酢酸成分 の意味・用法を知る
酢酸成分 とは、結晶、結晶のための後処理 や一体成形容器 などの分野において活用されるキーワードであり、株式会社東芝 やセイコーエプソン株式会社 などが関連する技術を148件開発しています。
このページでは、 酢酸成分 を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
酢酸成分の意味・用法
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ランタノイド属およびイットリウムから選択した1種類以上の金属元素、バリウム、および銅を含む混合酢酸塩水溶液をトリフルオロ酢酸と混合、反応させて、混合トリフルオロ酢酸金属塩溶液を作成する混合・反応工程と、前記混合・反応工程によって作成された混合トリフルオロ酢酸金属塩溶液から水分および 酢酸成分 の合計含有量が、2重量%以下である精製混合トリフルオロ酢酸金属塩を作成する精製工程とを含む酸化物超電導体の製造方法を構成する。
- 公開日:2002/03/19
- 出典:酸化物超電導体の製造方法、酸化物超電導体用原料、および酸化物超電導体用原料の製造方法
- 出願人:株式会社東芝
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これまで述べたように、酢酸鉛中の 酢酸成分 がメトキシエタノールと酢酸鉛エステルを生成し、ZrとTiのアルコール反応生成物と混合、加水分解、重縮合を繰り返し、目的の重縮合物を生成するわけである。
- 公開日:2009/04/30
- 出典:強誘電体膜形成用ゾルゲル溶液、強誘電体膜形成用ゾルゲル溶液の製造方法、強誘電体膜、強誘電体メモリ、圧電素子および焦電素子
- 出願人:セイコーエプソン株式会社
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このようなガスバリア性を向上させた共重合ポリエステルとしてPETをフェニレンジオキシジ 酢酸成分 で変性した共重合ポリエステル(特表昭60−501060号公報、特開平5−186570号公報)等が提案されている。
- 公開日:2000/12/19
- 出典:中空容器
- 出願人:三菱化学株式会社
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当該 酢酸成分 は、植物上のロウ質クチンコーティングの破壊を促進し、さらに植物の脱水も支援すると考えられる。
- 公開日:2020/11/26
- 出典:酢酸系除草剤組成物
- 出願人:-
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次の工程において、糖液を濾過して糖液の活性炭と異物を除去した後、イオン精製工程によって 酢酸成分 を除去する。
- 公開日:2019/04/11
- 出典:ガラクトオリゴ糖を高い割合で含有する糖液を含む皮膚美容用の食品組成物および化粧料組成物
- 出願人:ネオクレマーカンパニーリミテッド
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分液後、得られた油層を水50gで1回洗浄した後、一部をサンプリングして、ガスクロマトフィー面積百分率法にて分析すると、分析用の希釈溶媒と 酢酸成分 を除いた2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]エチルアミンの純度は95%であった。
- 公開日:2018/12/27
- 出典:2-[4-(トリフルオロメチル)フェニル]エチルアミン及びピリミジン化合物の製造方法
- 出願人:住友化学株式会社
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しかし、封止材に用いられるエチレン−酢酸ビニル共重合体は、加水分解等によって 酢酸成分 の脱離が起こるため、電気的特性が不十分である。
