架橋構造 の意味・用法を知る
架橋構造 とは、高分子組成物 や付加系(共)重合体、後処理、化学変成 などの分野において活用されるキーワードであり、日本エクスラン工業株式会社 や株式会社日本触媒 などが関連する技術を17,701件開発しています。
このページでは、 架橋構造 を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
架橋構造の意味・用法
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熱可塑性樹脂、および 架橋構造 含有重合体を含有し、前記架橋構造含有重合体の光弾性定数が前記熱可塑性樹脂の光弾性定数と異符号であり、且つ、厚みが2mmの成形体のヘイズが6%以下である、光学用樹脂組成物。
- 公開日:2017/03/23
- 出典:光学用樹脂組成物、および成形体
- 出願人:株式会社カネカ
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蓄電装置の負極用バインダーとして用いられる高分子化合物であって、ポリアクリル酸により構成される鎖状構造と、前記鎖状構造内又は鎖状構造間におけるカルボン酸側鎖同士を接続する 架橋構造 とを有し、前記架橋構造は、下記一般式(6)で示される架橋構造であることを特徴とする高分子化合物。
- 公開日:2017/10/26
- 出典:高分子化合物、中間組成物、負極電極、蓄電装置、及び高分子化合物の製造方法
- 出願人:株式会社豊田自動織機
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結晶性芳香族ポリエステルからなる高融点結晶性重合体セグメント(a1)と、脂肪族ポリエーテル単位からなる低融点重合体セグメント(a2)とを構成成分とするポリエーテルエステルブロック共重合体(A)20〜80重量%、 架橋構造 を有するスチレン系エラストマをマトリックス樹脂中に分散相として分散させた熱可塑性エラストマ(B)10〜50重量%、ゴム質重合体にビニル系単量体をグラフト重合して得られたグラフト共重合体(C)10〜50重量%を含む熱可塑性エラストマ樹脂組成物。
- 公開日:2015/10/08
- 出典:熱可塑性エラストマ樹脂組成物及び成形体
- 出願人:東レ・デュポン株式会社
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架橋構造 を含まないチオール末端液状ポリサルファイドポリマーを用いて、骨格に架橋構造を有する液状ポリサルファイドポリマーを用いた場合と同等の性能を有する硬化型組成物を提供する。
- 公開日:2016/04/28
- 出典:硬化型組成物
- 出願人:東レ・ファインケミカル株式会社
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本発明の目的は、 架橋構造 および2〜10mmol/gのカルボキシル基を有し、捲縮率が7%以上であることを特徴とする架橋アクリレート系繊維により達成される。
- 公開日:2017/03/02
- 出典:架橋アクリレート系繊維および該繊維を含有する繊維構造物
- 出願人:日本エクスラン工業株式会社
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本発明は、セルロース繊維にリン酸基を導入し、リン酸基を介して 架橋構造 を形成することで架橋リン酸化セルロース繊維を得る工程(A)と、架橋構造の一部又は全部を切断することで架橋切断リン酸化セルロース繊維を得る工程(B)と、架橋切断リン酸化セルロース繊維に機械処理を施すことで繊維幅が1000nm以下の繊維状セルロースを得る工程(C)と、を含み、工程(A)では、0.05mmol/g以上2.0mmol/g以下の架橋構造を形成し、工程(B)は、pHが3以上の水系溶媒中で架橋構造の加水分解を行う工程である、繊維幅が1000nm以下の繊維状セルロースの製造方法に関する。
- 公開日:2018/04/05
- 出典:繊維状セルロースの製造方法及び繊維状セルロース
- 出願人:王子マテリア株式会社
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下側 架橋構造 2と上側架橋構造5とを直交するように配置し、下側摺動部材3と上側摺動部材6とを連結構造8を介して連結する。
- 公開日:2016/05/09
