高速 の意味・用法を知る

本発明にかかる建具１は、スライダー３９と、移動部材６１と、ラック６３を障子５に備え、スライダー３９は 高速 時作動ダンパー７１を有すると共に障子５の開方向に付勢してあり、移動部材６１は、低速時作動ダンパー８１を有すると共にスライダー３９に対して障子５の開方向に付勢してあり、且つ障子５の開閉方向に移動自在にスライダー３９に保持してあり、ラック６３は、障子５に固定してあり且つ低速時作動ダンパー８１が常時係合しており、障子５を高速で閉じたときにのみ、移動部材６１の障子５の閉方向への移動量がスライダー３９の障子５の閉方向の移動量よりも相対的に大きくなって高速時作動ダンパー７１がラック６３に係合する。

• 公開日：2016/09/29
• 出典：建具
• 出願人：三協立山株式会社

自動車用ディスクブレーキパッド等の摩擦材に用いた際に、特に環境負荷の高い銅を用いない組成、あるいは銅を含有する場合でも０．５質量％と銅の含有量が少ない組成であっても、 高速 フェード条件での摩擦係数が高い摩擦材組成物、摩擦材及び摩擦部材を提供する。

• 公開日：2016/05/16
• 出典：摩擦材組成物、摩擦材組成物を用いた摩擦材及び摩擦部材
• 出願人：日本ブレーキ工業株式会社

...外光量を特定する外光検出部（３００）、外光量の変化率又は変化量である外光変化量（ΔＸ）を演算する変化量取得部（３０１）、外光変化量に対応する光量を補償するための調光変化量（ΔＤ）を決定する調光量決定部（３０２）、調光率を調光変化量だけ緩徐変化させる低速調光制御又は調光率を調光変化量だけ瞬時変化させる 高速 調光制御を外光変化量又は調光変化量に基づいて選択する制御選択部（３０３）、及び制御選択部によって選択された低速調光制御又は高速調光制御に従って照明器具（４）を調光制御する調光制御部（３０４）を含むＣＰＵ（３０）を備える。

• 公開日：2017/03/16
• 出典：照明制御システム、照明制御プログラム及び照明制御方法
• 出願人：岩崎電気株式会社

高速 側燃料流路および低速側燃料流路を有する気化器本体と、前記各燃料流路と連通して前記気化器本体に互いに近接して設けられた高速側調整孔および低速側調整孔と、前記高速側燃料流路と前記低速側燃料流路の有効面積を別個に手動で調整するために前記各調整孔と螺合して軸方向に移動可能に接続される高速側調整弁および低速側調整弁と、前記高速側調整弁および低速側調整弁に設けられた弁側係止部に制御手段として接続され、前記弁側係止部に嵌合することにより前記高速側調整弁および低速側調整弁と周方向の動作を一体化させるためのキャップ側係止部、前記高速側調整弁軸方向および低速側調整弁の第一ステップまたは第二ステップと嵌合するこ...

• 公開日：2016/05/30
• 出典：気化器
• 出願人：ザマ・ジャパン株式会社

第１の壁のうち吹出口側の一部は、気流偏向部材が発生させた 高速 の気流の向きを第２の壁から第１の壁に向かう方向とするように、高速の気流をガイドするガイド壁（１４）を構成する。

• 公開日：2017/08/31
• 出典：空気吹出装置
• 出願人：株式会社デンソー

次いで、犠牲スレッドは、プライオリティキューにおける 高速 レーンに要求を配置し、競合スレッドを解放し、引き続き、高速レーンにおける要求を消費することができる。

• 公開日：2016/04/21
• 出典：ミドルウェアマシン環境において協働的同時並行性をサポートするためのシステムおよび方法
• 出願人：オラクルコーポレーション

高速 なラダー演算を可能にしつつ、電源がオフとなってもラダー演算に用いる内部レジスタのデータ値を保持できるプログラマブルコントローラを提供する。

• 公開日：2016/08/08
• 出典：プログラマブルコントローラ
• 出願人：株式会社日立産機システム

制御回路１２は、駆動スイッチＳＷの操作が低速指令操作であるか 高速 指令操作であるかを判定し、速度指令値設定部２３は、駆動スイッチＳＷの操作が低速指令操作と判定された場合に、低速度値を速度指令値ωｄに設定し、高速指令操作と判定された場合に、前記低速度値よりも大きい高速度値を速度指令値ωｄに設定する。

• 公開日：2016/07/07
• 出典：車両シート制御装置
• 出願人：株式会社デンソー

本発明は、昇華法を用いて炭化珪素結晶体を 高速 に製造する装置とその方法に関し、炭化珪素結晶体の成長速度を向上させるための問題を解決する。

• 公開日：2017/07/20
• 出典：昇華法を用いて炭化珪素結晶体を高速に製造する装置とその方法
• 出願人：台州市一能科技有限公司

レーザ加工ヘッド１内の集光レンズ５の下側に、当該集光レンズ５を保護する保護ガラス１５を備え、かつ上記保護ガラス１５の下面に沿って保護ガスを流すガス流形成手段を備えたレーザ加工ヘッドにおいて前記保護ガラス１５にヒュームが付着することを防止する保護ガラス汚染防止方法であって、前記保護ガラス１５の下側に、中央孔４３を備えたヒュームアパーチャ４１を配置して、前記保護ガスの流出路に絞りを付与し、前記保護ガスを前記中央孔４３からより 高速 に流出して前記保護ガラス１５に対してヒュームが付着することを防止する。

• 公開日：2015/11/16
• 出典：保護ガラス汚染防止方法及びレーザ加工ヘッド
• 出願人：株式会社アマダ