製造誤差 の意味・用法を知る

回転力伝達部材やカム面や出力回転軸等に 製造誤差 が生じても、相対回転可能な入力回転軸と出力回転軸の間の回転力の伝達を円滑かつ確実に行うことができ、しかも、全体を小型化しても製造誤差の影響を受けにくい回転力伝達機構を提供する。

• 公開日： 2005/05/19
• 出典： 回転力伝達機構
• 出願人： ＨＯＹＡＴｅｃｈｎｏｓｕｒｇｉｃａｌ株式会社

製造誤差 によりガイド部材の位置がずれても、ガイド部材を再度位置決めし、基板を基板テーブルの所定位置に位置決めすることができるガイド部材の位置決め方法、及び基板の位置決め方法を得る。

• 公開日： 2008/08/21
• 出典： ガイド部材の位置決め方法、及び基板の位置決め方法
• 出願人： ラピスセミコンダクタ株式会社

また、基端側リンク構成体又は先端側リンク構成体の少なくともいずれか一方を伸縮可能に形成することによって、基端側リンク構成体又は先端側リンク構成体の長さを調節することができ、部品の 製造誤差 や組み付け誤差を吸収することができるものである。

• 公開日： 2001/06/26
• 出典： 農作業機の作業機昇降機構
• 出願人： ヤンマー株式会社

一つの主走査ラインに含まれる複数の画素を、複数回の異なる主走査で記録する印刷においては、プリンタの 製造誤差 や印刷用紙の質によっては、印刷結果の品質が悪くなることがある。

• 公開日： 2003/02/13
• 出典： 主走査ラインを複数回の主走査で記録する印刷におけるドット記録モードの選択
• 出願人： セイコーエプソン株式会社

一方、 製造誤差 による溶接用突起の高さのばらつきや、被溶接部材の溶接面の歪み等により、複数の溶接用突起が同時又は略同時に被溶接部材の溶接面に接触せず、特定の溶接用突起が先に被溶接部材の溶接面に接触すると、当該溶接用突起の通電時間が長くなる。この結果、先に被溶接部材の溶接面に接触した溶接用突起の発熱量が過大となり、溶融物が飛散する等して溶接不良の原因となる。

• 公開日： 2012/11/15
• 出典： プロジェクション溶接装置、プロジェクション溶接方法、及びプロジェクション溶接構造
• 出願人： 日本発條株式会社

しかしながら、例えば、溶接部材及び被溶接部材の溶接面や、電極の支持面等の 製造誤差 により、溶接用突起に対する被溶接部材の溶接が完了する前に、溶接部材の溶接面と被溶接部材の溶接面とが溶接用突起以外の部位で接触する可能性がある。この場合、溶接用突起以外の接触部で電流の分流が発生し、溶接用突起に流れる電流量が減少するため、溶接不良の原因となる。

• 公開日： 2012/11/15
• 出典： プロジェクション溶接構造
• 出願人： 日本発條株式会社

このような環状体を用いた塗布装置で塗布する場合、芯体の外径が一定であるならば、芯体外径と環状体の円孔の間隙も一定なので、膜厚も一定に塗布されるが、実際の芯体の外径は常に一定ではなく、 製造誤差 によってばらつきを持っている。

• 公開日： 2007/06/07
• 出典： 環状体、塗布装置、塗布方法、及びそれを用いた無端ベルトの製造方法
• 出願人： 富士ゼロックス株式会社

しかし、分割工具による分割の対象となる光ファイバテープ心線の寸法には、規格により許容される 製造誤差 の範囲内において所定のばらつきがある。そのため、従来の分割工具では、分割の際に光ファイバテープ心線を収容するガイド溝部の溝幅は、規格で許容される最大幅の光ファイバテープ心線を収容できる大きさとなっていた。

• 公開日： 2003/10/31
• 出典： 光ファイバテープ心線の分割工具及び光ファイバテープ心線の分割方法
• 出願人： 古河電気工業株式会社

製造誤差 によって、しばしば、テスト対象物やテストポイントが偏位しているために、テスト対象物をテスト固定装置の所定位置に単に挿入するだけでは、テストポイントとテスト用プローブとの間の接触を、十分に確保できない場合がある。

• 公開日： 1998/06/30
• 出典： 電気回路基板のテスト用アダプター
• 出願人： アーテーゲーテストジュステームスゲーエムベーハーウントコー．カーゲー

燃焼室への燃料の噴射は高圧噴射弁によって行われ、これらの高圧噴射弁は一般に電磁的に操作される。噴射される燃料の量は噴射弁の多かれ少なかれ長い開弁持続時間によって調整される。しかし、噴射弁における 製造誤差 のために実際に噴射される燃料量は運転手の所望トルクに実際に相応する燃料量から偏差しうる。また、燃焼室に存在する空気充填量が意図された空気充填量自体に相応しないこともあり得る。

• 公開日： 2002/09/11
• 出典： 内燃機関の動作のための方法、コンピュータプログラム、ならびに開ループ制御および／または閉ループ制御機器
• 出願人： ロベルト・ボッシュ・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング

しかしながら、従来の技術では、縮小投影露光装置による露光歪の量を荷電ビーム露光装置で測定するようにしているため、その測定値には、縮小投影露光装置の露光歪に加えて、レチクルの 製造誤差 や、電子ビーム露光装置の測定誤差が含まれてしまう。このため、電子ビーム露光装置の測定値により位置合わせしても、縮小投影露光装置と電子ビーム露光装置との位置合わせ不良を有効に防止することができなかった。

• 公開日： 1999/04/30
• 出典： パターン描画方法
• 出願人： 富士通株式会社