純水ノズル の意味・用法を知る

したがって、 純水ノズル １３０との干渉を考慮せずに自由に現像ノズル２１を現像処理セット１０間で移動させることが可能となり、これにより、現像ノズル２１と純水ノズル１３０との稼働率が向上する。

• 公開日：2013/07/25
• 出典：基板処理ユニットおよび基板処理装置
• 出願人：株式会社ＳＣＲＥＥＮセミコンダクターソリューションズ

基板Ｗに対する純水の吐出処理（プリウェット処理）を終えた 純水ノズル １３０が、干渉エリアＡｉの外に移動したことが確認されると、現像ノズル２１が所定の待機位置Ｔ２１から基板Ｗの上方の吐出開始位置へと移動開始する（ＡＲ１３）。

• 公開日：2010/03/11
• 出典：基板処理ユニット、基板処理装置および基板処理方法
• 出願人：株式会社ＳＣＲＥＥＮセミコンダクターソリューションズ

更に、この加工電極１６０に近接して、加工電極１６０と基板Ｗの外周部との間に純水または超純水を供給する純水供給部としての 純水ノズル １６４が配置されている。

• 公開日：2003/07/22
• 出典：電解加工方法及び装置
• 出願人：株式会社荏原製作所

現像ノズル部１１０及び 純水ノズル 部１２０を半導体ウェーハ１３０に対する処理位置への投入し、洗浄と現像を順次、または同時に行った後、現像ノズル部１１０及び純水ノズル部１２０を半導体ウェーハ１３０に対する処理位置から退出させる。

• 公開日：2002/10/18
• 出典：現像ユニット
• 出願人：ソニー株式会社

なお、 純水ノズル ４の形状は、通常のパイプ形状のストレートタイプであるか、あるいは細かい水流を基板全体に降り注ぐような、細かい穴を多数備えるシャワータイプである。

• 公開日：2001/08/03
• 出典：電気光学装置の製造方法および電気光学装置の製造装置
• 出願人：セイコーエプソン株式会社

この第５の実施形態で用いられる現像モジュール２では、ウエハＷの下方において、下側保護膜形成用薬液ノズル４１及び下側保護膜除去用溶剤ノズル４２の代わりに、下側ＳＣ２ノズル１１１、下側ＳＰＭノズル１１２、下側 純水ノズル １１３が設けられており、各ノズル１１１〜１１３は、ノズル４１、４２と同様に、ウエハＷの裏面の周縁部に、内方から外方に向かって液を各々吐出することができる。

• 公開日：2019/03/22
• 出典：塗布、現像方法、記憶媒体及び塗布、現像装置
• 出願人：東京エレクトロン株式会社

純水ノズル ７１０は、純水配管７１２を介して純水供給源７１４に接続される。

• 公開日：2019/03/22
• 出典：研磨装置、及び、処理方法
• 出願人：株式会社荏原製作所

乾燥ユニット７５Ａ，７５Ｂは、 純水ノズル およびＩＰＡノズルを基板の半径方向に移動させながら、純水ノズルおよびＩＰＡノズルから純水とＩＰＡ蒸気（イソプロピルアルコールとＮ２ガスとの混合物）を基板の上面に供給することで基板を乾燥させるＩＰＡタイプの乾燥機である。

• 公開日：2018/11/22
• 出典：基板処理装置の運転方法
• 出願人：株式会社荏原製作所

純水ノズル ２４１は、純水配管２４２を介して純水供給源２４３に接続される。

• 公開日：2018/04/26
• 出典：基板処理制御システム、基板処理制御方法、およびプログラム
• 出願人：株式会社荏原製作所

また、純水バルブ５６が閉じられると、 純水ノズル ５５への純水の吐出が停止される。

• 公開日：2018/03/22
• 出典：基板処理方法および基板処理装置
• 出願人：株式会社ＳＣＲＥＥＮホールディングス