二酸化ケイ素 の意味・用法を知る

ガスバリアフィルムは、高分子基材１の少なくとも片面に、以下の［Ａ１］層２ａ、［Ｂ１］２ｂ層、［Ａ２］層２ｃ、［Ｂ２］層２ｄを高分子基材１側からこの順に有する積層体。［Ａ１］層２ａ：酸化亜鉛と 二酸化ケイ素 とを含み、厚みが１０〜５０ｎｍである層、［Ｂ１］層２ｂ：ケイ素化合物を含み、厚みが１０〜５０ｎｍである層、［Ａ２］層２ｃ：酸化亜鉛と二酸化ケイ素とを含み、厚みが５０〜５００ｎｍである層、［Ｂ２］層２ｄ：ケイ素化合物を含み、厚みが５０〜５００ｎｍである層

• 公開日：2016/07/11
• 出典：積層体
• 出願人：東レ株式会社

タイヤ製造用の 二酸化ケイ素 を含有するゴムコンパウンドであって、少なくとも１つの架橋性不飽和鎖を有するポリマーベース、二酸化ケイ素、シラン結合剤、加硫系および、結果的に、その芳香族環の少なくとも一部がアミン置換基で置換されるリグニンを含む、コンパウンド。

• 公開日：2017/02/23
• 出典：タイヤ製造用の二酸化ケイ素を含有するゴムコンパウンド
• 出願人：株式会社ブリヂストン

燃焼室圧力センサの製造のための、特に燃焼室圧力センサの絶縁体の製造のための射出成形法のための、セラミックス成分を５０質量%以上の含量で有し、かつガラス成分を５０質量%以下の含量で有するセラミックス材料であって、前記セラミックス成分が酸化アルミニウムを有し、かつ前記ガラス成分が 二酸化ケイ素 または二酸化ケイ素前駆体を有し、かつ更にアルカリ土類金属酸化物もしくはアルカリ土類金属酸化物前駆体が備えられている前記セラミックス材料を提供する。

• 公開日：2014/07/24
• 出典：セラミックス材料およびセラミックス射出成形法
• 出願人：ローべルトボツシユゲゼルシヤフトミツトベシユレンクテルハフツング

前記第１の繊維および前記第２の繊維は、 二酸化ケイ素 で形成されている請求項１記載の繊維構造体。

• 公開日：2017/02/16
• 出典：繊維構造体およびそれを用いたバイオチップ、細胞培養用基板、およびフィルター
• 出願人：パナソニックＩＰマネジメント株式会社

シリコン凸条パターンを熱酸化して形成される 二酸化ケイ素 凸条パターンの長さ方向の歪みや傾き、倒れを低減する。

• 公開日：2016/04/04
• 出典：凹凸パターン及び光学素子並びに凹凸パターンの形成方法及び光学素子の形成方法
• 出願人：リコーインダストリアルソリューションズ株式会社

エッチング装置は構造が単純で低コストであり、エッチング装置によるエッチング方法を用いて 二酸化ケイ素 基板をエッチングすることにより、エッチングプロセスのコストを低減することができる。

• 公開日：2017/12/07
• 出典：二酸化ケイ素基板のエッチング方法およびエッチング装置
• 出願人：北京北方華創微電子装備有限公司

前記［Ｂ］層が、以下の［Ｂ１］層または［Ｂ２］層のいずれかである請求項２に記載のガスバリア性フィルム。［Ｂ１］層：酸化亜鉛と 二酸化ケイ素 と酸化アルミニウムの共存相からなる層［Ｂ２］層：硫化亜鉛と二酸化ケイ素の共存相からなる層

• 公開日：2016/10/27
• 出典：ガスバリア性フィルム
• 出願人：東レフィルム加工株式会社

二酸化ケイ素 と水溶性高分子と水とを含有する研磨用組成物であって、前記二酸化ケイ素には前記水溶性高分子を含む吸着物が吸着され、研磨用組成物における前記吸着物の炭素換算濃度が４質量ｐｐｍ以上であり、且つ研磨用組成物の全炭素濃度に対する前記吸着物の炭素換算濃度の百分率が１５％以上である研磨用組成物。

• 公開日：2017/06/08
• 出典：研磨用組成物、及び研磨用組成物の製造方法
• 出願人：株式会社フジミインコーポレーテッド

除害装置３０において、循環水Ｒ２の酸性度を計測する手段３８を備え、 二酸化ケイ素 の濃度と酸性度計測手段で測定した循環水Ｒ２中のフッ化水素の濃度との比が珪フッ化水素酸を生成可能な所定値以上の場合には、循環水Ｒ２の平均排水流量を低流量に下げ、循環水Ｒ２中の二酸化ケイ素の濃度と循環水Ｒ２中のフッ化水素の濃度との比が所定値未満の場合には、循環水Ｒ２の平均排水流量を低流量より大きい高流量に上げる。

• 公開日：2016/05/26
• 出典：除害装置
• 出願人：エドワーズ株式会社

（１）メトホルミン塩酸塩、ナトリウムカルボキシメチルセルロース；ヒドロキシプロピルメチルセルロース；ステアリン酸マグネシウムを含み；適宜、 二酸化ケイ素 またはコロイド状二酸化ケイ素を含んでいてもよいメトホルミン徐放性製剤である第一層；（２）ダパグリフロジンまたはダパグリフロジン（Ｓ）プロピレングリコール水和物；乳糖無水物、微結晶セルロース、アルファ化デンプン、マンニトールおよびヒドロキシプロピルセルロースから選択される２または３つの増量剤；クロスポビドンである崩壊剤；二酸化ケイ素である流動促進剤；およびステアリン酸マグネシウムである滑沢剤を含むナトリウム依存性グルコース輸送体阻害因子（ＳＧＬＴ２...

• 公開日：2017/05/18
• 出典：二層錠製剤
• 出願人：アストラゼネカ・アクチエボラーグ