活性化処理 の意味・用法を知る
活性化処理 とは、積層体(2) や化学的被覆 などの分野において活用されるキーワードであり、東洋鋼鈑株式会社 やトヨタ自動車株式会社 などが関連する技術を7,477件開発しています。
このページでは、 活性化処理 を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
活性化処理の意味・用法
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DOC2の推定温度が活性化温度領域に至っていない場合、その情報を検出したエンジンECU5の指令で、DOC 活性化処理 がなされ、DOC活性化処理では、排気9が昇温され、DOC2の推定温度が活性化温度領域に至った場合、その情報を検出したエンジンECU5の指令で、DPF再生処理がなされ、DPF再生処理では、燃料供給装置8から排気9に燃料が供給され、この燃料9のDOC2での触媒燃焼で、排気9が昇温され、この排気9の熱で、DPF7に堆積したPMが焼却されるように構成されている、ディーゼルエンジンにおいて、DOC2とDPF7の間に排気絞り弁9aが設けられ、DOC活性化処理では、排気絞り弁9aの開度が減少される。
- 公開日:2017/12/21
- 出典:ディーゼルエンジン
- 出願人:株式会社クボタ
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本発明のpn接合シリコンウェーハの製造方法は、p型単結晶シリコン基板10の主表面とn型単結晶シリコン基板20の主表面に真空常温下でイオンビーム又は中性原子ビームを照射する 活性化処理 をして、前記両方の主表面を活性化面とした後、引き続き真空常温下で前記両方の活性化面を接触させることで、p型単結晶シリコン基板10とn型単結晶シリコン基板20とを一体化させてpn接合シリコンウェーハを得る第1工程と、前記pn接合シリコンウェーハに熱処理を施して、前記活性化処理により前記pn接合シリコンウェーハの貼合せ界面近傍に生じた変質層12,14を再結晶化させる第2工程と、を有することを特徴とする。
- 公開日:2017/09/21
- 出典:pn接合シリコンウェーハの製造方法
- 出願人:株式会社SUMCO
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真空常温下にて、活性層用ウェーハの貼合せ面および支持基板用ウェーハの貼合せ面の 活性化処理 を施す活性化処理工程と、該活性化処理工程に引き続き、真空常温下にて、前記活性層用ウェーハの貼合せ面および前記支持基板用ウェーハの貼合せ面を互いに接触させることで前記活性層用ウェーハと、前記支持基板用ウェーハとを貼合せる貼合せ工程と、を含み、前記貼合せ工程において、前記活性層用ウェーハと前記支持基板用ウェーハとの界面にミスフィット転位が形成されるように前記貼合せを行うことを特徴とする接合ウェーハの製造方法。
- 公開日:2017/12/07
- 出典:接合ウェーハの製造方法および接合ウェーハ
- 出願人:株式会社SUMCO
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活性化処理 により、確実に燃料電池単セルの性能を向上することができる。
- 公開日:2017/04/13
- 出典:燃料電池システム及び燃料電池システムの性能向上方法
- 出願人:トヨタ自動車株式会社
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脂環式オレフィン樹脂からなる基材フィルム、及び、前記基材フィルムの一方の面に直接に設けられた脂環式オレフィン樹脂からなる保護フィルムを備え、前記基材フィルムの前記保護フィルムと接する側の面、又は、前記保護フィルムの前記基材フィルムと接する側の面は、 活性化処理 を施された面である、積層フィルム。
- 登録日:2018/10/12
- 出典:積層フィルム、及び、複合フィルムの製造方法
- 出願人:日本ゼオン株式会社
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活性化処理 としては、コロナ放電処理、プラズマ処理およびグロー放電処理の少なくとも1種であることが好ましく、光学フィルムとしては、偏光子および透明保護フィルムの少なくとも1種であることが好ましい。
- 公開日:2017/04/13
- 出典:光学フィルムの活性化処理方法および製造方法、光学フィルムならびに画像表示装置
- 出願人:日東電工株式会社
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具体的には、高真空のチャンバー内に洗浄した基板をセットし、イオンビームを中性化したアルゴンの高速原子ビームを基板表面に照射して 活性化処理 を行った後、タンタル酸リチウム単結晶基板とSi基板とを接合した。
