下底 の意味・用法を知る

本方案では、表面板と、エンボスの配列された 下底 板と、及び外周の強化枠とは複合材料の卓上板の構造を大幅に簡単にさせ、各合成材料にも適用され、相当の支持強度と、低い製造及び取り付けコストとの特徴があり、そして、美しさが失われない。

• 公開日：2015/09/24
• 出典：複合卓上板の構造
• 出願人：冷鷺浩

本発明の一態様に係るＳｉＣエピタキシャルウェハは、（０００１）面から＜１１−２０＞方向に４度以下のオフセット角を有するＳｉＣ単結晶基板上にＳｉＣエピタキシャル層が形成されたＳｉＣエピタキシャルウェハであって、前記ＳｉＣエピタキシャルウェハに含まれる台形欠陥が、ステップフロー下流側の 下底 の長さがステップフロー上流側の上底の長さ以下である反転した台形欠陥を含む。

• 公開日：2017/12/14
• 出典：ＳｉＣエピタキシャルウェハ、ＳｉＣエピタキシャルウェハの製造方法
• 出願人：昭和電工株式会社

...ル及び加工手段を覆う外装カバー（２８）と、加工手段の加工条件を入力するための操作手段（３０）と、を備える加工装置（２）であって、操作手段は、加工手段による加工状態を表示する表示面（３２ａ）を持つ操作パネル（３２）と、操作パネルを支持する台形状のフレーム（３４）と、を含み、フレームは、鉛直方向に伸びる 下底 部（３４ａ）と、鉛直方向に伸び、下底部の下端よりも上方に下端を持つ上底部（３４ｂ）と、下底部の下端から上底部の下端に向けて斜め上方に伸びる腕部（３４ｃ）と、を備え、鉛直方向に平行な回動軸の周りに回動可能な状態で下底部側を外装カバーに連結されている。

• 公開日：2017/04/20
• 出典：加工装置
• 出願人：株式会社ディスコ

下底 データの手動測定による手間を低減させつつ、露光データ補正量の誤差を抑制し、回路幅精度を向上させる。

• 公開日：2017/02/02
• 出典：露光データ補正装置、配線パターン形成システム、及び配線基板の製造方法
• 出願人：日立化成株式会社

実施形態に係るゲーブルトップ型紙容器（１００）は、台形シート状の底部（１）と、この底部の各辺から一体且つ垂直に設けたシート状の第１乃至第４の側部（２、３、４、５）と、これら４つの側部の底部から離間した上辺（２ａ、３ａ、４ａ、５ａ）と一体に連続して設けた切妻屋根（６）と、底部の台形の 下底 （１１）につながる第１の側部（２）の上辺に連続して設けた切妻屋根の一端側の第１の袖部（３１）と、底部の台形の下底より短い上底（１２）につながる第２の側部（３）の上辺に連続して設けた切妻屋根の他端側の第２の袖部（３２）と、第１の袖部（３１）と第２の袖部（３２）との少なくとも一方に設けた開閉可能な注ぎ口（７、８）と、...

• 公開日：2016/05/09
• 出典：ゲーブルトップ型紙容器
• 出願人：大和製罐株式会社

外筒部１２の上底部１１寄りには、めっき液１が環状流路Ｒに流入する流入口１６が形成され、外筒部２２の 下底 部２１寄りには、めっき液１が環状流路Ｒから流出する流出口２５，２６が形成されている。

• 公開日：2015/12/14
• 出典：表面処理装置
• 出願人：株式会社デンソー

そして、 下底 面５ｂの外周部に治具２６の上端部をあてがうとき、段差５ｃに治具２６の上端部を嵌め込む。

• 公開日：2017/03/30
• 出典：弁体と弁軸の固定方法
• 出願人：愛三工業株式会社

第６実施形態の 下底 板を示す縦断側面図である。

• 公開日：2018/04/05
• 出典：換気靴
• 出願人：株式会社インフォム

本発明の分塊圧延用鋼塊は、上 下底 が長方形で角錐台状のベース形状を有し、厚みが上底に向かって漸増する第一テーパ部、部分円柱凹面状の連結部及び厚みがベース形状まで漸増する第二テーパ部を下底側から順に有し、ベース形状の下底と長辺側側面とが成す傾斜角θ３が７０°以上８９°以下で、分塊圧延ロールの半径及び圧下量をｒ及びｄ、下底における厚み及びベース形状厚みをＤ及びＤ０とした場合、式（１）及び（２）を満たし、第一テーパ部の傾斜角θ２が８０°以上９０°未満、第二テーパ部の傾斜角θ１が４５°以上７５°以下、第一テーパ部の高さＨが１００ｍｍ以上４００ｍｍ以下、連結部の曲率半径が１０ｍｍ以上７０ｍｍ以下である。

• 公開日：2015/10/22
• 出典：厚板用スラブの製造方法
• 出願人：株式会社神戸製鋼所

凸部は断面視で上底２１Ｔが 下底 ２１Ｂよりも小さい略台形状であり、複数の凸部の周期間隔をＰ［ｎｍ］とし、断面視において、凸部の下底の幅をＷ［ｎｍ］とし、凸部の下底に対する側面２１Ｓの傾斜角度をθ［°］としたとき、Ｐが１０〜１０００ｎｍであり、θが７０°以上９０°未満であり、下記式（１）で表されるパラメータＡが０．０３５以下であり、下記式（２）で表されるパラメータＢが２０ｎｍ以下である。

• 公開日：2015/02/05
• 出典：プラズモン共鳴構造体
• 出願人：株式会社クラレ