露光装置 の意味・用法を知る

また、例えば、上記実施形態では、近接 露光装置 として分割逐次近接露光装置と走査式近接露光装置とを説明したが、これに限定されず、一括式、逐次式、走査式等のいずれの近接露光装置にも適用することができる。

• 公開日： 2013/06/20
• 出典： 露光装置、露光方法、マスク、及び被露光基板
• 出願人： 株式会社ＶＮシステムズ

鏡筒を取り替えたり搬送したりする際に、鏡筒を安定して鏡筒用搬送装置によって保持するとともに、その作業をより簡単に行うことができる鏡筒及び鏡筒用搬送装置並びに 露光装置 を提供する。

• 公開日： 2005/09/29
• 出典： 鏡筒及び鏡筒用搬送装置並びに露光装置
• 出願人： 株式会社ニコン

しかしながら、給版部及び排版部と 露光装置 との間では、定盤上で給版装置と排版装置との移動領域が重なり合うため、給版装置と排版装置とを同時に作動させることができず、定盤上から印刷版を取出して排版部へ送り込んだ後に、新たな印刷版を定盤上へ供給するようになっており、露光自体は短時間で終了しても給版間隔が長くなってしまい、処理時間の短縮の妨げとなっている。

• 公開日： 1995/01/24
• 出典： 印刷版の給排版方法及び刷版作成装置
• 出願人： 富士フイルムホールディングス株式会社

また、温度や経年変化等による光学素子駆動装置における閉ループ制御装置の交流ゲイン変化を検出して補正し、安定化させることにより、常に、高速で、高精度にて、かつ安定に動作する光学素子駆動装置及び 露光装置 を提供することが可能となる。

• 公開日： 2003/04/18
• 出典： 閉ループ制御装置、光学素子駆動装置及び露光装置
• 出願人： キヤノン株式会社

次に、図９を参照して、本実施の形態の 露光装置 調整装置３における露光装置調整手順について説明する。なお、図９は、本実施の形態の露光装置調整装置３における露光装置を調整する際の流れを表したものである。

• 公開日： 2009/05/28
• 出典： ＯＰＣ（光近接効果補正：ＯｐｔｉｃａｌＰｒｏｘｉｍｉｔｙＣｏｒｒｅｃｔｉｏｎ）モデル作成プログラム、ＯＰＣモデル作成装置、露光装置調整方法、露光装置調整プログラム、露光装置調整装置、半導体装置製造方法、半導体装置製造プログラムおよび半導体装置製造装置
• 出願人： ソニー株式会社

基板間の粒子を容易に除去することができ、これにより近接場露光における露光欠陥を大幅に低減することが可能となる粒子の除去方法、該方法を用いた近接場露光方法、及び粒子の除去装置、該装置による近接場 露光装置 を提供する。

• 公開日： 2005/03/10
• 出典： 粒子の除去方法、該方法を用いた近接場露光方法、及び粒子の除去装置、該装置による近接場露光装置
• 出願人： キヤノン株式会社

近接場光がレジストに対して深くまで到達し、深いレジストパターンを形成することが可能となる近接場光を発生させる照明方法、近接場露光方法、および近接場 露光装置 を提供する。

• 公開日： 2005/04/07
• 出典： 近接場光を発生させる照明方法、近接場露光方法、および近接場露光装置
• 出願人： キヤノン株式会社

近接場領域に適用可能であって、波長依存のない光変調が実現でき、ノイズ原因の少ない非可干渉光やレーザ光を用いた場合にも波長変動によるノイズ原因のない高精度な光変調が実現可能な光変調装置、該装置による光スイッチ、移動量検出装置及び該装置による距離測定装置、位置合わせ装置及び該装置による半導体 露光装置 、並びにこれらの方法を提供する。

• 公開日： 2002/02/28
• 出典： 光変調装置、該装置による光スイッチ、移動量検出装置及び該装置による距離測定装置、位置合わせ装置及び該装置による半導体露光装置、並びにこれらの方法
• 出願人： キヤノン株式会社

また、本実施形態においては、製造装置としてドライエッチング装置を例にとって説明したが、これに限らずプラズマＣＶＤ装置やスパッタ装置、ウェットエッチング装置、レジスト塗布装置、 露光装置 等にも適用することができる。