- 出典:免震構造及び免震構造建築物
- 出願人:株式会社日建設計
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(A) 架橋構造 を含むシリコーン樹脂と、(B)酢酸ビニル−ビニルピロリドン共重合体及び/又はポリビニルピロリドンと、(C)カチオン性界面活性剤と、(D)長鎖脂肪族アルコールと、を含有してなり、前記(A)成分及び前記(B)成分と、前記(C)成分との質量比(A+B)/Cが0.1〜2.5である毛髪化粧料である。
- 公開日:2014/12/15
- 出典:毛髪化粧料
- 出願人:ライオン株式会社
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非架橋ゴム及びその中に分散した 架橋構造 を有するゴム粒子を含む修飾ゴムマスターバッチであって、架橋構造を有するゴム粒子が、20〜500nm、好ましくは、50〜200nm、より好ましくは、70〜200nmの平均粒径、及び60%(重量)以上、好ましくは、75%(重量)以上のゲル分率を有する、合成ゴム粒子及び/又は天然ゴム粒子であり、非架橋ゴムがスチレン−ブタジエンゴムであり;そして、架橋構造を有するゴム粒子と非架橋ゴムの重量比が、20:80より大きく80:20以下である、修飾ゴムマスターバッチ。
- 公開日:2014/12/18
- 出典:修飾ゴムマスターバッチ、並びにゴム組成物及びそれを使用して製造される加硫ゴム及びその調製方法
- 出願人:中国石油化工股ふん有限公司
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非架橋ゴム及びその中に分散した 架橋構造 を有するゴム粒子を含むゴム組成物であって、架橋構造を有するゴム粒子が、20〜500nmの平均粒径及び少なくとも60wt%のゲル分率を有する合成ゴム粒子及び/又は天然ゴム粒子であり、非架橋ゴムがスチレン−ブタジエンゴムであり、そして、架橋構造を有するゴム粒子と非架橋ゴムの重量比が、1:99〜20:80である、ゴム組成物。
- 公開日:2014/11/20
- 出典:ゴム組成物、その調製方法及び加硫ゴム
- 出願人:中国石油化工股ふん有限公司
架橋構造の問題点 に関わる言及
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生分解性樹脂に共有結合性の熱可逆的 架橋構造 を導入することで、生分解性を損なうことなく、十分な耐熱性、成形性およびリサイクル性を有する生分解性樹脂を得ることができる。必要に応じて、架橋構造の解離温度を所定の範囲とし、架橋構造の種類を選択し、架橋構造を三次とすることで、耐熱性、成形性、リサイクル性および生分解性を更に向上できる。
- 公開日: 2005/10/13
- 出典: 生分解性樹脂、生分解性樹脂組成物、生分解性成形体、生分解性樹脂の製造方法
- 出願人: 日本電気株式会社
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このとき、架橋性単量体は、スチレン系単量体の一部若しくは全部に溶解して添加することが望ましい。架橋性単量体とスチレン系単量体を個別に添加すると、 架橋構造 にむらが生じる恐れがある。
- 公開日: 2007/02/08
- 出典: 発泡性ポリスチレン系樹脂粒子とその製造方法、発泡成形品及び食品包装体
- 出願人: 積水化成品工業株式会社
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通常ふっ素ゴムは、その種類毎に過酸化物系架橋剤、ポリオール系架橋剤、ポリアミン系架橋剤の中で最も適する架橋剤が決められており、それによって分子構造の一部が変えられている。また、架橋剤の種類によって、架橋機構が異なり 架橋構造 も変わるため、通常架橋剤を併用することは行われず、架橋剤を併用しても加成則は成り立たないことが多い。
- 公開日: 2001/06/19
- 出典: 耐プラズマ性ふっ素ゴム組成物
- 出願人: ニチアス株式会社
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通常市販のブタジエン共重合体は、 架橋構造 を有しており、有機溶媒には不溶である。そこで従来の方法でブタジエン共重合体中のブタジエン重合体含量を測定すると、ブタジエン共重合体gクロロホルムに不溶の状態で、一塩化沃素四塩化炭素溶液が添加されるので、一塩化沃素がブタジエン重合体成分に完全に付加せずに、過剰の一塩化沃素量が本来の値よりも大きくなるので、算出されるブタジエン重合体成分含有量は少ない値となってしまっていた。
