HCl水溶液 の意味・用法を知る

ＨＣｌガスおよびＨＣｌ水溶液の分離・精製。

• 公開日：2004/01/08
• 出典：ＨＢｒをほとんど含まないＨＣｌガス及びＨＢｒをほとんど含まないＨＣｌ水溶液の製造方法
• 出願人：バーゼル、ポリオレフィン、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツング

...した。Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（４ｍＬ）に溶解した２−クロロ−Ｎ−［２−（ジメチルアミノ）エチル］イソニコチンアミド（０.２１ｇ、０.９２ｍｍｏｌ）を滴下して加え、この混合物を室温で３０分間撹拌した後、１５０℃で４５分間加熱した。溶剤を真空蒸発させ、残留物を酢酸エチルおよび水に分配した。２Ｍ ＨＣｌ水溶液をｐＨ２まで加え、この混合物を酢酸エチルで抽出した。水層に、４５％ＮａＯＨ水溶液をｐＨ１１まで加え、この懸濁液を酢酸エチルで抽出した。水層を真空濃縮し、粗生成物を分取用ＨＰＬＣ（カラム：Ｘｔｅｒｒａ、１９×３００ｍｍ、溶出剤：０.０５Ｍ ＮＨ4ＯＡｃ緩衝液／アセトニトリル、９：１〜３：...

• 公開日：2005/09/08
• 出典：新規な化合物
• 出願人：アストラゼネカ・アクチエボラーグ

実施例３ 実施例２において酸化処理後、樹脂に吸着している過レニウム酸イオンを溶出するため、５重量％チオシアン酸アンモニウム水溶液１００ｍｌ中で１時間撹拌し、母液と分離した。次いで１Ｎの水酸化ナトリウム水溶液１００ｍｌ中にて１時間撹拌し母液と分離する操作を３回繰り返し、水２００ｍｌで洗浄後、１００ｍｌの水中に懸濁して１ＮのＨＣｌ水溶液で中和滴定を行ったところ、２８.５ｍｌを消費した。未使用の樹脂と比較すると、９５％交換容量が回復した。

• 公開日：1995/03/07
• 出典：レニウム吸着用陰イオン交換樹脂の再生方法
• 出願人：住友金属鉱山シポレックス株式会社

ＨＣｌ水溶液又は塩素化合物を硫酸にて脱水または分解して、高純度なＨＣｌガスを安価に製造する方法を提供する。

• 公開日：2000/06/27
• 出典：ＨＣｌガスの製造方法
• 出願人：三井化学株式会社

鋼帯を濃度が２〜３０mass％のＨＣｌ水溶液に浸漬して、または、鋼帯を酸洗して水洗した後濃度が５〜３０mass％の塩化鉄水溶液に浸漬して、水洗することなく５０〜５００℃に１〜６０秒間加熱した後、溶融めっき浴に浸漬する。

• 公開日：1995/10/09
• 出典：溶融めっきにおける鋼帯の活性化前処理法
• 出願人：日新製鋼株式会社

当該金ナノ粒子を透過型電子顕微鏡で観察したところ、多重双晶の粒子を含んでいることが観察された。 （第二工程） 濃度１００ｍＭの臭化ヘキサデシルトリメチルアンモニウム（ＣＴＡＢ）の水溶液４０ｍＬに対して、濃度１０ｍＭのＨＡｕＣｌ４の水溶液を２ｍＬ、濃度１０ｍＭの硝酸銀（ＡｇＮＯ３）の水溶液を０．４ｍＬ、濃度１Ｍの塩酸（ＨＣｌ水溶液）を０．８ｍＬ、濃度１００ｍＬのアスコルビン酸の水溶液を０．３２ｍＬ添加し、溶液を作製した。

• 公開日：2020/03/26
• 出典：金属ナノロッド含有樹脂、近赤外線遮蔽レンズ、近赤外線遮蔽眼鏡、保護具、近赤外線遮蔽窓材、近赤外線遮蔽器具、近赤外線遮蔽フィルム、近赤外線遮蔽ガラス、及び金属ナノロッド集合体の製造方法
• 出願人：住友金属鉱山シポレックス株式会社

次に、上記で得られた混練物を防食性容器に取り出したのち、１０Ｌの０．５質量％ＨＣｌ水溶液を加え、攪拌することによって、前記塩化ナトリウムおよびジエチレングリコールを溶解した組成物を得た。

• 公開日：2020/03/19
• 出典：水性顔料分散体及び水性顔料分散体の製造方法
• 出願人：ＤＩＣ株式会社

（ブランク値の測定） １５ｍＬのＴＨＦに、ジブチルアミンのＴＨＦ溶液（０．１Ｎ）１５ｍＬを加え、さらにブロモフェノールブルー（１％メタノール希釈液）を３滴加えて加えて青色に着色させた後、規定度が０．１ＮであるＨＣｌ水溶液で滴定した。変色がみられた時点のＨＣｌ水溶液の滴定量をＶb（ｍＬ）とした。

• 公開日：2020/03/19
• 出典：ウレタン（メタ）アクリレート、これを含む活性エネルギー線硬化性組成物、及びその硬化物
• 出願人：ダイセル・オルネクス株式会社

２−アミノフェニルフェニルスルフィド５００.０ｇ、トリエチルアミン３０１.４ｇ及び４−ジメチルアミノピリジン６０.６ｇを塩化メチレン２,５００ｇに溶解させた後、氷冷下にてメタンスルホニルクロリド３４０.９ｇを滴下し、室温で１８時間熟成させた。熟成後、２０質量％ＨＣｌ水溶液９０５ｇを加えて反応を停止し、分取した。得られた有機層を水１,０００ｇで３回洗浄した後、減圧濃縮し、得られた残渣にヘキサンを加えて再結晶を行い、得られた結晶を回収後、真空乾燥させることで、目的物であるＮ−２−フェニルチオフェニルメタンスルホンアミド（中間体Ａ）５８９.９ｇを得た（収率８５％）。

• 公開日：2020/03/12
• 出典：スルホニウム化合物、ポジ型レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法
• 出願人：信越化学工業株式会社

...０００ｇ、尿素１８００ｇ、塩化第一銅１８０ｇ、モリブデン酸アンモニウム５ｇ、塩化マグネシウム１０００ｇ、塩化ナトリウム１０００ｇを加え、１７０℃まで徐々に加熱した後、１７０℃で４時間加熱攪拌を続け反応を終了させた。冷却後、反応物を２０ｋｇの冷水に取り出し、１０ｋｇの２％ＮａＯＨ水溶液、１０ｋｇの１％ＨＣｌ水溶液、温水の順で洗浄、濾過を繰り返し、次いで乾燥し、粗製銅フタロシアニンを得た。得られた粗製銅フタロシアニンは、平均一次粒子径が０．０５〜０．３μｍで、β型であった。 なお、透過型電子顕微鏡としては、日本電子（株）製ＪＥＭ−２０１０を、Ｘ線回折装置としては、（株）リガク製ＬＩＮＴ１１００...

• 公開日：2020/03/12
• 出典：表示装置
• 出願人：ＤＩＣ株式会社