円柱形 の意味・用法を知る
円柱形 とは、洗浄、機械加工 や継手 などの分野において活用されるキーワードであり、パナソニック株式会社 やキヤノン株式会社 などが関連する技術を101,576件開発しています。
このページでは、 円柱形 を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
円柱形の意味・用法
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...タンプレポリマーと第一の連続相硬化剤との反応生成物である工程、(P)側ポリオール類、(P)側ポリアミン類及び(P)側アルコールアミン類の少なくとも一つを含むポリ側(P)液状成分を提供する工程、少なくとも一つの多官能イソシアネート類を含むイソ側(I)液状成分を提供する工程、加圧ガスを提供する工程、内部 円柱形 チャンバを有する軸混合装置を提供する工程であって、前記内部円柱形チャンバが、閉止端、開放端、対称軸、前記内部円柱形チャンバに通じる少なくとも一つの(P)側液体供給ポート、前記内部円柱形チャンバに通じる少なくとも一つの(I)側液体供給ポート、及び前記内部円柱形チャンバに通じる少なくとも一つの接線...
- 公開日:2017/03/16
- 出典:ケミカルメカニカル研磨パッドのための複合研磨層の製造方法
- 出願人:ロームアンドハースエレクトロニックマテリアルズシーエムピーホウルディングスインコーポレイテッッド
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...記ベースが、その中に形成された溝パターンのネガを有する、工程、(P)側ポリオール類、(P)側ポリアミン類及び(P)側アルコールアミン類の少なくとも一つを含むポリ側(P)液状成分を提供する工程、少なくとも一つの多官能イソシアネート類を含むイソ側(I)液状成分を提供する工程、加圧ガスを提供する工程、内部 円柱形 チャンバを有する軸混合装置を提供する工程であって、前記内部円柱形チャンバが、閉止端、開放端、対称軸、前記内部円柱形チャンバに通じる少なくとも一つの(P)側液体供給ポート、前記内部円柱形チャンバに通じる少なくとも一つの(I)側液体供給ポート、及び前記内部円柱形チャンバに通じる少なくとも一つの接線...
- 公開日:2017/01/19
- 出典:ケミカルメカニカル研磨パッドのための研磨層の製造方法
- 出願人:ロームアンドハースエレクトロニックマテリアルズシーエムピーホウルディングスインコーポレイテッッド
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誘電体領域は、 円柱形 導電性フィールドプレート部材を狭い領域から横方向に分離する。
- 公開日:2015/06/22
- 出典:円柱形領域をもつ縦型トランジスタ装置構造
- 出願人:パワーインテグレーションズ、インコーポレイテッド
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本発明は、ガス成分を含まない純度が99.99%以上で鉄、ニッケルなどの不純物が少ない 円柱形 状の高純度チタン素材について、前記円柱形状の外周方向から均等に温間鍛造加工を実施する工程(第1の温間鍛造)と、前記第1の温間鍛造工程を経た円柱形状のチタン材を切断し、前記円柱形状の軸方向に平行な方向に温間鍛造加工を実施する工程(第2の温間鍛造)と、冷間圧延工程と、熱処理工程とを経た後、機械加工してスパッタリングターゲットを作製する工程であるスパッタリングターゲットの製造方法、および前記製造方法を適用したスパッタリングターゲットである。
- 公開日:2016/08/12
- 出典:スパッタリングターゲットの製造方法
- 出願人:株式会社東芝
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...定レールを貫通し、ロータの外周面に沿ってピストン(6)が設けられており、ピストン(6)はピストン回転軸(7)を介してロータに回転可能に連結され、ピストン回転軸(7)はロータ上に固定され、ピストン(6)はピストン回転軸(7)周りに円周揺動し、ロータにピストン溝(5)が設けられており、ピストン溝(5)は 円柱形 ロータ(3)の軸方向両端に貫通し、ピストン(6)はピストン溝(5)内に配置され、ピストン(6)は頂部円弧面(12)、底部円弧面(10)、および側部円弧面(11)を備え、ピストン(6)の3つの角の間を結ぶ線が正三角形をなし、ピストン回転軸(7)の軸心は、ロータと同心である同一半径の円周線上に位置...
