掃引 の意味・用法を知る
掃引 とは、レーダ方式及びその細部 や周波数測定,スペクトル分析 などの分野において活用されるキーワードであり、株式会社アドバンテスト やパナソニック株式会社 などが関連する技術を29,749件開発しています。
このページでは、 掃引 を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
掃引の意味・用法
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平面 掃引 レーダ方式で踏切通行体の検出能力が高い踏切障害物検知装置を実現。
- 公開日:2018/03/01
- 出典:踏切障害物検知装置
- 出願人:大同信号株式会社
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掃引 部は、PBP部で用いるガンマ係数を変更、例えば、掃引する。
- 公開日:2017/12/21
- 出典:受信装置及び設定方法
- 出願人:富士通株式会社
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絶縁性基板上に直線状のエッジ部を持つ導電部を有する試料にイオンビームを照射することで画像取得領域の画像を取得する画像取得方法であって、エッジ部に斜めに交差する第1の方向におけるイオンビームによる等幅走査と、第1の方向と交差する第2の方向への 掃引 とを行なって、画像取得領域よりも広い平行四辺形状の走査領域にイオンビームを照射する第1の動作(ステップS1)と、二次荷電粒子を検出することによって走査領域の画像データを生成する第2の動作(ステップS1)と、走査領域の画像データを演算処理することによって、画像取得領域の画像データを生成する第3の動作(ステップS3)と、画像取得領域の画像データを表示する第4...
- 公開日:2017/04/06
- 出典:画像取得方法およびイオンビーム装置
- 出願人:株式会社日立ハイテクサイエンス
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半導体レーザー源(12)、レーザー制御ユニット(16)、 掃引 パフォーマンスモニタリングデバイス(18,26)、プロセッサ(14)、を備え、掃引における複数の点のうちのそれぞれの点における複数の制御電流は、掃引全体に適用される掃引後のフィードバックループを用いて、前記掃引パフォーマンスモニタリングデバイスからのデータに基づいて、所望の波長対時間プロファイルをつくるように調整される掃引レーザーシステム(10,20)。
- 公開日:2017/06/08
- 出典:波長連続及び規定された時間に対する波長掃引をレーザーから動的及び適応的に生成するシステム及び方法
- 出願人:インサイトフォトニックソリューションズ,インコーポレイテッド
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この配列は、連続 掃引 セグメント間の最小限要求される重複を減少させることを可能にする。
- 公開日:2016/02/25
- 出典:光システムにおいて周波数歪および偏光誘因効果を補償するシステムおよび方法
- 出願人:ファズテクノロジーリミテッド
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図6は、バッチ材料表層温度T34S(△)及びバッチ材料コア温度T34C(◇)の測定値から圧力差ΔPがどのように計算されるかを示す、図5Aから5Cに示される 掃引 曲線を象徴する仮想掃引曲線である 図7Aは、回転速度及びバレル温度が変えられ、バッチ水量が15.5%に一定に保たれた場合の押出プロセス例についての掃引曲線であり、それぞれの押出品の外形形状(所望の形状SD及び測定された形状SMのいずれも)が対応する掃引曲線について示されている。
- 公開日:2017/06/01
- 出典:押出セラミックハニカム構造の実時間閉ループ形状制御
- 出願人:コーニングインコーポレイティッド
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本発明は、二重レーザ周波数 掃引 干渉法(二重掃引FSI)に用いるシステムおよび方法に関する。
- 登録日:2019/03/01
- 出典:二重レーザ周波数掃引干渉測定システムおよび方法
- 出願人:エヌピーエルマネージメントリミテッド
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次に、卑電位側から貴電位側に 掃引 するときに前記第1保持電位に到達した時点で電位を保持し、さらに、この第1保持電位から卑電位側に掃引を行う際、所定の第2保持電位に到達した時点で電位を保持する。
- 公開日:2016/07/21
- 出典:電極触媒評価方法
- 出願人:本田技研工業株式会社
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ロボットが非常停止を実施した場合のロボットの 掃引 空間を算出するシミュレーション装置を提供する。
- 公開日:2017/08/24
- 出典:掃引空間を算出するロボットのシミュレーション装置
- 出願人:ファナック株式会社
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掃引 光信号を参照アームと試料アームとの間で分割し、参照アームと試料アームとから戻る光信号を合わせて干渉信号を生成する干渉計と、掃引光信号を生成する光掃引源システムであって、少なくとも2種類の掃引速度で周波数走査を行うように制御される、光掃引源システムと、掃引速度に応じて、異なる光周波数サンプリング間隔で、干渉信号を検出する検出システムとを備える。
- 公開日:2015/04/30
- 出典:最適化されたKクロックを有する多速度OCT掃引光源
- 出願人:アクサン・テクノロジーズ・エルエルシー
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半導体レーザ
- 半導体レーザの構造(垂直共振器を除く)−(1)
- 半導体レーザの構造(垂直共振器を除く)−(2)
- 垂直共振器を有するレーザの構造
- モノリシックな集積(同じ成長基板上に複数の素子を備えたもの)
- 半導体の積層方向の構造−1
- 半導体の積層方向の構造−2
- 活性層の材料系−基板材料
- 不純物に特徴があるもの
- 電極構造・材料に特徴があるもの
- 被覆構造・材料に特徴があるもの
- 製造方法1
- 製造方法2
- 課題・目的
- レーザ動作のタイプ
- モジュール・パッケージの用途
- モジュール・パッケージのタイプ(典型的なタイプを抽出)
- マウント・モジュール・パッケージにおける目的
- LDチップのマウント
- パッケージ・光モジュールの構成
- 発明の特徴となっている組合せ光学要素(LDチップ外)
- 駆動におけるレーザーのタイプ
- 用途(駆動)
- 駆動において特徴となる目的
- 安定化制御(主に検知・帰還制御)
- 駆動制御
- 異常対策
- 回路構成に特徴があるもの
- 被試験・被検査形状
- 試験・検査する項目
- 試験・検査において特徴と認められる点
- 試験・検査の内容