基板材料 の意味・用法を知る
基板材料 とは、プリント板の製造 やホトレジスト感材への露光・位置合せ などの分野において活用されるキーワードであり、パナソニック株式会社 や富士フイルム株式会社 などが関連する技術を36,811件開発しています。
このページでは、 基板材料 を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
基板材料の意味・用法
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基板材料 と；その基板の表面の少なくとも一部に結合したポリマー被覆材料と、アンチトロンビンIII結合活性を持っていてそのポリマー被覆材料の少なくとも一部に共有結合した、オリゴ糖又は多糖である複数の生物活性物質と；上記ポリマー被覆材料に非共有結合した、多糖である生体適合性有機組成物とを含む医療装置であって、前記多糖はヘパリン、硫酸デキストラン、又はデキストランから選択され、上記生物活性物質のアンチトロンビンIII結合活性が、上記基板材料の殺菌の後、または圧縮と膨張の後に、基板材料1平方センチメートル当たり少なくとも5ピコモルのアンチトロンビンIII（ピコモル/cm2）である医療装置。
- 公開日：2016/11/17
- 出典：物理的操作または殺菌の後に大きな生物活性を有する固定化された生物活性物質
- 出願人：ダブリュ．エル．ゴアアンドアソシエイツ，インコーポレイティド
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レリーフ部はヘッドの前面で開口し、露出領域が 基板材料 に当たる時に、レリーフ部が基板材料の一部を収容する。
- 公開日：2017/06/29
- 出典：圧縮圧入留め具装置
- 出願人：エスアールシステムズリミテッドライアビリティカンパニー
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独国特許第１０２００５０２４５１２号明細書 独国特許出願公開第１０２００７０３９２９１号明細書 本目的のためには、光透過性で平坦な 基板材料 からなる可撓性の形状変形例を有する窓要素（自由形状窓）であって、１ｍｍ〜１００ｍｍの範囲の要求される小型形式でコスト効率良く製造することができ、密閉（真空気密）してはんだ付けすることができ、かつ上記用途に対して長期にわたって安定している窓要素を提供する
- 公開日：2016/09/01
- 出典：筐体内に密閉封止してはんだ付けすることができる窓要素を製造するための方法、および前記方法によって製造された自由形状窓要素
- 出願人：イエーノプティークオプティカルシステムズゲーエムベーハー
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改善された方法によって、 基板材料 が、被覆又はコーティングされた医療機器の提供。
- 公開日：2014/05/29
- 出典：高度の生物活性を持つ固定化された生物活性物質
- 出願人：ダブリュ．エル．ゴアアンドアソシエイツ，インコーポレイティド
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基板材料 と；該基板材料の表面の少なくとも一部に結合したポリマー被覆材料であって、ヘパリンコファクターII結合活性を有する複数の生物活性物質が少なくとも一部に共有結合した該ポリマー被覆材料と；を含んでいて、該生物活性物質のヘパリンコファクターII結合活性が、１平方センチメートル当たり少なくとも５ピコモル（ｐｍｏｌ／ｃｍ２）のヘパリンコファクターIIである医療機器。
- 公開日：2016/05/26
- 出典：高度の生物活性を持つ固定化された生物活性物質
- 出願人：ダブリュ．エル．ゴアアンドアソシエイツ，インコーポレイティド
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従来の分割装置の問題点、すなわち搬送方向の上流側の残存する 基板材料 が残りわずかな場合に、該残存する基板材料が分割不可能となる点、及び基板材料の個片の整列精度が低下する点、を解消する。
- 公開日：2015/05/11
- 出典：分割装置
- 出願人：株式会社ヒューブレイン
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シート供給又はウエブ供給加工システム、特にシート供給又はウエブ供給加工機又は印刷機におけるシート又はウエブ形状の 基板材料 を照射するデバイスを提供する
- 公開日：2017/01/26
- 出典：シート状又はウエブ状の基板材料を照射するデバイスおよび、当該デバイスの使用