- 登録日:2019/08/02
- 出典:固定レール式ロータポンプおよび固定レール式ロータポンプ組み合わせ過給内燃エンジン
- 出願人:張翼
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複数のコア部材により環状形状を成し、その少なくとも一部にコイル5a、5bが巻回されてリアクトルに用いられるコアであって、周囲にコイル5a、5bが巻回される一対の脚部11と、当該一対の脚部11を繋ぐ一対の背面部12と、を有し、脚部11は、その断面形状が円形又は楕円形状の 円柱形 状を有する圧粉磁心であり、背面部13は、円柱形状の脚部11の側面に沿った形状で切欠かれた切欠き部13aを有し、円柱形状の脚部11の側面が切欠き部13aに沿って配置され、環状形状を成す。
- 公開日:2017/01/19
- 出典:リアクトル
- 出願人:株式会社タムラ製作所
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発光ダイオード素子LDから生じる光が入射する 円柱形 状入射部110とこの円柱形状入射部110と連続して形成されて円柱形状入射部110に入射した光を被照射外方域へ出射する鐘形状出射部120とを備え、鐘形状出射部120が、円柱形状入射部110と反対側に関数y=x2÷6の曲線で定まる凸曲面121を有するとともに、円柱形状入射部110が、鐘形状出射部120と反対側に凹曲面111を有している発光ダイオード用レンズ100。
- 公開日:2015/12/07
- 出典:発光ダイオード用レンズ
- 出願人:伸和エクセル株式会社
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本発明に係る自己タップねじは、頭部1と該頭部1から垂下する軸部2を備え、該軸部2は頭部直下の 円柱形 軸部2aと該円柱形軸部2aの先端に連続する截頭円錐形軸部2bとから成り、上記円柱形軸部2aに複数の第一雄ねじ山3aを形成すると共に該第一雄ねじ山3aに続く第二雄ねじ山3bを上記截頭円錐形軸部2bに複数形成し、該各第二雄ねじ山3bの頂部に凹凸形態を備える喰い付き面4を形成したことを特徴とする。
- 公開日:2016/09/05
- 出典:自己タップねじ及びその製造方法
- 出願人:クラウン精密工業株式会社
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一方、リニアガイドに瞬間的に衝撃が加えられた場合には、 円柱形 状のローラがスライドテーブルを支持する。
- 公開日:2013/06/27
- 出典:ガイド部材、リニアガイド及びガイド付きシリンダ
- 出願人:CKD株式会社
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...、22をスポークの間に差し込んで、長尺な操作棒11の把持部12を掴んで操作するウィルキ10であって、操作棒は第1突棒が一体の第1先端部13と、第2突棒が一体の第2先端部14とを先端側に備えて、第2先端部が把持部側本体部と一体の円筒形状に形成され、第1先端部が該本体部と別体で当該円筒形状内に差込可能な 円柱形 状部15を有して長さ方向に相対移動自在に連結されるスライド構造に作製されており、第2先端部内の円柱形状空間16内に雌ネジ部18が、第1先端部の円柱形状部に雄ネジ部17が形成されて相対回転自在に連結するネジ構造に作製され、その相対回転を制限するストッパ溝19とストッパネジ25とを具備する。
- 公開日:2014/08/14
- 出典:輪形ハンドル用回転器具
- 出願人:中国電力株式会社
円柱形の原理 に関わる言及
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二つ以上の回転することが出来る 円柱形 によって円柱形のトイレットペーパーの重量を複数の軸に分散することが出来るので、一軸によって支えるよりも、円柱形のトイレットペーパーの重量のより重いものを支え、回転させることができる。
- 公開日: 2001/04/17
- 出典: 円柱形のトイレットペーパーの外周に接触して回転することができる形状を特徴とするトイレットペーパー引き出し巻き込み器具
- 出願人: 高橋祐司
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また、この寸法測定装置100による 円柱形 被測定材Wの全周にわたる外形寸法の測定あるいは軸振れ量の測定は、円柱形被測定材Wを回転させたり、寸法測定装置100を円柱形被測定材Wを中心として回転させることによりなされている。
- 公開日: 2001/11/16
- 出典: 光学式測定方法および光学式測定装置
- 出願人: 大同特殊鋼株式会社