- 公開日:2016/12/08
- 出典:接合基板の製造方法
- 出願人:信越化学工業株式会社
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イオンが注入されたイオン注入領域(46)を表面に有し、少なくとも当該イオン注入領域(46)を含む部分に溝(41)が形成されたSiC基板(40)をSi蒸気圧下で加熱するイオン 活性化処理 を行うことで、SiC基板(40)に注入されたイオンを活性化させるとともに、エッチングを行って表面を平坦化する。
- 公開日:2017/09/28
- 出典:SiC基板処理方法
- 出願人:東洋炭素株式会社
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このマイクロ波により、還元性ガス及び窒素含有ガスをプラズマ化し、ウエハW表面の触媒金属層に 活性化処理 を施す。
- 公開日:2013/05/23
- 出典:前処理方法、グラフェンの形成方法及びグラフェン製造装置
- 出願人:東京エレクトロン株式会社
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活性化処理 によって、触媒金属微粒子を活性化した状態を説明する模式図である。
- 公開日:2013/02/07
- 出典:前処理方法及びカーボンナノチューブの形成方法
- 出願人:東京エレクトロン株式会社
活性化処理の問題点 に関わる言及
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前処理材は、エナメル質を石灰化するための 活性化処理 材として働き、石灰化材はエナメル質の石灰化処理材として働くものであり、前処理材および石灰化材のいずれか一方が欠けたとしても十分な石灰化効果を奏することができない。
- 公開日: 2011/09/15
- 出典: エナメル質石灰化促進材セット
- 出願人: 学校法人昭和大学
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また、上記実施の形態では、 活性化処理 される液体として水を例示したが、これに限られず、活性化処理される液体は例えば水を溶媒とした溶液であってもよい。同様に表面が活性化処理される固体として容器を例示したが、これに限られない。
- 公開日: 2008/06/12
- 出典: 蒸気、液体又は固体表面の活性化処理方法及び活性化処理装置
- 出願人: 浜松ホトニクス株式会社
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例えば、上述した実施の形態では、ベーキング処理の後で封着処理の前に不純物除去処理を実施した場合について説明したが、これに限らず、ベーキング処理中やベーキング処理の前に不純物除去処理を実施しても良く、特に、 活性化処理 の後に不純物除去処理を実施しても良い。
- 公開日: 2005/02/03
- 出典: 電子放出素子の製造方法、表示装置の製造方法、および電子放出素子のクリーニング機能を備えた表示装置
- 出願人: 株式会社東芝
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また、被接合物の表面 活性化処理 から、該被接合物どうしを接合する処理までの間を大気に暴露せず実行する接合方法及び接合装置でもよい。このような構成とすれば、接合する被接合物を大気に暴露することなく、該被接合物の表面活性化処理から接合処理までを実行するので、被接合物の表面活性化後に、該被接合物に浮遊物等が再付着することを防ぐことができるため、好適である。
- 公開日: 2005/11/04
- 出典: 接合方法及びこの方法により作成されるデバイス並びに接合装置
- 出願人: ボンドテック株式会社
活性化処理の特徴 に関わる言及
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この方法によれば、接合基材と被接合基材としての他方の接合基材との接合において、 活性化処理 によって接着性と弾性を発現した薄膜を接合層とすることができる。接合基材の接合層と他方の接合基材の接合層とを接するようにして加圧すると、それぞれの接合層が弾性を発現しているために弾性変形し、接合基材と他方の接合基材の表面粗さを吸収する緩衝層として機能する。これにより、接合基材と他方の接合基材との接合面積を広くとることができるために、強固な接合強度を有する接合体を形成することができる。
- 公開日: 2009/08/27
- 出典: 接合基材、接合基材の製造方法、接合体の製造方法及び液滴吐出装置
- 出願人: セイコーエプソン株式会社