- 公開日: 1996/08/09
- 出典: ブタジエン共重合体中のブタジエン重合体成分含有量の測定方法
- 出願人: 三菱レイヨン株式会社
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芳香族ビニリデン系共重合体のランダム共重合体は、そのランダム共重合性も高い。また上記芳香族ビニリデン系共重合体では、環状構造や 架橋構造 が形成されていてもよいが、実質上線状構造であることが望ましい。共重合体が実質上線状構想を有することは、共重合体がある程度穏和な条件下で有機溶剤に溶解することで確認することができ、具体的には該共重合体のGPC測定を行う際に室温テトラヒドロフランに溶解することで確認することができる。
- 公開日: 1998/10/06
- 出典: 芳香族ビニリデン系共重合体および芳香族ビニリデン系共重合体の製造方法
- 出願人: 三井化学株式会社
架橋構造の特徴 に関わる言及
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芳香環を有する架橋ビニル重合体は、適度な 架橋構造 を有するので、このような重合体からなるコア層を有する絶縁性微粒子を導電性微粒子被覆用の絶縁性微粒子として用いると、絶縁性微粒子被覆導電性微粒子に適度な弾性を付与し得る。
- 公開日: 2013/04/04
- 出典: 絶縁性微粒子、絶縁性微粒子被覆導電性微粒子、異方性導電接着剤組成物、および異方性導電成形体
- 出願人: 株式会社日本触媒
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粘着剤層中のポリマー成分は、 架橋構造 を有していても良い。粘着剤層中のポリマー成分が架橋構造を有することにより、粘着剤層は非常に優れた耐熱性を発現することができる。
- 公開日: 2013/09/30
- 出典: 表面保護層付耐火性粘着テープ
- 出願人: 日東電工株式会社
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有既存のモノマーとの重合によって架橋度及び性質が制御された機械的な 架橋構造 を持つ架橋ポリマーを製造できるとともに、該架橋ポリマーを解架橋できるロタキサン、該ロタキサンからなる架橋剤、該架橋剤を利用した架橋方法、該架橋方法により架橋して得られた架橋ポリマー、及び該架橋ポリマーの分解方法を提供することにある。
- 公開日: 2012/11/15
- 出典: ロタキサン、架橋剤、架橋方法、架橋ポリマー及び架橋ポリマーの分解方法
- 出願人: 株式会社ブリヂストン
架橋構造の使用状況 に関わる言及
注目されているキーワード
関連する分野分野動向を把握したい方
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高分子組成物
- 不特定の高分子化合物
- 多糖類
- 不特定のゴム;天然ゴムまたは共役ジエンゴム
- 蛋白質
- 油,脂肪またはワックス
- 天然樹脂
- 瀝青質材料
- リグニン含有材料
- その他の天然高分子
- C=Cのみが関与する反応によって得られる不特定重合体
- オレフィンの(共)重合体
- 不飽和芳香族化合物の共重合体
- ハロゲン化オレフィンの(共)重合体
- 不飽和アルコ−ル,エ−テル,アルデヒド,ケトン,アセタールまたはケタールの(共)重合体
- 飽和カルボン酸,炭酸またはハロ蟻酸の不飽和アルコールとのエステルの(共)重合体
- 不飽和モノカルボン酸またはその誘導体の(共)重合体
- 不飽和ポリカルボン酸またはその誘導体の(共)重合体
- 不飽和アミン,その誘導体または不飽和含窒素複素環化合物の(共)重合体
- 環中にC=Cを含有する炭素環または複素環化合物の(共)重合体
- 1つの不飽和脂肪族基に2個以上のC=Cを含有する化合物の(共)重合体(BK00が優先)
- C三Cを含有する化合物の(共)重合体
- グラフト重合体
- ブロック共重合体
- その他のC=Cのみが関与する反応によって得られる(共)重合体(ABS→BN15,石油脂肪→BA01)
- C=Cのみが関与する重合反応以外の反応により得られる不特定高分子化合物 (ポリテルペン→CE00)
- ポリアセタ−ル
