窒化チタン の意味・用法を知る

なお、ＣＯはエッチングガスの成分、またはフォトレジストの成分‘Ｃ’と被エッチング膜であるシリコン酸化膜（ＳｉＯ２）の成分‘Ｏ’の反応生成物であり、ＣＮはエッチングガスの成分、またはフォトレジストの成分‘Ｃ’と上層のバリアメタルＢＭである 窒化チタン （ＴｉＮ）膜の成分‘Ｎ’の反応生成物である。

• 公開日：2017/03/02
• 出典：半導体装置の製造方法およびドライエッチングの終点検出方法
• 出願人：ルネサスエレクトロニクス株式会社

本発明は、Ｎ−メチルモルホリンＮ−オキシド（Ｎ−ｍｅｔｈｙｌ ｍｏｒｐｈｏｌｉｎｅ Ｎ−ｏｘｉｄｅ）および水を含むタングステン膜エッチング液組成物、これを用いた電子デバイスの製造方法およびこれから製造された電子デバイスに関し、 窒化チタン 系金属または炭化アルミニウムチタン膜をエッチングせず、タングステン系金属のみを選択してエッチングする効果を奏する。

• 公開日：2017/06/15
• 出典：タングステン膜エッチング液組成物、これを用いた電子デバイスの製造方法および電子デバイス
• 出願人：東友ファインケム株式会社

表面に 窒化チタン および／またはフォトレジストエッチ残留物質を有するマイクロ電子デバイスの表面から窒化チタンおよび／またはフォトレジストエッチ残留物質を選択的に除去するための組成物であって、０．０００１重量％から２重量％の少なくとも１つの酸化剤、０．０１重量％から１０重量％の少なくとも１つのエッチャント、０．０００１重量％から１０重量％の少なくとも１つの腐食抑制剤、０．００１重量％から５重量％の少なくともシリカ源、４０重量％から９９．９９重量％の水、および１重量％から８０重量％の少なくとも１つの有機溶媒を含み、過酸化水素を実質的に含まず、且つタングステンおよびＴｉＮの切り取り試片が５０℃で組成物...

• 登録日：2018/07/06
• 出典：窒化チタンを選択的にエッチングするための組成物および方法
• 出願人：インテグリス・インコーポレーテッド

窒化チタン をその上に有するマイクロエレクトロニクスデバイスの表面から窒化チタンを選択的に除去するための組成物であって、酸化バナジウム、バナジウム酸アンモニウム、過ヨウ素酸、ヨウ素酸および１，４−ベンゾキノンからなる群から選択される少なくとも１種の酸化剤、テトラフルオロホウ酸またはヘキサフルオロケイ酸を含む少なくとも１種のエッチング液、少なくとも１種の溶媒および、５−メチル−ベンゾトリアゾール、ベンゾトリアゾールカルボン酸、ペンチレンテトラゾール、５−フェニル−１Ｈ−テトラゾール、５−ベンジル−１Ｈ−テトラゾール、Ablumine ０、２−ベンジルピリジン、スクシンイミド、アデノシン、カルバゾー...

• 登録日：2018/04/27
• 出典：窒化チタンを選択的にエッチングするための組成物および方法
• 出願人：インテグリス・インコーポレーテッド

ＰＶＤ 窒化チタン と、Ｃｕ、Ｃｏ、ＣＶＤ窒化チタン、誘電体材料、低−ｋ誘電体材料、及びそれらの組み合わせからなる群より選択される第２の材料とを含む半導体デバイスから、ＰＶＤ窒化チタン（ＴｉＮ又はＴｉＮxＯy、ｘ＝０〜１．３かつｙ＝０〜２）を選択的に除去するための組成物であって、１〜２０ｗｔ％の過酸化物、１〜５ｗｔ％の塩基、０．１〜１ｗｔ％の弱酸、０．５〜２ｗｔ％のアンモニウム塩、２５〜５０００ｐｐｍの腐食防止剤又は１〜１５ｗｔ％の長鎖若しくは混合水酸化アルキルアンモニウム、１０〜５０００ｐｐｍの長鎖有機アミン又はポリアルキルアミン、及び残部は溶媒を含み、７〜１１．５のｐＨを有する組成物。

• 公開日：2016/12/15
• 出典：窒化チタンハードマスク及びエッチ残留物除去
• 出願人：バーサムマテリアルズユーエス，リミティドライアビリティカンパニー

Ｔｉ粉とｃＢＮ粉を原料として用いて、Ｉｎ−Ｓｉｔｕ反応（反応式以下の通りである）により 窒化チタン −二ホウ化チタン−立方晶窒化ホウ素複合材料を製造する方法において、（Ｉ）（ただし、ｘはｃＢＮのモル含有比率であり、前記Ｔｉ粉と前記ｃＢＮ粉の質量は下記の式により計算される。

• 登録日：2017/12/01
• 出典：窒化チタン－二ホウ化チタン－立方晶窒化ホウ素複合材料の製造方法
• 出願人：河海大学

...表面と第二の表面との間に間隙が形成されるようにして静止構成要素の近傍に配置されている回転構成要素と、間隙の内部に配置されている液体金属と、第一の表面及び第二の表面の少なくとも一方に付着させられた濡れ防止皮膜とを含んでおり、濡れ防止皮膜は、第一の表面及び第二の表面の上述の少なくとも一方に付着させられた 窒化チタン と、窒化チタンに付着させられたチタン酸化物とを含んでいる。

• 公開日：2013/09/19
• 出典：液体金属軸受け用の濡れ防止皮膜及びその製造方法
• 出願人：ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ

このシステム及び方法は、 窒化チタン （ＴｉＮ又はＴｉＮｘＯｙ）ハードマスクを剥離するために及び窒化チタン（ＴｉＮ又はＴｉＮｘＯｙ）エッチング残渣を除去するためにこの水性組成物を使用する。

• 公開日：2015/07/02
• 出典：窒化チタンハードマスク用組成物及びエッチング残渣の除去
• 出願人：エアプロダクツアンドケミカルズインコーポレイテッド

透明基板１上に設けられた縞状のグリッド２は、 窒化チタン 又は及び酸窒化チタンで形成された主たる層を有し且つ単体金属の層を含まない多数の線状部２１で形成され、ｓ偏光光を選択的に吸収し、ｐ偏光光を透過することで光を偏光させる。

• 公開日：2015/07/06
• 出典：紫外線偏光光照射方法及び光配向層付き基板の製造方法
• 出願人：ウシオ電機株式会社

前記層Ａおよび層Ｂ上に酸化アルミニウム、酸化アルミニウムクロム、酸化クロム、窒化ジルコニウム、 窒化チタン およびアルミニウム金属から選択される少なくとも１つのさらなる硬質材料層または金属層を含み、ここですべての前記硬質材料は、１種または２種以上のさらなる元素により任意選択的にドープされることができることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の切削工具。

• 登録日：2016/07/15
• 出典：多層被膜を有する切削工具
• 出願人：バルターアクチェンゲゼルシャフト