基板の間 の意味・用法を知る
基板の間 とは、半導体の露光(電子、イオン線露光を除く) や半導体の露光(電子、イオン線露光を除く) などの分野において活用されるキーワードであり、キヤノン株式会社 や日立オートモティブシステムズ株式会社 などが関連する技術を38,229件開発しています。
このページでは、 基板の間 を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
基板の間の意味・用法
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表面実装型の電子部品を搭載した基板をトランスファーモールドした電子制御装置において、2枚以上の基板を有し、前記基板の少なくとも1枚は両面実装しており、前記基板は隙間を設けて積層配置し、基板と 基板の間 隔を一定に固定する支持構造を有することを特徴とするトランスファーモールド型電子制御装置。
- 公開日:2010/03/11
- 出典:トランスファーモールド型電子制御装置、その製造方法及び変速機
- 出願人:日立オートモティブシステムズ株式会社
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...1の工程と、前記モールドと基板との間に未硬化樹脂を充填するため、前記モールドまたは/および前記基板を、前記基板上の未硬化樹脂が設けられた側に移動させ、前記移動させる際の進行方向側から見て前記モールドの前方の端部より外側から、前記未硬化樹脂をモールドと基板との間に流入させて、該樹脂を前記モールドと前記 基板の間 に充填する第2の工程と、前記モールドまたは/および前記基板の姿勢を制御し、前記モールドにおける第1の端部の前記基板に対する間隔と、前記モールドにおける第2の端部の前記基板に対する間隔とを前記第1の工程により配置された間隔とは異なる間隔にする第3の工程と、を有することを特徴とするインプリント方...
- 公開日:2009/02/26
- 出典:インプリント方法、インプリント装置および半導体製造方法
- 出願人:キヤノン株式会社
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[0005] 提案されている構成の1つは、液体供給システムが液体閉じ込めシステムを使用して、基板の局所領域に、及び投影システムの最終要素と 基板の間 にのみ液体を提供する
- 公開日:2012/12/20
- 出典:リソグラフィ装置及び装置の動作方法
- 出願人:エーエスエムエルネザーランズビー.ヴイ.
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転写リソグラフィ・プロセスで使用される、テンプレートと 基板の間 のギャップと配向を高精度で測定する方法が説明されている。
- 公開日:2004/02/19
- 出典:転写リソグラフィのための透明テンプレートと基板の間のギャップおよび配向を高精度でセンシングするための方法
- 出願人:ボードオブリージェンツ,ザユニバーシティオブテキサスシステム
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このような高耐圧MOSトランジスタの耐圧は、電界緩和層406の距離と電界緩和層406の不純物濃度、正確にはドレイン電極403に電圧を印加したときにドレイン405の拡散層と 基板の間 に形成される空乏層の幅に依存する。
- 公開日:2003/11/21
- 出典:積層型固体撮像装置及びそれを用いたカメラ
- 出願人:日本放送協会
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前記透過率維持手段は、前記光分割手段と前記 基板の間 の光学系の透過率をほぼ一定に維持することを特徴とする請求項7の露光装置。
- 公開日:1998/05/06
- 出典:露光装置及びデバイス製造方法
- 出願人:キヤノン株式会社
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第1基板、前記第1基板に対向して配置される第2基板、並びに、前記第1基板及び前記第2基板に挟まれた液晶を有する表示パネルと、前記第1基板及び前記第2 基板の間 に形成され、前記第1基板及び前記第2基板の両方に接着するシール部材と、を備え、前記シール部材は、前記表示パネルを平面視した場合に、前記液晶を環状に囲む第1シール部と、一方の端部が前記第1シール部と接続し、他方の端部が前記第1基板及び前記第2基板と平面視で重畳する第2シール部と、を含む、液晶表示装置。
- 公開日:2020/03/26
- 出典:液晶表示装置の製造方法
- 出願人:パナソニック液晶ディスプレイ株式会社
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半導体記憶装置は、基板と、第1方向に配列された複数の第1配線と、第1方向に延伸する第2配線と、第1配線及び第2配線の間に設けられた抵抗変化膜と、第2配線よりも基板に近く第2方向に延伸する第3配線と、第2配線及び第3配線に接続された第1半導体層と、第1半導体層と対向する第1電極と、第2配線よりも基板から遠く第2配線に接続され第3方向に延伸する第4配線と、第4配線及び 基板の間 に設けられ第1方向に延伸し第4配線に接続された第5配線と、第5配線及び基板の間に設けられた第6配線と、第5配線及び第6配線の間に設けられ第5配線及び第6配線に接続された第2半導体層と、第2半導体層と対向する第2電極と、を備える。
- 公開日:2020/03/26
- 出典:半導体記憶装置
- 出願人:東芝メモリ株式会社
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特許文献2に開示の従来技術を適用すると、撮像基板と他基板間の電気配線を無くし、他基板に設けた給電端子から撮像基板に設けた受電端子を介して、撮像基板に搭載された電気素子と他 基板の間 で信号伝送ができる。
- 公開日:2020/03/26
- 出典:撮像装置
- 出願人:キヤノン株式会社
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そして、図1を用いて説明したようにTFT基板1004及び対向基板1006、つまりTFT基板200及び対向基板は、一定の間隙(セルギャップ)を介して貼り合わされ、これら 基板の間 の間隙に液晶が注入され封止される。
- 公開日:2020/03/26
