有機基 と関連性が強い法人一覧

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JSR株式会社 液晶3-2(配向部材)含窒素連結基の形式による高分子化合物一般高分子組成物 液晶配向剤、液晶配向膜及びその製造方法、液晶素子、重合体並びに化合物 技術一覧を見る
東レ株式会社 フォトリソグラフィー用材料ホトレジストの材料含窒素連結基の形式による高分子化合物一般 感光性樹脂組成物 技術一覧を見る
信越化学工業株式会社 高分子組成物けい素重合体ホトレジストの材料 イソシアネート基含有オルガノポリシロキサン化合物、その製造方法、接着剤、粘着剤及びコーティング剤 技術一覧を見る
日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社 フォトリソグラフィー用材料ホトレジスト感材への露光・位置合せホトレジストの材料 ポジ型感光性樹脂組成物 技術一覧を見る
キヤボツトコーポレーション 顔料、カーボンブラック、木材ステインインキ、鉛筆の芯、クレヨン高分子組成物 変性顔料を含むポリマーおよびその製造方法 技術一覧を見る
住友ベークライト株式会社 フォトリソグラフィー用材料エポキシ樹脂高分子組成物 複合材料用樹脂組成物および成形品 技術一覧を見る
株式会社カネカ 含窒素連結基の形式による高分子化合物一般高分子組成物硫黄,リン,金属系主鎖ポリマー ビニル系重合体の製造方法 技術一覧を見る
日立化成株式会社 フォトリソグラフィー用材料ホトレジストの材料ホトレジスト感材への露光・位置合せ 感光性樹脂組成物、フィルム状接着剤、接着シート、接着剤パターン、接着剤層付半導体ウェハ及び半導体装置 技術一覧を見る
旭化成イーマテリアルズ株式会社 フォトリソグラフィー用材料ホトレジストの材料半導体の露光(電子、イオン線露光を除く) エポキシ樹脂組成物 技術一覧を見る
株式会社豊田中央研究所 ナノ構造物けい素重合体触媒 レーザー脱離イオン化質量分析法 技術一覧を見る
東京応化工業株式会社 フォトリソグラフィー用材料半導体の露光(電子、イオン線露光を除く)高分子組成物 樹脂組成物、硬化物の製造方法、及び硬化物 技術一覧を見る
住友化学株式会社 有機半導体材料薄膜トランジスタ高分子組成物 樹脂複合体の製造方法 技術一覧を見る
ダイキン工業株式会社 塗料、除去剤有機低分子化合物及びその製造付加系(共)重合体、後処理、化学変成 含フッ素化合物の製造方法 技術一覧を見る
積水化学工業株式会社 ガラスの接着高分子組成物エレクロ、電気泳動、可変反射吸収素子 エポキシ樹脂、エポキシ樹脂硬化体及びエポキシ樹脂の製造方法 技術一覧を見る
ルネサスエレクトロニクス株式会社 ホトレジストの材料フォトリソグラフィー用材料絶縁膜の形成 カチオン伝導体、中間体、高分子電解質膜および電池 技術一覧を見る
東洋紡株式会社 合成繊維含窒素連結基の形式による高分子化合物一般編地 ポリイミド前駆体及びポリイミド前駆体溶液 技術一覧を見る
旭硝子株式会社 対水表面処理用物質第4族元素を含む化合物及びその製造有機低分子化合物及びその製造 光学補償膜および電極基板 技術一覧を見る
三菱化学株式会社 有機低分子化合物及びその製造ナノ構造物珪素及び珪素化合物 環状化合物錯体の製造方法、半導体層形成用組成物、電子デバイスの製造方法、太陽電池、及び太陽電池モジュール 技術一覧を見る
旭化成メディカル株式会社 フォトリソグラフィー用材料半導体の露光(電子、イオン線露光を除く)ホトレジスト感材への露光・位置合せ 感光性樹脂組成物 技術一覧を見る
関西ペイント株式会社 マクロモノマー系付加重合体けい素重合体塗料、除去剤 積層体及び積層体の製造方法 技術一覧を見る
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