領域全体 の意味・用法を知る
領域全体 とは、イメージ分析 やその他の放射線取扱い などの分野において活用されるキーワードであり、三菱電機株式会社 やウシオ電機株式会社 などが関連する技術を25,591件開発しています。
このページでは、 領域全体 を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
領域全体の意味・用法
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...ンを管理するための視覚マーカーを復号化するためのプロセッサに実装された方法であって、前記UAVの画像キャプチャモジュールによって、対象上の視覚マーカーの少なくとも1つの画像を、1以上のハードウェアプロセッサを介して、キャプチャするステップと、前記UAVの画像処理モジュールによって、前記視覚マーカーの 領域全体 が、キャプチャされた前記画像に含まれているかを、前記1以上のハードウェアプロセッサを介して、判定するステップと、前記視覚マーカーの領域全体が、キャプチャされた前記画像で視認できないと判明した場合、前記画像処理モジュールによって、前記視覚マーカーの欠落した領域を、前記1以上のハードウェアプロセ...
- 公開日:2018/03/22
- 出典:在庫管理用の無人航空機ナビゲーションのためのシステム及び方法
- 出願人:タタコンサルタンシーサービシズリミテッド
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次に、顆粒状の硫黄51を、カーボンナノチューブが成長した 領域全体 に亘って配置し、加熱工程としてAr雰囲気下で所定温度で所定時間(5分間)加熱した。
- 公開日:2015/06/22
- 出典:リチウム硫黄二次電池用の正極の形成方法及びリチウム硫黄二次電池用正極
- 出願人:株式会社アルバック
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加工 領域全体 形状と深さとで定義される凹部を加工素材に形成するための工具経路を生成する工具経路生成装置(50)であって、加工領域全体形状内から予め設定された条件を満たす円形状領域を複数抽出する渦巻き加工経路基準円生成部(4)と、渦巻き加工経路基準円生成部(4)が抽出した複数の円形状領域あるいは円形状領域の周辺を含む領域を渦巻き状の経路で加工する工具経路と、加工領域全体形状から渦巻き状の工具経路による加工領域を除去した渦巻き加工領域形状とを生成する渦巻き加工経路生成部(6)と、渦巻き加工後加工領域形状を加工する工具経路を生成するトロコイド加工経路生成部(7)とを有する。
- 公開日:2017/04/20
- 出典:工具経路生成装置及び方法
- 出願人:三菱電機株式会社
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先端から所要長さに亘る 領域全体 で光を実質的に均一に照射することのできる線状発光体およびその製造方法を提供する。
- 公開日:2007/06/21
- 出典:線状発光体およびその製造方法
- 出願人:株式会社精工技研
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複数の電子ビーム管から照射される電子ビームを良好に重なり合わせて、被処理物の処理 領域全体 の吸収線量が所定の分布状態になるようにすることにより、被処理物を動かさなくても、被処理物の処理領域全体を一括処理することができる電子ビーム処理装置を提供することにある。
- 公開日:2002/06/26
- 出典:電子ビーム処理装置
- 出願人:ウシオ電機株式会社
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第1の発明による目標選択装置は、赤外線画像センサの画像信号から検出した複数の 領域全体 の重心点の移動方向ベクトルを算出する手段と、上記移動方向ベクトルを画面内で回転させこれに交差した順に領域をならべかえる手段と、あらかじめ設定された順位に相当する領域の位置座標を出力する手段とを備えたものである。
- 公開日:1999/01/26
- 出典:目標選択装置
- 出願人:三菱電機株式会社
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また、図16の右側の図に示される実施例では、DL/UL DMRSは、それぞれ時間方向に連続する2つのリソースエレメントが周波数 領域全体 に分散されて送信される。
- 公開日:2020/03/26
- 出典:ユーザ装置及び基地局
- 出願人:株式会社NTTドコモ
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例えば、Alt 1−2に示されるように、メジャメントサブフレームは、時間方向に関して周期的に周波数 領域全体 で送信されてもよい。
- 公開日:2020/03/26
- 出典:ユーザ装置及び基地局
- 出願人:株式会社NTTドコモ
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その結果、基材31上又は基材31内の光重合開始剤が吸着され且つ重合処理液に接している 領域全体 において、光開始グラフト重合が起こり、高分子膜が形成される。
- 公開日:2020/03/26
- 出典:医療部材及びその製造方法
- 出願人:京セラ株式会社
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摺動阻害の緩和手法2においては、図20(b)に示すように、抽出された摺動阻害箇所Xのみならずショット 領域全体 にドロップレットDrを追加する。
- 公開日:2020/03/26
- 出典:摺動阻害箇所抽出方法、パターン形成方法、及び半導体装置の製造方法
- 出願人:東芝メモリ株式会社
領域全体の原理 に関わる言及
領域全体の問題点 に関わる言及
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適当に間隔を隔てた接着剤ノズルの配置は、また、接着剤ノズルが非常に高価である事情について考慮するものであり、その結果、接着剤を特定のフォーマットに従う 領域全体 にわたって塗布する目的のためであっても、等価値的に減少された数の接着剤ノズルが必要であるに過ぎない。
- 公開日: 2001/02/27
- 出典: フォーマットの接着剤塗布部をトランスファーローラーに塗布するための装置
- 出願人: ヴィントメーラーウントヘルシャーコマンディトゲゼルシャフト
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この方法の更に別の特定の実施形態によれば、上記方法は、分析すべき人の皮膚の限定された表面領域を選択し、その表面領域上で、皮膚欠陥をこの表面 領域全体 にわたって分析することを特徴とする。
- 公開日: 2010/11/11
- 出典: 皮膚欠陥を特性化する方法及び装置、並びに化粧用薬剤、外皮用薬剤、又は薬剤を使用する皮膚欠陥のための処置の有効性を評価する方法
- 出願人: エルブイエムエイチレシェルシュ