メタンスルホン酸 の意味・用法を知る
メタンスルホン酸 とは、電気鍍金;そのための鍍金浴 や有機低分子化合物及びその製造 などの分野において活用されるキーワードであり、石原ケミカル株式会社 や株式会社大和化成研究所 などが関連する技術を4,584件開発しています。
このページでは、 メタンスルホン酸 を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
メタンスルホン酸の意味・用法
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本発明は、1,3,5−トリオキサンへのホルムアルデヒドの三量化のための、 メタンスルホン酸 を含む少なくとも1つの触媒の使用にも関する。
- 公開日:2017/08/24
- 出典:トリオキサンの製造方法
- 出願人:アトフイナ
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フルフラールの製造方法であって、以下のステップ:以下:(i) キシロース、キシロース単位を含むオリゴ糖、及びキシロース単位を含む多糖からなる群から選択される1種以上の物質(ii) メタンスルホン酸 (iii) 水性供給混合物中のフルフラールの溶解性を低下させるのに十分な濃度の1種以上の塩を含む水性供給混合物を提供するステップ、前記水性供給混合物を、1種以上の有機溶媒を含む抽出液と接触させるステップであって、前記1種以上の溶媒が、前記水性供給混合物より高いフルフラールの溶解性を有し、且つ前記水性供給混合物を前記抽出液と接触させるときに、2つの別々の液相が形成される(ここで第1液相中では水の濃度が前...
- 公開日:2016/12/22
- 出典:キシロースからのフルフラールの製造
- 出願人:バーゼル、ポリオレフィン、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツング
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前記α−アミノアミド誘導体は下記の化合物から選ばれたものであることを特徴とする、請求項1に記載のα−アミノアミド誘導体又はその薬剤学的に許容可能な塩:(S)−2−(((2'−フルオロビフェニル−4−イル)メチル)アミノ)プロパンアミド メタンスルホン酸 、(S)−2−(((3'−フルオロビフェニル−4−イル)メチル)アミノ)プロパンアミドメタンスルホン酸、(S)−2−(((4'−フルオロビフェニル−4−イル)メチル)アミノ)プロパンアミドメタンスルホン酸、(S)−2−(((2'−クロロビフェニル−4−イル)メチル)アミノ)プロパンアミドメタンスルホン酸、(S)−2−(((3'−クロロビフェニル−4...
- 公開日:2017/10/26
- 出典:α−アミノアミド誘導体化合物及びこれを含む薬学的組成物
- 出願人:メガバイオウッドカンパニー,リミテッド
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上記可溶性第一スズ塩(A)は基本的に水中でSn2+を発生させる有機又は無機のスズ塩であり、具体的には、 メタンスルホン酸 、エタンスルホン酸、2−ヒドロキシエタンスルホン酸、2−プロパノールスルホン酸、スルホコハク酸、p−フェノールスルホン酸などの有機スルホン酸の第一スズ塩を初め、ホウフッ化第一スズ、硫酸第一スズ、酸化第一スズ、ピロリン酸スズ、スルファミン酸スズ、塩化第一スズ、亜スズ酸塩などが挙げられる。
- 公開日:2016/05/12
- 出典:電気メッキ式の突起電極形成方法
- 出願人:石原ケミカル株式会社
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硫酸、もしくはアルキルスルホン酸、特に メタンスルホン酸 、またはこれらの組み合わせ中にある、請求項1に記載の化合物、または請求項2に記載の混合物。
- 公開日:2016/12/28
- 出典:アルカンおよび発煙硫酸からアルカンスルホン酸を製造するための新規な開始剤
- 出願人:グリロ−ヴエルケ・ア−ゲ−
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スルホン酸として15%から50%の メタンスルホン酸 を使用することを特徴とする、請求項2または3に記載の方法。
- 公開日:2016/07/14
- 出典:金属含有スクラップから金属を濃縮する方法
- 出願人:ヴォルフラム・パリッチュ
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本発明はまた、吸収器、脱着器、凝縮器、蒸発器、及び揮発性冷媒と吸収剤とを有する作業媒体を備える吸収式ヒートポンプに関し、前記吸収剤は、 メタンスルホン酸 を含有するものである。
- 公開日:2016/03/17
- 出典:吸収式ヒートポンプ、並びにメタンスルホン酸を含有する、吸収式ヒートポンプ用の吸収剤
- 出願人:エボニックデグサゲーエムベーハー
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本発明は、触媒としての メタンスルホン酸 の存在下で酢酸と過酸化水素を水性反応混合物中で反応させることによる平衡過酢酸の製造方法並びに前記方法により得られた平衡過酢酸に関する。
- 公開日:2015/12/10
- 出典:平衡過酢酸の製造方法及び前記方法により得られた平衡過酢酸
- 出願人:エボニックデグサゲーエムベーハー
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Sn合金めっき装置は、Sn合金めっき液中に不溶性アノード2と基板Wとを浸漬させるめっき槽1と、Snアノード70が配置されるアノード室66とカソード74が配置されるカソード室68とを隔離するアニオン交換膜78を有するSn溶解槽62と、アノード室66およびカソード室68に純水を供給する純水供給機構102と、アノード室66およびカソード室68に メタンスルホン酸 を含むメタンスルホン酸溶液を供給するメタンスルホン酸溶液供給機構103と、アノード室66で生成された、Snイオンおよびメタンスルホン酸を含むSn補充液をめっき槽1に供給するSn補充液供給機構82とを備えている。
- 公開日:2014/11/20
- 出典:Sn合金めっき装置およびSn合金めっき方法
- 出願人:株式会社荏原製作所