- アルデヒドまたはケトンの縮重合体
- エポキシ樹脂
- 主鎖にC−C結合を形成する反応によって得られる高分子化合物(AC00〜14,BA00〜BQ00、CC00が優先)
- ポリエステル
- ポリカ−ボネ−ト;ポリエステルカ−ボネ−ト
- ポリエ−テル (ポリチオエーテル→CN01)
- その他の、主鎖に酸素を含む結合を形成する反応によって得られる高分子化合物
- ポリ尿素またはポリウレタン
- ポリアミド
- その他の、主鎖にNを含む結合を形成する反応によって得られる高分子化合物
- 主鎖に硫黄を含む結合を形成する反応によって得られる高分子化合物
- 主鎖にけい素を含む結合を形成する反応によって得られる高分子化合物
- 主鎖にSi,S,N,OおよびC以外の原子を含む結合を形成する反応によって得られる高分子化合物
- 元素
- 金属化合物
- 合金
- ハロゲン含有無機化合物
- 酸素含有無機化合物
- 窒素含有無機化合物
- S,SeまたはTe含有無機化合物
- リン含有化合物
- けい素含有無機化合物
- ほう素含有無機化合物
- ガラス
- その他 無機物質
- 炭化水素
- ハロゲン化炭化水素
- アルコ−ル;金属アルコラ−ト
- エ−テル;(ヘミ)アセタ−ル;(ヘミ)ケタール;オルトエステル
- アルデヒド;ケトン
- カルボン酸(環状無水物→EL13,非環状無水物→EF12);カルボン酸無水物
- カルボン酸の金属塩;アンモニウム塩(第4級アンモニウム塩→EN13)
- エステル;エ−テルエステル
- フェノ−ル;フェノラ−ト
- 有機過酸化物
- 異項原子としてOを有する複素環式化合物
- 観点ECからELに属さないO含有基を有する有機化合物
- アミン;第四級アンモニウム化合物
- カルボン酸アミド(環式イミド→EU)
- 1個の他のN原子に結合するN原子を含有する有機化合物
- 1個以上のC=N結合を有する有機化合物
- N−O結合を有する有機化合物
- 視点EN〜ESに属さないN含有有機化合物
- 異項原子として窒素を有する複素環式化合物
- S,SeまたはTe含有有機化合物
- リン含有化合物
- けい素含有有機化合物
- B、AsまたはSb含有有機化合物
- 有機金属化合物、すなわち金属−C結合を有する有機化合物(有機As化合物→EY00,有機Sb化合物→EY02)(アルコラート→EC07、カルボン酸金属塩→EG)
- 形状に特徴を有する配合成分の使用
- 前処理された配合成分の使用
- 添加剤の機能
- 農業用(←殺生物剤の担体)
- 医療、化粧用
- 生活、スポ−ツ用
- 物理化学的処理用
- 生化学的用途
- 積層体用
- 容器、包装用
- 塗料用(←コ−ティング剤)
- 接着、シ−ル用
- 繊維、紙用
- 建築、土木用
- 機械部材用
- 運輸機器用
- 光学関係用
- 電気関係
- 物理関係用
- 情報記録材料
- その他の用途
- 組成物の形態
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付加系(共)重合体、後処理、化学変成
- オレフィン
- 芳香族オレフィン
- ハロゲン化オレフィン
- 不飽和アルコール
- 不飽和エーテル
- ケテン,不飽和アルデヒド,ケトン,アセタール,ケタール系
- 不飽和アルコールと有機カルボン酸とのエステル
- 不飽和アルコールと有機カルボン酸外以外とのエステル他
- 不飽和カルボン酸
- 不飽和カルボン酸塩,無水物、ハライド他
- 不飽和カルボン酸エステル
- 不飽和ニトリル,アミド,イミド
- N停止オレフィン
- S,P,Se,Te,B,Si,金属等停止オレフィン
- 複素環停止オレフィン
- 環状オレフィン
- ポリエン
- 炭素—炭素三重結合含有化合物
- その他の不飽和炭化水素
- 置換基1—構成元素—
- 置換基2—ハロゲン—
- 置換基3−環−
- 置換基4—特性、機能等—
- 全体構造
- ポリマーの物性
- ポリマーの形態
- 製造方法に特徴があるもの
- 触媒残渣に対する処理
- 未反応単量体に対する処理
- 生成重合体に対する処理
- 上記以外の対象物に対する処理
- 変性反応→該当する反応を全て付与
- 変性時に使用する化合物1—無機化合物—
- 変性時に使用する化合物2—有機化合物—
- 変性反応時に使用する化合物3 —機能、特性等—
- 変性反応条件
- 装置・システム
- 変性される樹脂
- 用途
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高分子成形体の製造