- 出願人：カーベーアー−ノタシソシエテアノニム
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基板材料 は、第１の研削性を有する第１の部分と、第２の研削性を有する第２の部分とを有し、第１の研削性は、第２の研削性とは異なる。
- 公開日：2013/07/18
- 出典：タービンエンジン用シールの研削性の変更
- 出願人：ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ
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このデバイスは、所望の波長又は波長帯の放射を生成する少なくとも一のフレキシブル発光シート（１０）を具え、この発光シート（１０）が、前記 基板材料 （Ｓ）を放射にあてるために前記基板材料（Ｓ）の経路に沿って配置されている。
- 公開日：2014/01/30
- 出典：シート状又はウエブ状の基板材料を照射するデバイスおよび、当該デバイスの使用
- 出願人：カーベーアー−ノタシソシエテアノニム
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無機材料としては、フッ化カルシウム（ＣａＦ），石英（ＳｉＯ２）の 基板材料 ，アルミナ（Ａｌ２Ｏ３），ジルコニア（ＺｒＯ２）等の酸化物セラミックス、窒化ケイ素（Ｓｉ３Ｎ４），窒化ホウ素（ＢＮ），窒化チタン（ＴｉＮ）等の窒化物セラミックス、炭化ケイ素（ＳｉＣ），タングステンカーバイド（ＷＣ）等の炭化物系セラミックス等が例示される。
- 公開日：2019/08/08
- 出典：溶射用材料
- 出願人：株式会社フジミインコーポレーテッド
基板材料の特徴 に関わる言及
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結晶、結晶のための後処理
- 目的・対象とする結晶の形態
- 結晶自体の特徴（クレーム）
- 材料１（元素状、合金）
- 材料２（酸化物）
- 材料３（複合酸化物）
- 材料４（酸素酸塩）
- 材料５（〜化物）
- 材料６（有機物）
- 固相成長
- 液相成長１（常温で液体の溶媒を使用する）
- 液相成長２（溶融溶媒を使用するもの）ＣＧ優先
- 液相成長３（融液の凝固によるもの）
- 液相成長４（ゾーンメルティング）
- 液相成長５（融液からの引き出し）
- 液相成長６（液相エピタキシャル）
- 気相成長１（蒸着、昇華）
- 気相成長２（ＣＶＤ）
- 結晶成長共通１（成長条件の制御）固相成長を除く
- 結晶成長共通２（不純物のドーピング）
- 結晶成長共通３（原料の調製、原料組成）
- 結晶成長共通４（種結晶、基板）
- 結晶成長共通５（成長前の基板の処理、保護）
- 結晶成長共通６（基板への多層成長）
- 結晶成長共通７（装置、治具）
- 結晶成長共通８（検知、制御）
- 結晶成長共通９（特定の成長環境の付加）
- 後処理１（拡散源、その配置）
- 後処理２（後処理のための基板表面の前処理）
- 後処理３（気相からのドーピング）
- 後処理４（電磁波、粒子線照射によるドーピング）
- 後処理５（加熱、冷却処理）
- 後処理６（結晶の接合）
- 後処理７（エッチング、機械加工）
- 後処理８（電場、磁場、エネルギー線の利用）
- 後処理９（その他）
- 後処理１０（装置、治具の特徴）
- 結晶の物理的、化学的性質等の評価、決定
- 用途
- 固相からの直接単結晶成長
- 単結晶成長プロセス・装置
- 圧力を加えるもの 例、水熱法
- 塩溶媒を用いるもの 例、フラックス成長
- るつぼ、容器またはその支持体
- ノ−マルフリ−ジングまたは温度勾配凝固
- ゾ−ンメルティングによる単結晶成長、精製
- 溶媒を用いるもの
- るつぼ、容器またはその支持体
- 誘導による溶融ゾ−ンの加熱
- 電磁波による加熱（集光加熱等）
- 制御または調整
- 材料またはヒ−タ−の移動機構、保持具
- 融液からの引出し（保護流体下も含む）
- 結晶化物質（原料）、反応剤の充填、添加
- 引出し方向に特徴
- 融液を入れるるつぼ、容器またはその支持体
- 融液、封止剤または結晶化した物質の加熱
- 制御または調整
- 融液、封止剤、結晶の回転、移動機構
- 種結晶保持器
- 種結晶
- 縁部限定薄膜結晶成長
- 液相エピタキシャル成長
- 特殊な物理的条件下での単結晶成長
- ＰＶＤ
- イオン化蒸気の凝縮
- 分子線エピタキシャル法
- ＣＶＤ
- エピタキシャル成長法、装置
- 製造工程
- 反応室
- 反応室または基板の加熱
- 基板保持体またはサセプタ
- 基板とガス流との関係
- ガスの供給・排出手段；反応ガス流の調節
- 制御または調節
- 基板
- 特殊な物理的条件下での単結晶成長