• 公開日： 1999/01/22
• 出典： 製造装置の処理データ監視システム
• 出願人： シャープ株式会社

以上のような問題点は電子線描画装置に限られず、電子線を用いた荷電粒子線を真空中で使用する検査装置、或いはＸ線、縮小Ｘ線を用いた 露光装置 、或いはＸ線、縮小Ｘ線を用いた検査装置においても同様である。

• 公開日： 2003/10/03
• 出典： 定圧チャンバ、それを用いた照射装置及び回路パターンの検査装置
• 出願人： 株式会社日立ハイテクノロジーズ

高効率に近接場光を発生させることができ、また、所望の位置に強い近接場光を発生させることが可能となる近接場露光用マスク、近接場光の発生方法、近接場露光用マスクの作製方法、近接場 露光装置 、近接場露光方法、微小素子の作製方法を提供する。

• 公開日： 2005/04/07
• 出典： 近接場光を発生させる構造体、近接場光の発生方法、及び、近接場露光装置
• 出願人： キヤノン株式会社

露光装置 を輸送運搬する際に、その光路に不純物ガスが侵入することを容易な構成で抑制することのできる露光装置の梱包方法およびその方法で梱包される露光装置、並びに、その露光装置の梱包構造を提供する。

• 公開日： 2005/03/17
• 出典： 露光装置の梱包方法およびその方法で梱包される露光装置、並びにその露光装置の梱包構造
• 出願人： 株式会社ニコン

近接場露光による密着露光に際し、近接場露光マスクおよび被露光物に帯電する静電気を除去し、アライメント精度を向上させることが可能となる近接場 露光装置 および近接場露光方法を提供する。

• 公開日： 2008/04/24
• 出典： 近接場露光装置および近接場露光方法
• 出願人： キヤノン株式会社

画像形成装置としての、たとえば電子複写装置は、感光体ドラムである像担持体と、この像担持体の周囲に順次配置される帯電装置、 露光装置 、現像装置、放電転写装置、剥離装置、クリーニング装置、残像消去装置を備えている。

• 公開日： 1994/10/07
• 出典： 画像形成装置の定着装置
• 出願人： 株式会社東芝

露光装置 及び露光方法において、露光直前の光源を安定させることにより、露光むらを無くし、高精度に露光を行うことができる近接露光装置及びその近接露光方法を提供することにある。

• 公開日： 2011/05/12
• 出典： 近接露光装置及びその近接露光方法
• 出願人： 株式会社ＶＮシステムズ

さらに、基板処理装置として、半導体製造装置だけでなく、ＬＣＤ装置のようなガラス基板を処理する装置でも適用できる。さらに、基板処理装置であるエッチング装置、 露光装置 、リソグラフィ装置、塗布装置、モールド装置、現像装置、ダイシング装置、ワイヤボンディング装置、検査装置等にも同様に適用できる。

• 公開日： 2012/09/27
• 出典： 基板処理システム、管理装置、データ解析方法、及びデータ解析プログラム
• 出願人： 株式会社日立国際電気

基板処理装置として、半導体製造装置だけでなく、ＬＣＤ装置のようなガラス基板を処理する装置でも適用できる。さらに、基板処理装置であるエッチング装置、 露光装置 、リソグラフィ装置、塗布装置、モールド装置、現像装置、ダイシング装置、ワイヤボンディング装置、検査装置等にも同様に適用できる。

• 公開日： 2013/04/22
• 出典： 群管理装置
• 出願人： 株式会社日立国際電気

そして、以上のような測長装置は、 露光装置 用の測長装置もしくは位置決め装置として用いることが好ましい。露光装置で必要とされる位置精度を満たす高生産性の露光装置を提供することができる。

• 公開日： 2000/02/18
• 出典： 測長装置およびこれを用いた露光装置
• 出願人： 株式会社ニコン

被露光基板にうねりが存在する場合においても簡便な機構で大面積にわたってマスクと被露光物との密着を確保するための近接場露光用マスク、近接場 露光装置 及び近接場露光方法を提供する。

• 公開日： 2008/05/15
• 出典： 近接場露光装置、近接場露光方法、レジストパターンの形成方法、デバイスの製造方法
• 出願人： キヤノン株式会社