- 出典:薄膜トランジスタ基板及びその製造方法、並びに、液晶表示装置
- 出願人:三菱電機株式会社
基板の間の原理 に関わる言及
基板の間の問題点 に関わる言及
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したがって、 基板の間 の液滴の移動、特に垂直の移動、または第1の基板から該第1の基板と同じ平面上に含まれない第2の基板への液滴の移動を制御するという問題が生じる。
- 公開日: 2005/09/02
- 出典: 2つ以上の固体基板間で液滴の移動を制御するデバイス
- 出願人: コミツサリアタレネルジーアトミークエオウゼネルジーアルテルナティブ
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従来の電磁波シールド性光透過窓材は、主に、金網のような導電性メッシュ材又は透明導電性フィルムをアクリル板等の透明 基板の間 に介在させて一体化した構成とされている。しかし、この電磁波シールド性光透過窓材では、光透過性が悪いという欠点がある。
- 公開日: 2006/06/01
- 出典: 低反射性導電膜の製造方法、電磁波シールド性光透過窓材及びその製造方法
- 出願人: 株式会社ブリヂストン
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しかしながら、上記のような構成では、凸部が基板にあまり食い込まず、凸部と凸部の間のシールド枠と 基板の間 隙が高周波の漏洩を防ぐことができない程開いてしまう場合がある。
- 公開日: 2000/02/25
- 出典: 筐体の基板シールド構造
- 出願人: 新日本無線株式会社
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液滴の拡がりと凝固のタイムスケールは、拡がりが完了した後にのみ液滴の大部分が凝固することを示す。しかしながら、液滴の局所的な凝固は、液滴の拡がりの完了の前に発生し、これが印刷された液滴の形状を決定する。局所的な凝固は、液滴と 基板の間 の接触線で発生し、液滴のさらなる拡がりを阻止する。
- 公開日: 2008/07/10
- 出典: 画像のデシメーションのための方法
- 出願人: パロアルトリサーチセンターインコーポレイテッド
基板の間の特徴 に関わる言及
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第一の基板および第二の基板と、第一の基板および第二の 基板の間 に配置された第一の電極、第二の電極、および調光層と、を有する調光フィルムと、調光フィルムに接続されたインダクタと、を有し、調光層は調光材料を有し、第一の電極および第二の電極の間に印加される交流電圧により調光材料が配向し調光フィルムの透過率が変化する調光素子。
- 公開日: 2014/05/15
- 出典: 調光素子、調光装置、調光フィルムの駆動方法、調光フィルムの駆動装置
- 出願人: 日立化成株式会社
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例えば、液晶表示装置は、通常、対向する一対の基板と、両 基板の間 に調光機能を有する表示素子とを備える。より具体的には、液晶表示装置の表示素子は、通常、一対の電極と、両基板の間に狭持された液晶とを含む。
- 公開日: 2013/07/25
- 出典: イオンセンサ、表示装置、イオンセンサの駆動方法、及び、イオン濃度の算出方法
- 出願人: シャープ株式会社
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一般的に、表示装置は情報処理装置で処理された電気的フォーマット形態のデータを画像に変換する。表示装置は、陰極線管方式の表示装置、液晶表示装置、有機電界発光表示装置及びプラズマ表示パネルなどが代表的である。これらのうち、液晶表示装置は、電極をそれぞれ形成された二枚の 基板の間 に液晶が注入された構造を有する。液晶表示装置は、電極の間に電界を形成して液晶の配列を変更させることにより画像を表示する。
- 公開日: 2006/04/20
- 出典: 熱処理装置及びこれに採用される液晶表示パネル冷却装置
- 出願人: 三星電子株式會社
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液晶表示装置では、二つの 基板の間 に注入されている異方性誘電率を有する液晶物質に電界が印加され、この電界の強さを調節することによって基板に透過される光の量が制御されて所望の画像が表示される。
- 公開日: 2003/09/25
- 出典: 動的輝度比を向上させるための液晶表示装置及びこの装置のためのガンマ電圧生成方法
- 出願人: 三星電子株式會社
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半導体の露光(電子、イオン線露光を除く)
- 半導体の露光の共通事項
- 紫外線,光露光の種類
- 紫外線,光露光用光源
- 光学系
- ステージ,チャック機構,及びそれらの動作
- ウェハ,マスクの搬送
- 露光の制御,調整の対象,内容
- 検知機能
- 検知機能の取付場所
- 制御,調整に関する表示,情報
- 位置合わせマーク
- 位置合わせマークの配置
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- 検出用光学系
- 位置合わせマークの検出一般及び検出の補助
- X線露光
- X線光学系
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- レジスト塗布
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- 光の吸収膜,反射膜
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曲げ・直線化成形、管端部の成形、表面成形
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- 曲げ、直線化成形、管端部の成形の区分(1)
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- 予備成形品及びその製造
- 予備成形材料の前処理・コンディショニング
- 予備成形品等の供給
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- 付属装置
- 成形品の後処理、後加工