円柱形の問題点 に関わる言及
円柱形の特徴 に関わる言及
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化石燃料による排気ガス公害を減す手段として竹粉炭、キチンキトサンカルシウム粉末を用途に応じ混合、大きさを決め粘着材を添加、練炭を作る様に小さな空洞を多数設け高温圧縮させた 円柱形 排気ガスフィルターとして環境浄化を計る。
- 公開日: 2002/04/09
- 出典: 化石燃料による排気ガス公害を減す手段として竹粉炭、キチンキトサンカルシウム粉末を用途に応じ混合、大きさを決め粘着材を添加、練炭を作る様に小さな空洞を多数設け高温圧縮させた円柱形排気ガスフィルターである。
- 出願人: 有限会社相互無線
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また、底栓の突起部の形状としては、例えば、半円盤形、円錐形、角錐形、 円柱形 、角柱形、半球形のような形状が好ましく、突起部を有する底栓は射出成形やブロー成形によって作製することができる。
- 公開日: 1996/08/27
- 出典: 栄養剤調製容器
- 出願人: テルモ株式会社
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サンゴ着生基盤の形状は、半円球状に限らず、例えば、円筒形、 円柱形 、円錐形、角柱形、角錐形、裁頭円錐形、裁頭角柱形等の擬似ドーム形でも支障がない。要は、サンゴ産卵時に海流に乗ってサンゴの卵が流漂してくるが、どの方向からでも着生可能な形状であれば良い。
- 公開日: 2009/10/15
- 出典: サンゴ育成増殖装置
- 出願人: 三井造船株式会社
円柱形の使用状況 に関わる言及
注目されているキーワード
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結晶、結晶のための後処理
- 目的・対象とする結晶の形態
- 結晶自体の特徴(クレーム)
- 材料1(元素状、合金)
- 材料2(酸化物)
- 材料3(複合酸化物)
- 材料4(酸素酸塩)
- 材料5(〜化物)
- 材料6(有機物)
- 固相成長
- 液相成長1(常温で液体の溶媒を使用する)
- 液相成長2(溶融溶媒を使用するもの)CG優先
- 液相成長3(融液の凝固によるもの)
- 液相成長4(ゾーンメルティング)
- 液相成長5(融液からの引き出し)
- 液相成長6(液相エピタキシャル)
- 気相成長1(蒸着、昇華)
- 気相成長2(CVD)
- 結晶成長共通1(成長条件の制御)固相成長を除く
- 結晶成長共通2(不純物のドーピング)
- 結晶成長共通3(原料の調製、原料組成)
- 結晶成長共通4(種結晶、基板)
- 結晶成長共通5(成長前の基板の処理、保護)
- 結晶成長共通6(基板への多層成長)
- 結晶成長共通7(装置、治具)
- 結晶成長共通8(検知、制御)
- 結晶成長共通9(特定の成長環境の付加)
- 後処理1(拡散源、その配置)
- 後処理2(後処理のための基板表面の前処理)
- 後処理3(気相からのドーピング)
- 後処理4(電磁波、粒子線照射によるドーピング)
- 後処理5(加熱、冷却処理)
- 後処理6(結晶の接合)
- 後処理7(エッチング、機械加工)
- 後処理8(電場、磁場、エネルギー線の利用)
- 後処理9(その他)
- 後処理10(装置、治具の特徴)
- 結晶の物理的、化学的性質等の評価、決定
- 用途
- 固相からの直接単結晶成長
- 単結晶成長プロセス・装置
- 圧力を加えるもの 例、水熱法
- 塩溶媒を用いるもの 例、フラックス成長
- るつぼ、容器またはその支持体
- ノ−マルフリ−ジングまたは温度勾配凝固
- ゾ−ンメルティングによる単結晶成長、精製
- 溶媒を用いるもの
- るつぼ、容器またはその支持体
- 誘導による溶融ゾ−ンの加熱
- 電磁波による加熱(集光加熱等)
- 制御または調整
- 材料またはヒ−タ−の移動機構、保持具
- 融液からの引出し(保護流体下も含む)
- 結晶化物質(原料)、反応剤の充填、添加
- 引出し方向に特徴
- 融液を入れるるつぼ、容器またはその支持体
- 融液、封止剤または結晶化した物質の加熱
- 制御または調整
- 融液、封止剤、結晶の回転、移動機構
- 種結晶保持器
- 種結晶
- 縁部限定薄膜結晶成長
- 液相エピタキシャル成長
- 特殊な物理的条件下での単結晶成長
- PVD
- イオン化蒸気の凝縮
- 分子線エピタキシャル法
- CVD
- エピタキシャル成長法、装置
- 製造工程
- 反応室
- 反応室または基板の加熱
- 基板保持体またはサセプタ
- 基板とガス流との関係
- ガスの供給・排出手段;反応ガス流の調節
- 制御または調節
- 基板
- 特殊な物理的条件下での単結晶成長