混酸 の意味・用法を知る
混酸 とは、その他の電気的手段による材料の調査、分析 やサンプリング、試料調製 などの分野において活用されるキーワードであり、信越半導体株式会社 や三菱マテリアル株式会社 などが関連する技術を479件開発しています。
このページでは、 混酸 を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
混酸の意味・用法
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[1]骨材とフッ酸及び硝酸を含む第一の 混酸 とを混合し、前記骨材を分解した後、前記第一の混酸の少なくとも一部を蒸発させることにより、前記骨材の分解物を得る分解工程と、前記分解物と過塩素酸を混合し、得られた混合液を加熱し、前記混合液から揮発成分の少なくとも一部を蒸発させることにより、前記混合液の濃縮物を得る濃縮工程と、前記濃縮物とホウ酸及び硝酸を含む第二の混酸とを混合し、前記濃縮物を溶解する溶解工程と、を有することを特徴とする骨材の元素分析方法。
- 公開日:2017/06/29
- 出典:骨材の元素分析方法
- 出願人:清水建設株式会社
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この製造方法は、濃硫酸と濃硝酸とを10:90〜50:50の体積比で含む 混酸 中に超砥粒を分散させて加熱する混酸加熱処理工程(ステップS10)と、混酸加熱処理を施した超砥粒を含むめっき液に基材を浸漬してめっき処理を施すことにより、該基材の表面に前記超砥粒をめっき層により固着するめっき処理工程(ステップS20)とを包含する。
- 公開日:2017/05/25
- 出典:超砥粒工具の製造方法
- 出願人:株式会社ノリタケカンパニーリミテド
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半導体ウェーハ(以下、単に「ウェーハ」という)などの基板の表面に形成された金属膜を除去(エッチング)するプロセスとして、リン酸、硝酸を含む混合薬液( 混酸 )が用いられる場合がある。
- 公開日:2016/12/28
- 出典:基板処理方法および基板処理装置
- 出願人:東芝メモリ株式会社
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半導体シリコン結晶中の不純物を分析する際の前処理において、閉塞容器内に、前記半導体シリコン結晶から採取した試料と、フッ化水素酸及び硝酸からなる 混酸 を入れた後、前記混酸を加熱することで混酸蒸気を発生させて前記試料全体を気相分解する方法であって、前記閉塞容器として圧力調整バルブが設けられたものを用い、前記閉塞容器内部の圧力が絶対圧で0.20MPa以上0.40MPa以下となるように、前記閉塞容器内部で発生した揮発性分解生成物及び混酸蒸気を前記圧力調整バルブから漏洩させながら気相分解を行う半導体シリコン結晶の不純物分析のための前処理方法。
- 公開日:2017/01/05
- 出典:半導体シリコン結晶の不純物分析のための前処理方法、及び半導体シリコン結晶の不純物分析方法
- 出願人:信越半導体株式会社
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炭化珪素表面を有する部材の清浄度評価方法であって、前記炭化珪素表面を、フッ化水素酸、塩酸および硝酸の 混酸 と接触させること、前記炭化珪素表面と接触させた混酸を加熱により濃縮すること、前記濃縮により得られた濃縮液を希釈して得られた試料溶液を、誘導結合プラズマ質量分析計による金属成分の定量分析に付すこと、および、前記定量分析により得られた金属成分定量結果に基づき、前記炭化珪素表面を有する部材の清浄度を評価すること、を含む、前記清浄度評価方法。
- 公開日:2017/10/05
- 出典:清浄度評価方法、洗浄条件決定方法、およびシリコンウェーハの製造方法
- 出願人:株式会社SUMCO
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前記酸化処理は、好ましくは、硝酸と硫酸の 混酸 中の硝酸濃度比が10〜30質量%の混酸を用い、100℃以上で行われる。
- 公開日:2013/05/09
- 出典:カーボンナノファイバーの製造方法とその分散液および組成物の製造方法
- 出願人:三菱マテリアル株式会社
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...それぞれ設けられ、前記第1原液タンクからの前記第1の酸の供給量及び前記第2配管からの前記第2の酸の供給量をそれぞれ調整するための第1の弁及び第2の弁と、前記第3配管が接続され、前記第3原液タンクから供給される前記第3の酸を収容する酸液用循環タンクと、前記第1の酸及び前記第2の酸を含む 混酸 液を収容する混酸槽と、前記第3の酸を含む酸液を収容する酸槽と、前記混酸液用循環タンクと前記混酸槽とを連結し、前記混酸液を両者間で循環させるための少なくとも2本の第4配管と、前記酸液用循環タンクと前記酸槽とを連結し、前記酸液を両者間で循環させるための少なくとも2本の第5配管と、冷間圧延後、連続焼鈍した鋼帯を搬送し...