- 公開日:2018/09/20
- 出典:樹脂シートおよび太陽電池モジュール
- 出願人:タキロンシーアイ株式会社
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PID現象を抑えるためには、封止材から 酢酸成分 等の酸性分を発生させないことが考えられる。
- 公開日:2018/09/20
- 出典:シラン変性オレフィン系樹脂の製造方法および樹脂シートの製造方法
- 出願人:タキロンシーアイ株式会社
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また、 酢酸成分 を含む天然物からの粗抽出物、抽出物又は精製品をコーヒー濃縮液へ配合してもよい。
- 公開日:2021/02/04
- 出典:低カフェインコーヒー濃縮液
- 出願人:サントリーホールディングス株式会社
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67重量部の99パーセント 酢酸成分 は、エッチング組成物に対する約66.33重量部の溶解した酢酸に寄与する。
- 公開日:2020/06/11
- 出典:シリコンに対してシリコンゲルマニウムを選択的にエッチングするための配合物
- 出願人:インテグリス・インコーポレーテッド
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結晶、結晶のための後処理
- 目的・対象とする結晶の形態
- 結晶自体の特徴(クレーム)
- 材料1(元素状、合金)
- 材料2(酸化物)
- 材料3(複合酸化物)
- 材料4(酸素酸塩)
- 材料5(〜化物)
- 材料6(有機物)
- 固相成長
- 液相成長1(常温で液体の溶媒を使用する)
- 液相成長2(溶融溶媒を使用するもの)CG優先
- 液相成長3(融液の凝固によるもの)
- 液相成長4(ゾーンメルティング)
- 液相成長5(融液からの引き出し)
- 液相成長6(液相エピタキシャル)
- 気相成長1(蒸着、昇華)
- 気相成長2(CVD)
- 結晶成長共通1(成長条件の制御)固相成長を除く
- 結晶成長共通2(不純物のドーピング)
- 結晶成長共通3(原料の調製、原料組成)
- 結晶成長共通4(種結晶、基板)
- 結晶成長共通5(成長前の基板の処理、保護)
- 結晶成長共通6(基板への多層成長)
- 結晶成長共通7(装置、治具)
- 結晶成長共通8(検知、制御)
- 結晶成長共通9(特定の成長環境の付加)
- 後処理1(拡散源、その配置)
- 後処理2(後処理のための基板表面の前処理)
- 後処理3(気相からのドーピング)
- 後処理4(電磁波、粒子線照射によるドーピング)
- 後処理5(加熱、冷却処理)
- 後処理6(結晶の接合)
- 後処理7(エッチング、機械加工)
- 後処理8(電場、磁場、エネルギー線の利用)
- 後処理9(その他)
- 後処理10(装置、治具の特徴)
- 結晶の物理的、化学的性質等の評価、決定
- 用途
- 固相からの直接単結晶成長
- 単結晶成長プロセス・装置
- 圧力を加えるもの 例、水熱法
- 塩溶媒を用いるもの 例、フラックス成長
- るつぼ、容器またはその支持体
- ノ−マルフリ−ジングまたは温度勾配凝固
- ゾ−ンメルティングによる単結晶成長、精製
- 溶媒を用いるもの
- るつぼ、容器またはその支持体
- 誘導による溶融ゾ−ンの加熱
- 電磁波による加熱(集光加熱等)
- 制御または調整
- 材料またはヒ−タ−の移動機構、保持具
- 融液からの引出し(保護流体下も含む)
- 結晶化物質(原料)、反応剤の充填、添加
- 引出し方向に特徴
- 融液を入れるるつぼ、容器またはその支持体
- 融液、封止剤または結晶化した物質の加熱
- 制御または調整
- 融液、封止剤、結晶の回転、移動機構
- 種結晶保持器
- 種結晶
- 縁部限定薄膜結晶成長
- 液相エピタキシャル成長
