直接入射 の意味・用法を知る
直接入射 とは、ドットプリンター,その他 やレーザービームプリンタ などの分野において活用されるキーワードであり、オリンパス株式会社 や独立行政法人産業技術総合研究所 などが関連する技術を6,689件開発しています。
このページでは、 直接入射 を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
直接入射の意味・用法
-
X線画像検査装置100は、10keV以下のKα特性X線を発生するX線ターゲット5を有する特性X線発生器10と、ペルチエ素子22により冷却される 直接入射 型冷却X線CCD検出器20と、を備える。
- 公開日:2010/09/30
- 出典:X線画像検査装置
- 出願人:独立行政法人産業技術総合研究所
-
一方、挟持体12の近傍で洩れた光は強い光であるため、カバー14により吸収し、洩れた光が目視者の目に 直接入射 しないようにされる。
- 公開日:2006/08/24
- 出典:面発光表示方法及び面発光ディスプレイ装置
- 出願人:株式会社中川ケミカル
-
受光面に光源からの照射光が 直接入射 することを防止し液晶パネルからの反射光量をフォトセンサにより検出してフリッカが最小となるように液晶表示装置を調整する。
- 公開日:2007/09/20
- 出典:液晶表示装置用調整装置
- 出願人:株式会社FUJI
-
表面に保護層を有する被走査面に光束を光走査する光走査装置であって、光束を発する光源と、この光束の走査により形成される光走査面が、被走査面の法線に対して所定の角度傾くような光学系と、を備えたことにより、保護層を通過して記録層に到達する 直接入射 光と、保護層と記録層の境界面で反射され、さらに、保護層と外界との境界面で反射されてから、記録層に到達する2回反射光とが発生するが、これら直接入射光と2回反射光とは被走査面の所定の傾きに応じたずれが生じるため、干渉縞が発生することがない。
- 公開日:1999/09/17
- 出典:光走査装置
- 出願人:コニカミノルタ株式会社
-
この照明光学装置においては、光源1から発せられた光のうち、ライトガイド3に 直接入射 するわずかな光以外の大部分の光を楕円反射鏡2で反射集光させ、焦点位置にあるライトガイド3の入射端面3aに入射させている。
- 公開日:1996/12/13
- 出典:照明光学装置
- 出願人:オリンパス株式会社
-
なお光源24から発せられた光の一部は、反射面30aで反射されることなく、第2インナーレンズ28に 直接入射 してもよい。
- 公開日:2020/03/26
- 出典:車両用標識灯
- 出願人:株式会社小糸製作所
-
なお、内部反射による受光素子アレイ12への 直接入射 を低減するために、クロム膜に代わり、酸化クロムなどのより低反射の膜を用いてもよい。
- 公開日:2020/03/26
- 出典:位置検出装置、リソグラフィ装置、力覚センサ及び力覚センサを有する装置
- 出願人:キヤノン株式会社
-
蛍光体102から端面10aに 直接入射 する光もあるが、一部は矢印で示すように反射材106に衝突する。
- 公開日:2020/03/26
- 出典:中性子検出方法および中性子検出装置
- 出願人:東京電力株式会社
-
これにより、図1においてバックライトユニットからTFT基板1004の裏面に照射された光を、選択的に透過して表示を行う透過型LCDにおいて、ゲート電極2及びゲート電極21のパターンが遮光マスクとなって半導体層12及び半導体層25に光が 直接入射 することを抑制できる。
- 公開日:2020/03/26
- 出典:薄膜トランジスタ基板及びその製造方法、並びに、液晶表示装置
- 出願人:三菱電機株式会社
-
第2傾斜面30bは、第1全反射面20bを全反射した映像光が 直接入射 しない面である。
- 公開日:2020/03/26
- 出典:樹脂シートの製造方法
- 出願人:大日本印刷株式会社
直接入射の原理 に関わる言及
直接入射の特徴 に関わる言及
注目されているキーワード
関連する分野分野動向を把握したい方
( 分野番号表示 ON )※整理標準化データをもとに当社作成
-
放射線を利用した材料分析
- 試料入射粒子(源),刺激(含意図外,直分析外)
- 利用,言及生起現象;分折手法(含意図外、直分析外)
- 試料出射粒子(含意図外,直分析外)
- 検出器関連言及
- 分光;弁別(E,λ;e/m;粒子)
- 信号処理とその周辺手段(測定出力提供とその精度向上関連
- 測定内容;条件;動作等関連変数,量ψ
- 表示;記録;像化;観察;報知等
- 制御;動作;調整;安定化;監視;切換;設定等
- 分析の目的;用途;応用;志向
- 対象試料言及(物品レベル)
- 試料形状言及
- 検出;定量;着目物質とその構成元素;関連特定状態等
- 測定前後の試料の動き
- 試料保特,収容手段;状態等
- 試料作成;調製;試料及び他部分に対する処理;措置等
- 機能要素;部品素子;技術手段要素等;雑特記事項その他