- 公開日:2017/07/06
- 出典:冷延鋼帯の製造方法及び製造設備
- 出願人:JFEスチール株式会社
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しかも、pH管理と濃度管理により、前工程の 混酸 や水の混入を想定した管理を行うことができ、保護膜形成剤の機能低下の原因を特定し、その対策を講ずることにより、所定のニッケル溶出基準を満たす水栓金具等の銅合金製接液部材を継続的に量産に供することができ、特に、保護膜形成剤の交換頻度を抑制しつつ、合理的に交換することが可能になる。
- 公開日:2013/05/09
- 出典:保護膜形成剤の管理方法
- 出願人:株式会社キッツ
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無水糖アルコールの製造方法であって、ヘキシトールを第1の酸及び第2の酸の 混酸 で脱水反応することからなり、前記第1の酸が硫酸であり、前記第2の酸が、p−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸及び硫酸アルミニウムよりなる群から選ばれる1種以上の硫黄含有酸又は硫黄含有酸塩であることを特徴とする製造方法。
- 公開日:2014/06/30
- 出典:無水糖アルコールの製造方法
- 出願人:サムヤンジェネックスコーポレイション
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ニトロ化反応器の上流側の圧力が、粗製ニトロベンゼン及び廃酸を分離するのに使用される相分離装置の気相中の圧力を14bar〜40bar上回るように設定し、断熱条件下で、ベンゼンを 混酸 で連続的にニトロ化してニトロベンゼンを製造する。
- 公開日:2011/09/08
- 出典:ニトロベンゼンを連続的に製造する方法
- 出願人:バイエルマテリアルサイエンスアクチェンゲゼルシャフト
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有機低分子化合物及びその製造
- 発明の種類
- 用途
- 反応
- 精製;分離;安定化;その他の物理的処理
- 反応の促進・抑制(反応工学的手法によるもの→BD)
- 反応媒体、分離・精製・回収用溶媒
- 反応パラメ−タ−
- 反応工学的手法
- 反応試剤(触媒として明らかなもの→BA01〜85)
- 炭素環構造
- ハロゲン
- OH,OM
- エ−テル,アセタ−ル,ケタ−ル,オルトエステル
- アルデヒド
- ケトン,キノン
- カルボン酸,その塩,ハライド,無水物
- エステル(CO7C213/〜225/、227/〜229/、231/〜237 のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- ニトロ、ニトロソ、アミン(CO7C213/〜225/、227/〜229/、231/〜237/のいずれかが付与されている場合に付与している)
- カルボン酸アミド(C07C231/〜237/のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- オキシム
- 同位元素の種類(C07B59/00が付与されている場合に、付与している)
- ゼオライト、アルミノシリケ−ト;イオン交換樹脂(C071/〜15,27/〜39/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- ハロゲン化炭化水素(C07C19/〜25/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- 安定化剤(混合物は各成分にタ−ム付与)(C07C17/〜25/のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- 炭素骨格(C07C27/〜39/のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- 官能基(C07C27/〜39/のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- アルコ−ル(C07C27/〜39/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- 製法(C07C41/〜43/のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- 目的化合物(C07C41/〜43/のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- エステルの製法(C07C67/〜69/のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- 酸部分が種々の場合をとり得るエステル
- アルコ−ル部分が非環式炭素原子に結合している不飽和アルコールであるもの(C07C69/025 のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- アクリル酸またはメタクリル酸のエステル
- 酸素含有置換基を有するカルボン酸のエステル(C07C69/66〜69/738 のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- アミノカルボン酸(C07C227/229のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- ニトリルの製法(C07C253/〜255/、261/02 のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- カルバミン酸エステルの構造
- カルバミン酸エステルの製造
- 対象化合物の種類(C07C313/〜323/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- −SOn−含有特定部分構造(C07C313/〜323/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- −SOn−不含特定部分構造(C07C313/〜323/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- チオ誘導体のもつ官能基(C07C325/〜381/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- ビタミンD系化合物(C07C401/ のいずれかが付与されている場合は、付与している)
- C≧4不飽和側鎖をもつシクロヘキサン、シクロヘキセン
- プロスタグランジン系化合物(C07C405/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
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エッチングと化学研磨(つや出し)
- ドライエッチングの目的
- ドライエッチングの対象材料
- ドライエッチングの前処理
- ドライエッチング方式
- ドライエッチングガス
- ドライエッチング条件制御
- ドライエッチングの終点検知
- ドライエッチングの後処理
- ドライエッチング装置
- ドライエッチングの用途
- ウエットエッチングの目的
- ウエットエッチングの対象材料
- ウエットエッチングの前処理
- ウエットエッチング方式
- ウエットエッチング液(主成分)
- ウエットエッチング液(添加剤)
- ウエットエッチング条件制御
- ウエットエッチング液の再生
- ウエットエッチングの終点検知
- ウエットエッチングの後処理
- ウエットエッチング液の管理
- ウエットエッチング装置
- ウエットエッチングの用途