- 特殊な物理的条件下での単結晶成長
- PVD
- イオン化蒸気の凝縮
- 分子線エピタキシャル法
- CVD
- エピタキシャル成長法、装置
- 製造工程
- 反応室
- 反応室または基板の加熱
- 基板保持体またはサセプタ
- 基板とガス流との関係
- ガスの供給・排出手段;反応ガス流の調節
- 制御または調節
- 基板
- 特殊な物理的条件下での単結晶成長
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高分子成形体の製造
- 材料成分(1)有機高分子成分
- 材料成分(2)無機化合物成分(後方ターム優先)
- 材料成分(3)有機化合物成分(後方ターム優先)
- 材料成分(4)形状限定成分
- 材料成分(5)機能限定成分
- 性質
- 処理
- 用途
- 成形品の製造(1)材料組成物の状態
- 成形品の製造(2)成形方法
- 成形品の製造(3)成形品の特徴
- 接着(1)被接着物の形状、状態
- 接着(2)接着剤の形状、状態
- 接着(3)接着剤の種類
- 接着(4)接着方法
- 研摩性、摩擦性物品の製造
- 摩擦性の減少された物品の製造
- イオン交換樹脂成形体の製造(1)化学構造
- イオン交換樹脂成形体の製造(2)機能、物性
- イオン交換樹脂成形体の製造(3)形状、構造
- イオン交換樹脂成形体の製造(4)製造方法
- イオン交換樹脂成形体の製造(5)後処理
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高分子組成物
- 不特定の高分子化合物
- 多糖類
- 不特定のゴム;天然ゴムまたは共役ジエンゴム
- 蛋白質
- 油,脂肪またはワックス
- 天然樹脂
- 瀝青質材料
- リグニン含有材料
- その他の天然高分子
- C=Cのみが関与する反応によって得られる不特定重合体
- オレフィンの(共)重合体
- 不飽和芳香族化合物の共重合体
- ハロゲン化オレフィンの(共)重合体
- 不飽和アルコ−ル,エ−テル,アルデヒド,ケトン,アセタールまたはケタールの(共)重合体
- 飽和カルボン酸,炭酸またはハロ蟻酸の不飽和アルコールとのエステルの(共)重合体
- 不飽和モノカルボン酸またはその誘導体の(共)重合体
- 不飽和ポリカルボン酸またはその誘導体の(共)重合体
- 不飽和アミン,その誘導体または不飽和含窒素複素環化合物の(共)重合体
- 環中にC=Cを含有する炭素環または複素環化合物の(共)重合体
- 1つの不飽和脂肪族基に2個以上のC=Cを含有する化合物の(共)重合体(BK00が優先)
- C三Cを含有する化合物の(共)重合体
- グラフト重合体
- ブロック共重合体
- その他のC=Cのみが関与する反応によって得られる(共)重合体(ABS→BN15,石油脂肪→BA01)
- C=Cのみが関与する重合反応以外の反応により得られる不特定高分子化合物 (ポリテルペン→CE00)
- ポリアセタ−ル
- アルデヒドまたはケトンの縮重合体
- エポキシ樹脂
- 主鎖にC−C結合を形成する反応によって得られる高分子化合物(AC00〜14,BA00〜BQ00、CC00が優先)
- ポリエステル
- ポリカ−ボネ−ト;ポリエステルカ−ボネ−ト
- ポリエ−テル (ポリチオエーテル→CN01)
- その他の、主鎖に酸素を含む結合を形成する反応によって得られる高分子化合物
- ポリ尿素またはポリウレタン
- ポリアミド
- その他の、主鎖にNを含む結合を形成する反応によって得られる高分子化合物
- 主鎖に硫黄を含む結合を形成する反応によって得られる高分子化合物
- 主鎖にけい素を含む結合を形成する反応によって得られる高分子化合物
- 主鎖にSi,S,N,OおよびC以外の原子を含む結合を形成する反応によって得られる高分子化合物
- 元素
- 金属化合物
- 合金
- ハロゲン含有無機化合物
- 酸素含有無機化合物
- 窒素含有無機化合物
- S,SeまたはTe含有無機化合物
- リン含有化合物