- 材料成分(1)有機高分子成分
- 材料成分(2)無機化合物成分(後方ターム優先)
- 材料成分(3)有機化合物成分(後方ターム優先)
- 材料成分(4)形状限定成分
- 材料成分(5)機能限定成分
- 性質
- 処理
- 用途
- 成形品の製造(1)材料組成物の状態
- 成形品の製造(2)成形方法
- 成形品の製造(3)成形品の特徴
- 接着(1)被接着物の形状、状態
- 接着(2)接着剤の形状、状態
- 接着(3)接着剤の種類
- 接着(4)接着方法
- 研摩性、摩擦性物品の製造
- 摩擦性の減少された物品の製造
- イオン交換樹脂成形体の製造(1)化学構造
- イオン交換樹脂成形体の製造(2)機能、物性
- イオン交換樹脂成形体の製造(3)形状、構造
- イオン交換樹脂成形体の製造(4)製造方法
- イオン交換樹脂成形体の製造(5)後処理
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ポリウレタン,ポリ尿素
- イソ(チオ)シアネートと活性水素化合物以外との反応による重合体
- イソ(チオ)シアネートと活性水素化合物との反応による重合体
- 低分子活性水素化合物の活性水素基の種類
- 低分子活性水素化合物の活性水素基の数
- 低分子活性水素化合物の環構造
- 低分子活性水素化合物中の異種原子(C、H以外)
- 下記の特定の低分子活性水素化合物
- 活性水素含有高分子の活性水素基の種類
- 高分子活性水素化合物の活性水素基の数
- 高分子活性水素化合物中の環構造
- 高分子活性水素化合物中の異種原子(C、H、O、N以外)
- 高分子活性水素化合物の特定性状
- 主鎖にカルボン酸エステル又は炭酸エステルを有する重縮合物
- ポリエーテル
- ポリエーテルエステル
- アルデヒドの重縮合物
- エポキシ樹脂
- ポリアミド、ポリエステルアミド、ポリイミド
- 主鎖にSiを有する重縮合物
- DF−DM以外の重縮合系高分子
- 炭素−炭素不飽和化合物の付加重合体
- グラフト、ブロック重合体
- DF−DQ以外の活性水素含有高分子
- 活性水素含有天然物(誘導体)
- 活性水素含有炭素—炭素不飽和低分子化合物の全体構造
- 活性水素含有炭素−炭素不飽和低分子化合物の活性水素基の種類
- 活性水素含有炭素−炭素不飽和低分子化合物の活性水素基の数
- 活性水素含有炭素−炭素不飽和低分子化合物の環構造
- 活性水素含有炭素−炭素不飽和低分子化合物中の異種原子(C,H以外)
- 活性水素含有炭素—炭素不飽和高分子化合物
- イソ(チオ)シアネートの全体、部分構造
- イソ(チオ)シアネート中の異種原子(C、H以外)
- イソ(チオ)シアネート中の環構造
- ブロックイソ(チオ)シアネート
- 重合体の製造方法一般
- 使用する反応調節剤の機能
- 反応調節剤の使用段階
- 反応調節剤中の金属原子(B,Si,Se,Te含む)
- 反応調節剤中の金属原子以外の成分
- 反応調節剤の全体構造
- 重合体の化学的、非化学的処理
- 重合の付随処理
- イソ(チオ)シアネート非反応性配合成分
- 発泡体の製造
- 装置
- 重合体、原料の化学構造的特性
- 重合体、原料の物性
- 重合体の形状
- 重合体の成形法
- 重合体の用途
- 重合によって形成される連結基
- 重合体中の環構造
- 重合体中の異種原子(C,H以外)
- 原料モノマー
- 重合体の製造方法、装置
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半導体の露光(電子、イオン線露光を除く)
- 半導体の露光の共通事項
- 紫外線,光露光の種類
- 紫外線,光露光用光源
- 光学系
- ステージ,チャック機構,及びそれらの動作
- ウェハ,マスクの搬送
- 露光の制御,調整の対象,内容
- 検知機能
- 検知機能の取付場所
- 制御,調整に関する表示,情報
- 位置合わせマーク
- 位置合わせマークの配置
- 位置合わせマークの特殊用途
- 位置を合わせるべき2物体上のマーク
- 位置合わせマークの光学的検出
- 検出用光学系
- 位置合わせマークの検出一般及び検出の補助
- X線露光
- X線光学系
- X線源
- X線露光用マスク
- レジスト塗布以前のウェハの表面処理
- レジスト塗布
- ベーキング装置
- 湿式現像,リンス
- ドライ現像
- レジスト膜の剥離
- 多層レジスト膜及びその処理
- 光の吸収膜,反射膜