HCl水溶液 の意味・用法を知る
HCl水溶液 とは、ハロゲン、その化合物 やピリジン系化合物 などの分野において活用されるキーワードであり、住友金属鉱山シポレックス株式会社 や三井化学株式会社 などが関連する技術を1,390件開発しています。
このページでは、 HCl水溶液 を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
HCl水溶液の意味・用法
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HClガスおよびHCl水溶液の分離・精製。
- 公開日:2004/01/08
- 出典:HBrをほとんど含まないHClガス及びHBrをほとんど含まないHCl水溶液の製造方法
- 出願人:バーゼル、ポリオレフィン、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツング
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...した。N,N−ジメチルホルムアミド(4mL)に溶解した2−クロロ−N−[2−(ジメチルアミノ)エチル]イソニコチンアミド(0.21g、0.92mmol)を滴下して加え、この混合物を室温で30分間撹拌した後、150℃で45分間加熱した。溶剤を真空蒸発させ、残留物を酢酸エチルおよび水に分配した。2M HCl水溶液をpH2まで加え、この混合物を酢酸エチルで抽出した。水層に、45%NaOH水溶液をpH11まで加え、この懸濁液を酢酸エチルで抽出した。水層を真空濃縮し、粗生成物を分取用HPLC(カラム:Xterra、19×300mm、溶出剤:0.05M NH4OAc緩衝液/アセトニトリル、9:1〜3:...
- 公開日:2005/09/08
- 出典:新規な化合物
- 出願人:アストラゼネカ・アクチエボラーグ
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実施例3 実施例2において酸化処理後、樹脂に吸着している過レニウム酸イオンを溶出するため、5重量%チオシアン酸アンモニウム水溶液100ml中で1時間撹拌し、母液と分離した。次いで1Nの水酸化ナトリウム水溶液100ml中にて1時間撹拌し母液と分離する操作を3回繰り返し、水200mlで洗浄後、100mlの水中に懸濁して1NのHCl水溶液で中和滴定を行ったところ、28.5mlを消費した。未使用の樹脂と比較すると、95%交換容量が回復した。
- 公開日:1995/03/07
- 出典:レニウム吸着用陰イオン交換樹脂の再生方法
- 出願人:住友金属鉱山シポレックス株式会社
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HCl水溶液又は塩素化合物を硫酸にて脱水または分解して、高純度なHClガスを安価に製造する方法を提供する。
- 公開日:2000/06/27
- 出典:HClガスの製造方法
- 出願人:三井化学株式会社
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鋼帯を濃度が2〜30mass%のHCl水溶液に浸漬して、または、鋼帯を酸洗して水洗した後濃度が5〜30mass%の塩化鉄水溶液に浸漬して、水洗することなく50〜500℃に1〜60秒間加熱した後、溶融めっき浴に浸漬する。
- 公開日:1995/10/09
- 出典:溶融めっきにおける鋼帯の活性化前処理法
- 出願人:日新製鋼株式会社
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当該金ナノ粒子を透過型電子顕微鏡で観察したところ、多重双晶の粒子を含んでいることが観察された。 (第二工程) 濃度100mMの臭化ヘキサデシルトリメチルアンモニウム(CTAB)の水溶液40mLに対して、濃度10mMのHAuCl4の水溶液を2mL、濃度10mMの硝酸銀(AgNO3)の水溶液を0.4mL、濃度1Mの塩酸(HCl水溶液)を0.8mL、濃度100mLのアスコルビン酸の水溶液を0.32mL添加し、溶液を作製した。
- 公開日:2020/03/26
- 出典:金属ナノロッド含有樹脂、近赤外線遮蔽レンズ、近赤外線遮蔽眼鏡、保護具、近赤外線遮蔽窓材、近赤外線遮蔽器具、近赤外線遮蔽フィルム、近赤外線遮蔽ガラス、及び金属ナノロッド集合体の製造方法
- 出願人:住友金属鉱山シポレックス株式会社
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次に、上記で得られた混練物を防食性容器に取り出したのち、10Lの0.5質量%HCl水溶液を加え、攪拌することによって、前記塩化ナトリウムおよびジエチレングリコールを溶解した組成物を得た。
- 公開日:2020/03/19
- 出典:水性顔料分散体及び水性顔料分散体の製造方法
- 出願人:DIC株式会社
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(ブランク値の測定) 15mLのTHFに、ジブチルアミンのTHF溶液(0.1N)15mLを加え、さらにブロモフェノールブルー(1%メタノール希釈液)を3滴加えて加えて青色に着色させた後、規定度が0.1NであるHCl水溶液で滴定した。変色がみられた時点のHCl水溶液の滴定量をVb(mL)とした。
- 公開日:2020/03/19
- 出典:ウレタン(メタ)アクリレート、これを含む活性エネルギー線硬化性組成物、及びその硬化物
- 出願人:ダイセル・オルネクス株式会社
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2−アミノフェニルフェニルスルフィド500.0g、トリエチルアミン301.4g及び4−ジメチルアミノピリジン60.6gを塩化メチレン2,500gに溶解させた後、氷冷下にてメタンスルホニルクロリド340.9gを滴下し、室温で18時間熟成させた。熟成後、20質量%HCl水溶液905gを加えて反応を停止し、分取した。得られた有機層を水1,000gで3回洗浄した後、減圧濃縮し、得られた残渣にヘキサンを加えて再結晶を行い、得られた結晶を回収後、真空乾燥させることで、目的物であるN−2−フェニルチオフェニルメタンスルホンアミド(中間体A)589.9gを得た(収率85%)。
- 公開日:2020/03/12
- 出典:スルホニウム化合物、ポジ型レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法
- 出願人:信越化学工業株式会社
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...000g、尿素1800g、塩化第一銅180g、モリブデン酸アンモニウム5g、塩化マグネシウム1000g、塩化ナトリウム1000gを加え、170℃まで徐々に加熱した後、170℃で4時間加熱攪拌を続け反応を終了させた。冷却後、反応物を20kgの冷水に取り出し、10kgの2%NaOH水溶液、10kgの1%HCl水溶液、温水の順で洗浄、濾過を繰り返し、次いで乾燥し、粗製銅フタロシアニンを得た。得られた粗製銅フタロシアニンは、平均一次粒子径が0.05〜0.3μmで、β型であった。 なお、透過型電子顕微鏡としては、日本電子(株)製JEM−2010を、X線回折装置としては、(株)リガク製LINT1100...
- 公開日:2020/03/12
- 出典:表示装置
- 出願人:DIC株式会社