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従来の電子放出素子においては、フォーミング及び 活性化処理 によって形成された電子放出部は、電子放出点の密度が小さくなることがあり、その場合、電子放出部全体にわたって均一に電子放出しないという問題があった。
- 公開日: 2000/09/14
- 出典: 電子放出素子、電子放出素子を用いた電子源、及び電子源を用いた画像形成装置
- 出願人: キヤノン株式会社
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具体的には、構造色表示層10と接触する表面に対して、コロナ放電処理、火炎処理、グロー放電処理、紫外線照射処理、高周波処理、活性プラズマ処理、レーザー処理などの 活性化処理 を行うことができる。
- 公開日: 2011/06/02
- 出典: 構造色表示用材料およびその製造方法
- 出願人: コニカミノルタ株式会社
活性化処理の使用状況 に関わる言及
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水素吸蔵合金活性化装置及び水素吸蔵合金活性化方法に関し、水素吸蔵合金の 活性化処理 の際におけるコスト面を考慮した水素吸蔵合金活性化装置及び水素吸蔵合金活性化方法を提供する。
- 公開日: 2010/10/07
- 出典: 水素吸蔵合金活性化装置及び水素吸蔵合金活性化方法
- 出願人: トヨタ自動車株式会社
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電極 活性化処理 時間の短縮を図り、効率的に活性化が行われる酸素センサの電極活性化処理方法を提供する。また、酸素センサに効率的に電極活性化処理を施す電極活性化処理装置を提供する。
- 公開日: 2009/06/18
- 出典: 酸素センサの電極活性化処理方法、および、電極活性化処理装置
- 出願人: 富士電機株式会社
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本実施形態の画像表示装置の製造方法及び製造装置は、上述の安定化処理及びフォーミング処理、 活性化処理 に限定されるものではなく、適宣必要な処理を選択して画像表示装置を製造することが可能である。
- 公開日: 2000/09/08
- 出典: 画像表示装置の製造方法及び画像表示装置の製造装置
- 出願人: キヤノン株式会社
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この表面 活性化処理 の中でも、レーザー照射等の光処理、又はプラズマ処理等の物理的処理は、透明基材の処理面に凹凸が発生せず、鏡面を維持していること、表面活性化処理の位置精度を高くすることが可能であること、及び、表面不活性化処理による表面不活性化処理効果が大きいことから、特に望ましく、また光学的透明性にも優れる。
- 公開日: 2013/02/04
- 出典: ホログラムラベル
- 出願人: 大日本印刷株式会社
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積層体(2)
- 無機化合物・単体
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- 処理、手段
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- その他の性質・機能
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- 光学的性質・機能
- 数値を限定したもの(クレームにのみ適用)
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プラスチック等のライニング、接合
- 樹脂材料等(主成形材料)
- 添加剤、配合剤
- 材料の状態、形態
- 挿入物等(補強材、芯材、表面材、ライニング対象部材、接合対象物)
- 機能物品(光学特性→用途物品)
- 表面の性状、外観に特徴ある成形品
- 一般形状、構造物品(用途物品優先)
- 用途物品
- 装置又は装置部材の材料の特徴
- 加熱冷却手段の具体的な特徴
- ホッパー
- 成形装置、成形操作のその他の特徴
- 検出量又は監視量
- 検出手段の特徴
- 調整制御量(制御の対象)
- ライニングの区分(1)
- ライニング処理対象の形態
- ライニング材料の形態、特徴
- ライニング材料の製造方法および装置
- ライニング材料の前処理・コンディショニング
- ライニング材料、ライニング対象物の供給
- ライニング処理に用いられる型
- 接着剤(粘着剤)の成分、形状、塗布処理
- ライニング処理操作
- 成形品の後処理・後加工
- 接合の区分(1)
- 接合の部位
- 結合構造
- 予備成形品の前処理・コンディショニング
- 予備成形品等の供給
- 接合操作
- 接合のための付属装置
- 成形品の後処理・後加工