- けい素含有無機化合物
- ほう素含有無機化合物
- ガラス
- その他 無機物質
- 炭化水素
- ハロゲン化炭化水素
- アルコ−ル;金属アルコラ−ト
- エ−テル;(ヘミ)アセタ−ル;(ヘミ)ケタール;オルトエステル
- アルデヒド;ケトン
- カルボン酸(環状無水物→EL13,非環状無水物→EF12);カルボン酸無水物
- カルボン酸の金属塩;アンモニウム塩(第4級アンモニウム塩→EN13)
- エステル;エ−テルエステル
- フェノ−ル;フェノラ−ト
- 有機過酸化物
- 異項原子としてOを有する複素環式化合物
- 観点ECからELに属さないO含有基を有する有機化合物
- アミン;第四級アンモニウム化合物
- カルボン酸アミド(環式イミド→EU)
- 1個の他のN原子に結合するN原子を含有する有機化合物
- 1個以上のC=N結合を有する有機化合物
- N−O結合を有する有機化合物
- 視点EN〜ESに属さないN含有有機化合物
- 異項原子として窒素を有する複素環式化合物
- S,SeまたはTe含有有機化合物
- リン含有化合物
- けい素含有有機化合物
- B、AsまたはSb含有有機化合物
- 有機金属化合物、すなわち金属−C結合を有する有機化合物(有機As化合物→EY00,有機Sb化合物→EY02)(アルコラート→EC07、カルボン酸金属塩→EG)
- 形状に特徴を有する配合成分の使用
- 前処理された配合成分の使用
- 添加剤の機能
- 農業用(←殺生物剤の担体)
- 医療、化粧用
- 生活、スポ−ツ用
- 物理化学的処理用
- 生化学的用途
- 積層体用
- 容器、包装用
- 塗料用(←コ−ティング剤)
- 接着、シ−ル用
- 繊維、紙用
- 建築、土木用
- 機械部材用
- 運輸機器用
- 光学関係用
- 電気関係
- 物理関係用
- 情報記録材料
- その他の用途
- 組成物の形態
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ポリエステル、ポリカーボネート
- ポリマーの種類
- クレームされている発明
- 最終ポリマーの構造
- 最終ポリマーの特定化要件
- 用途
- Rジオール
- 単環Arジオール(主鎖の単Ar数n)
- 縮合環Arジオール(主鎖の縮Ar数n)
- 脂環含有ジオール(主鎖の脂環数n)
- エーテル以外の酸素含有ジオール
- エーテル酸素含有ジオール
- ハロゲン含有ジオール
- 他原子含有ジオール
- Rジカルボン酸(Rが無しのものを含む)
- 単環Arジカルボン酸(主鎖の単Ar数n)
- 縮合環Arジカルボン酸(主鎖の縮Ar数n)
- 脂環含有ジカルボン酸(主鎖の脂環数n)
- エーテル以外の酸素含有ジカルボン酸
- エーテル酸素含有ジカルボン酸
- ハロゲン含有ジカルボン酸
- 他原子含有ジカルボン酸
- N含有ジオール,ジカルボン酸
- S含有ジオール,ジカルボン酸
- P含有ジオール,ジカルボン酸
- Rヒドロキシカルボン酸
- 単環Arヒドロキシカルボン酸
- 縮合環Ar,脂環含有ヒドロキシカルボン酸
- 酸素含有ヒドロキシカルボン酸
- ハロゲン含有ヒドロキシカルボン酸
- 他原子含有ヒドロキシカルボン酸
- ラクトン(環内C数n)
- ラクチド
- モノアルコール
- モノカルボン酸
- −OH,−COOHを合計3つ以上有する化合物
- 不飽和基の導入原料
- OH原料
- COOH原料
- カーボネート系原料
- 線状低縮合原料(HA−HCにも付与)
- 環状縮合原料
- 低分子無機化合物
- 低分子有機化合物(H,C,ハロゲン,O)
- 低分子有機化合物(その他の原子)
- 低分子化合物の特定
- 高分子化合物
- 金属の観点からみた化合物
- 原料の特定,前処理
- 原料の仕込みと添加
- 重合中間状態の特定
- 環境条件設定
- 重合形式
- 固相重合(KD等へも付与)
- 解重合(KD等へも付与)
- 重合後の処理
- KA−KH以外の方法上の特徴
- 重合装置
- 付属装置