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グリセリンと、ヒドロキシ メタンスルホン酸 又はその塩との存在下で、水硬性化合物を粉砕する工程を有する、水硬性粉体の製造方法。
- 公開日:2014/10/02
- 出典:水硬性粉体の製造方法
- 出願人:花王株式会社
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有機低分子化合物及びその製造
- 発明の種類
- 用途
- 反応
- 精製;分離;安定化;その他の物理的処理
- 反応の促進・抑制(反応工学的手法によるもの→BD)
- 反応媒体、分離・精製・回収用溶媒
- 反応パラメ−タ−
- 反応工学的手法
- 反応試剤(触媒として明らかなもの→BA01〜85)
- 炭素環構造
- ハロゲン
- OH,OM
- エ−テル,アセタ−ル,ケタ−ル,オルトエステル
- アルデヒド
- ケトン,キノン
- カルボン酸,その塩,ハライド,無水物
- エステル(CO7C213/〜225/、227/〜229/、231/〜237 のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- ニトロ、ニトロソ、アミン(CO7C213/〜225/、227/〜229/、231/〜237/のいずれかが付与されている場合に付与している)
- カルボン酸アミド(C07C231/〜237/のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- オキシム
- 同位元素の種類(C07B59/00が付与されている場合に、付与している)
- ゼオライト、アルミノシリケ−ト;イオン交換樹脂(C071/〜15,27/〜39/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- ハロゲン化炭化水素(C07C19/〜25/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- 安定化剤(混合物は各成分にタ−ム付与)(C07C17/〜25/のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- 炭素骨格(C07C27/〜39/のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- 官能基(C07C27/〜39/のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- アルコ−ル(C07C27/〜39/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- 製法(C07C41/〜43/のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- 目的化合物(C07C41/〜43/のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- エステルの製法(C07C67/〜69/のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- 酸部分が種々の場合をとり得るエステル
- アルコ−ル部分が非環式炭素原子に結合している不飽和アルコールであるもの(C07C69/025 のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- アクリル酸またはメタクリル酸のエステル
- 酸素含有置換基を有するカルボン酸のエステル(C07C69/66〜69/738 のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- アミノカルボン酸(C07C227/229のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- ニトリルの製法(C07C253/〜255/、261/02 のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- カルバミン酸エステルの構造
- カルバミン酸エステルの製造
- 対象化合物の種類(C07C313/〜323/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- −SOn−含有特定部分構造(C07C313/〜323/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- −SOn−不含特定部分構造(C07C313/〜323/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- チオ誘導体のもつ官能基(C07C325/〜381/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- ビタミンD系化合物(C07C401/ のいずれかが付与されている場合は、付与している)
- C≧4不飽和側鎖をもつシクロヘキサン、シクロヘキセン
- プロスタグランジン系化合物(C07C405/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
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触媒
- 技術主題
- 成分I特定物質
- 成分II無機物質
- 成分III金属元素
- 成分IV非金属元素
- 成分V有機物質及び配位子
- 使用対象反応I環境保全関連
- 使用対象反応II化学合成用(C1化学除く)
- 使用対象反応IIIエネルギーと化学原料関連
- 使用対象反応IVその他
- 使用形態
- 構造及び物性I‐I外形(それ自体)
- 構造及び物性I‐II外形に関する他の特徴
- 構造及び物性II微細構造
- 構造及び物性III 物性
- 構造及び物性IV その他
- 調製及び活性化I 目的
- 調製及び活性化II プロセス
- 調製及び活性化III材料及び条件(クレーム)
- 再生または再活性化
- 光触媒の技術主題
- 光触媒の成分
- 光触媒の活性化
- 光触媒の調製
- 光触媒の使用対象
- その他
- ゼオライト及びモレキュラーシーブ(MS)
- ゼオライト及びMSの合成
- ゼオライト及びMS触媒の特定(クレームのみ)
- ゼオライト及びMS触媒の処理・修飾
- 処理・修飾及び組成物の目的(目的記載個所)
- 触媒組成物の態様