アニーリング の意味・用法を知る

アニーリング 、研磨および堆積のサイクルは、漏れのない膜システムが提供されるまで１つ以上のサイクルを通して繰り返される。

• 公開日：2017/04/13
• 出典：担持されたガス分離膜を作製する方法
• 出願人：シエル・インターナシヨナル・リサーチ・マートスハツペイ・ベー・ヴエー

このようにして、各パルスはマイクロ アニーリング 周期を終了する。

• 公開日：2017/11/30
• 出典：パルス列アニーリング方法および装置
• 出願人：アプライドマテリアルズ，インコーポレイティド

ブレーカは、固定接点５を有する固定接点金属板４と、固定接点５と対向する位置に配置してなる可動接点７を有し、この可動接点７を弾性的に固定接点５に押圧する弾性金属板からなる可動接点金属板６と、この可動接点金属板６を温度変化で変形してオンオフに切り換える位置に配置してなるバイメタル８と、固定接点金属板４の固定接点５と可動接点金属板６の可動接点７とを内部に配置し、かつバイメタル８を内部に配置している外装ケース１とを備え、組み立て状態において熱処理炉８０で アニーリング されたブレーカで、可動接点金属板６を、熱伝導率を２００Ｗ／ｍ・Ｋ以上とする弾性金属板としている。

• 公開日：2017/08/24
• 出典：ブレーカとこのブレーカの製造方法、及びブレーカを備える電池パックの製造方法
• 出願人：大塚テクノ株式会社

いくつかの実施形態では、ミクロゲル粒子の アニーリング は、露光等の開始剤の存在を必要とする。

• 公開日：2017/08/10
• 出典：生物医学的応用のための制御可能な自己アニーリング型ミクロゲル粒子
• 出願人：ザ・レジェンツ・オブ・ザ・ユニバーシティ・オブ・カリフォルニア

高品質鋼管をその後の処理工程でストランディング可能にすると同時にこの処理が実施される場所への管の搬送を可能にするオーステナイト高品質鋼から管を製造する対応する方法を提供するために、本発明により、方法に、管をコイル状に巻く工程及びコイル状に巻いた管を冷間成形の後で１１００℃から１２００℃の範囲の温度で アニーリング する工程をさらに含めることが提案される。

• 公開日：2017/10/12
• 出典：ステンレス鋼管の製造方法及びステンレス鋼管
• 出願人：サンドヴィックマテリアルズテクノロジードイチュラントゲーエムベーハー

ＣｏＳｂ３−ｘ−ｙＳｉｘＴｅｙ（ここで、０．００３＜ｘ＜０．２５、０．０２５＜ｙ＜０．４０）また、 アニーリング により、熱電性能を更に向上させることができる。

• 公開日：2016/04/28
• 出典：ケイ素及びテルルをドープしたスクッテルダイト熱電変半導体、その製造方法及びそれを用いた熱電発電素子
• 出願人：国立研究開発法人物質・材料研究機構

基板に アニーリング 工程を遂行できる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。

• 公開日：2017/02/02
• 出典：基板処理装置及び基板処理方法
• 出願人：ピーエスケー・インコーポレーテッド

...１０ｃｍの距離で取り囲む雰囲気の２８０℃ないし該ポリマーのガラス転移温度まで、好ましくは２８０〜３７０℃、特に好ましくは２８５〜３６０℃、極めて特に好ましくは２９０〜３５０℃の温度で、殊に好ましくは３００〜３４０℃で、極めて殊に好ましくは３０５〜３３０℃で及び特に好ましくは３１０〜３２０℃で、該膜を アニーリング する工程を含むことを特徴とし、該膜が、該アニーリング中に、０．５体積％以下の酸素含量を有するガス雰囲気、好ましくは、対応する低い酸素含量を有する不活性ガス、特に好ましくは窒素により取り囲まれているか、もしくは対応するガス流により周りを洗われることを特徴とする、ポリイミド膜の製造方法。

• 公開日：2016/09/23
• 出典：ポリイミド膜の製造方法
• 出願人：エボニックファイバースゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング

...を行う予熱工程としての第２の工程と、所定の延伸温度下で、前記鋳造材薄膜が引き延ばされる縦方向の延伸倍率（ＭＤ）及び横方向の延伸倍率（ＴＤ）が、何れも１．０〜５．０倍で該鋳造材薄膜に対して二軸同期延伸の引き延ばし工程を行う延伸工程としての第３の工程と、所定の アニーリング 温度下で、前記鋳造材薄膜に対してアニーリングを行い、該鋳造材薄膜をその縦方向及び横方向の両者において同期収縮させるアニーリング工程としての第４の工程と、所定の冷却温度下で、前記鋳造材薄膜に対して冷却を行い、出力位相差膜を出力する冷却工程としての第５の工程と、を備えたことを特徴とする二軸同期延伸方式による位相差膜の製造方法。

• 公開日：2018/01/25
• 出典：二軸同期延伸方式による位相差膜の製造方法及びその位相差膜
• 出願人：穎台科技股ふん有限公司

しかしながら、 アニーリング を行う炉体の状態によって面内分布が発生し、同一面内でも部分的にアモルファスシリコンの結晶構造に欠陥が生じる。

• 公開日：2021/03/11
• 出典：荷電粒子線装置
• 出願人：株式会社日立ハイテクサイエンス