熱処理雰囲気 の意味・用法を知る
熱処理雰囲気 とは、熱処理 や金属質材料の表面への固相拡散 などの分野において活用されるキーワードであり、日立金属株式会社 や東京瓦斯株式会社 などが関連する技術を3,322件開発しています。
このページでは、 熱処理雰囲気 を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
熱処理雰囲気の意味・用法
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これより、熱処理温度の上昇とともに 熱処理雰囲気 中の微量酸素の影響により、徐々に酸化が進行したと考えられる。
- 公開日:2008/05/08
- 出典:電極活物質及びそれを用いた正極用酸素還元電極
- 出願人:国立大学法人横浜国立大学
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本発明は、前記事情に鑑み、自体に加熱装置を不要とした構造簡単且つ安価で経済的な変成ガス発生装置及び該装置を用いた 熱処理雰囲気 炉を提供することを目的とする。
- 公開日:2003/09/02
- 出典:熱処理雰囲気炉
- 出願人:DOWAホールディングス株式会社
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この助剤は、熱処理設備や 熱処理雰囲気 発生装置に、気態又はほこりのような分散体の形として、雰囲気原料や雰囲気の中に分散させて、雰囲気原料及び雰囲気との接触面積を出来るだけ拡大して、まだ、雰囲気を活発し、活性化するの役割を行う。
- 公開日:2005/10/27
- 出典:熱処理雰囲気の助剤とその使い方、助剤を使っている熱処理方法と熱処理雰囲気
- 出願人:リ,ランゲン
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煤の発生を抑制すると共に短時間で被処理材を熱処理することができる 熱処理雰囲気 の制御方法を提供すること。
- 公開日:2003/03/12
- 出典:熱処理雰囲気の制御方法
- 出願人:東邦瓦斯株式会社
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また、 熱処理雰囲気 は、真空中、不活性ガス中、あるいは還元性雰囲気中等の非酸化性雰囲気が好ましい。
- 公開日:1998/02/24
- 出典:Fe-Al-Si系焼結合金の製造方法
- 出願人:日立金属株式会社
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その品質が正確に制御された 熱処理雰囲気 を発生させるための改良された方法を提供すること。
- 公開日:1998/02/17
- 出典:熱処理雰囲気の製造方法及びその方法の制御方法
- 出願人:レール・リキード-ソシエテ・アノニム・ア・ディレクトワール・エ・コンセイユ・ドゥ・スールベイランス・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード
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窒素高含有の極微量の水と二酸化炭素を含有し、液体窒素を用いたプロセスよりも安価に運転できる 熱処理雰囲気 を提供するとともに、通常の吸熱性ジェネレーターよりも安価で少量の、装置内で熱処理雰囲気を製造すること。
- 公開日:1994/08/02
- 出典:熱処理雰囲気の形成方法
- 出願人:ザビーオーシーグループインコーポレイテッド
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・熱処理装置:振動熱処理装置(製品名:VH−25、中央化工機社製) ・ 熱処理雰囲気 :アルゴン ・最高温度:200℃ ・熱処理時間:117分間 ・入熱量:14,063(℃・min) ここで、入熱量とは、熱処理開始時から熱処理終了時まで被覆体の温度を時間により積分することによって得られる値である。
- 公開日:2020/03/05
- 出典:正極活物質の製造方法
- 出願人:トヨタ自動車株式会社
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続いて、被覆体について熱処理を実施する。熱処理条件は、被覆体中の水分を除去できる条件であれば、特に限定されない。 熱処理条件の一例は以下の通りである。 ・熱処理装置:ホットプレート(アズワン社製) ・ 熱処理雰囲気 :アルゴン ・最終温度:250℃ ・露点:−49℃ ・熱処理時間:45分間
- 公開日:2020/03/05
- 出典:正極活物質の製造方法
- 出願人:トヨタ自動車株式会社
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以上のように形成される炭素膜の平均細孔径や変動係数は、樹脂の種類、熱処理温度、熱処理時間、 熱処理雰囲気 などを制御することによって調整可能である。
- 公開日:2020/02/27
- 出典:分離膜構造体及びガスの分離方法
- 出願人:日本碍子株式会社
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触媒
- 技術主題
- 成分1特定物質
- 成分2無機物質
- 成分3金属元素
- 成分4非金属元素
- 成分5有機物質及び配位子
- 使用対象反応1環境保全関連
- 使用対象反応II化学合成用(C1化学除く)
- 使用対象反応3エネルギーと化学原料関連
- 使用対象反応4その他
- 使用形態
- 構造及び物性1‐1外形(それ自体)
- 構造及び物性1‐2外形に関する他の特徴
- 構造及び物性2微細構造
- 構造及び物性III 物性
- 構造及び物性IV その他
- 調製及び活性化I 目的
- 調製及び活性化II プロセス
- 調製及び活性化III材料及び条件(クレーム)
- 再生または再活性化
- ゼオライト及びモレキュラーシーブ(MS)
- ゼオライト及びMSの合成
- ゼオライト及びMS触媒の特定(クレームのみ)
- ゼオライト及びMS触媒の処理・修飾
- 処理・修飾及び組成物の目的(目的記載個所)
- 触媒組成物の態様
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触媒
- 技術主題
- 成分I特定物質
- 成分II無機物質
- 成分III金属元素
- 成分IV非金属元素
- 成分V有機物質及び配位子
- 使用対象反応I環境保全関連
- 使用対象反応II化学合成用(C1化学除く)
- 使用対象反応IIIエネルギーと化学原料関連
- 使用対象反応IVその他
- 使用形態
- 構造及び物性I‐I外形(それ自体)
- 構造及び物性I‐II外形に関する他の特徴
- 構造及び物性II微細構造
- 構造及び物性III 物性
- 構造及び物性IV その他
- 調製及び活性化I 目的
- 調製及び活性化II プロセス
- 調製及び活性化III材料及び条件(クレーム)
- 再生または再活性化
- 光触媒の技術主題
- 光触媒の成分
- 光触媒の活性化
- 光触媒の調製
- 光触媒の使用対象
- その他
- ゼオライト及びモレキュラーシーブ(MS)
- ゼオライト及びMSの合成
- ゼオライト及びMS触媒の特定(クレームのみ)
- ゼオライト及びMS触媒の処理・修飾
- 処理・修飾及び組成物の目的(目的記載個所)
- 触媒組成物の態様