社

被加工物と加工電極とを互いに近接または接触させ、液体の存在下で、被加工物と加工電極との間に電圧を印加しつつ、両者を 相対運動 させて加工を行う電解加工方法であって、被加工物と加工電極との間の相対速度を加工初期では速く、加工後期では遅くする。

• 公開日： 2007/11/01
• 出典： 電解加工方法
• 出願人： 株式会社荏原製作所

磁気ブラシあるいは研磨対象が回転動作することにより、両者間の 相対運動 により磁気ブラシが研磨対象の表面を接触した状態で移動する。その結果、研磨対象の表面の凹凸は研磨粒子を伴う磁気ブラシが研磨し、より平滑な表面を得ることができ、非接触の流体研磨が行える。

• 公開日： 2008/12/04
• 出典： フィルム状の対象物の表面処理のための柱状バイトおよびそれを用いた表面処理装置
• 出願人： ＦＤＫ株式会社

体の皮膚、筋肉、靱帯、および腱のまさに下に、固有受容体として知られる受容体がある。当業者に明らかなように、固有受容体は、これらの受容体の近傍にある皮膚の部分の間の 相対運動 を検知した後、またはその上の他の触感を検出した後、それらに関連する筋肉における増加した緊張を開始することができる。

• 公開日： 2014/05/15
• 出典： 関節のためのサポート器具
• 出願人： アディダスインターナショナルマーケティングベーヴェー

ビームカッティング技術においては、カッティングビームが、カッティング装置と材料の間の 相対運動 において、材料の上面から材料の底面まで遅れをとることが課題である。これは、装置がその動きを停止して、そのときのビームを旋回させた場合、その材料は、その切断部の終点を通って完全に切断されないであろうことを意味する。

• 公開日： 2014/06/19
• 出典： カッティングするための制御ルールおよび変数を使用して１つの材料からいくつかの部材をマシンカッティングするための方法、システムおよびコンピュータプログラム
• 出願人： トモロジックアーベー

流体の流れによって引き起こされた膜の振動は、導電体と印加磁場との間に 相対運動 を引き起こす。この相対運動は、導電体に印加される磁場の強さに変化をもたらし、この導電体に印加される磁場の強さの変化は、導電体に電流の流れを生じさせる。

• 公開日： 2010/04/15
• 出典： 流体誘発振動を利用した発電機
• 出願人： ハムディンガーウインドエナジーエルエルシー

このような既設の下水道管とマンホールとの接続部における可撓化を図るため、該接続部において下水道管とマンホールの躯体との間にそれらの 相対運動 を許す弾性変形可能の止水材料を配置することが提案されている。

• 公開日： 2002/01/31
• 出典： 管とマンホールとの接続部を可撓化する方法および該方法の実施に使用する装置
• 出願人： 長野油機株式会社

光学的な位置測定装置は、長さおよび角度の測定のために使用される。これら光学的な位置測定装置は、特に、加工されるべき加工材料の関する工具の 相対運動 の測定のために加工機械において、ロボット、座標測定機械において、および加えて、半導体工業においても使用される。

• 公開日： 2007/03/29
• 出典： 光学的な位置測定装置の走査ユニット、および光学的な位置測定装置
• 出願人： ドクトル・ヨハネス・ハイデンハイン・ゲーエムベーハー

機械部品間の接触面の接触状態を監視し、異常な接触状態を検出することが要望されている。特に、摺動や転動を伴なって接触しながら 相対運動 する機械部品間の接触面においては、異常磨耗や装置の破損等を未然に防止するため、その接触状態を適切に監視することが要求されている。

• 公開日： 2003/12/03
• 出典： 相対運動する機械部品の接触面の異常検出装置およびシステム
• 出願人： ルネサスエレクトロニクス株式会社