高周波電源 の意味・用法を知る
高周波電源 とは、プラズマの発生及び取扱い や半導体のドライエッチング などの分野において活用されるキーワードであり、東京エレクトロン株式会社 やパナソニック株式会社 などが関連する技術を37,903件開発しています。
このページでは、 高周波電源 を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
高周波電源の意味・用法
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誘導結合型プラズマ処理装置1は、誘導コイル16とプラズマ処理空間Vを隔てる誘電体窓15の誘導コイル16側に設けられたクリーニング電極3と、クリーニング電極3に高周波電力を供給する 高周波電源 162と、誘電体窓15のプラズマ処理室V側に設けられた交換可能な前置板2と、を備える。
- 公開日:2018/02/22
- 出典:誘導結合型プラズマ処理装置
- 出願人:サムコ株式会社
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高周波を用いたマッサージローラーに関し、肌をローリングマッサージする2つの回転ローラーに基準電源及び 高周波電源 をそれぞれ供給し、基準電極及び治療電極で活用することによって回転ローラーを肌に接触させ、ローリングマッサージする過程で身体の内部に深部熱を発生させることができ、マッサージ機能だけでなく、深部熱による高周波治療機能まで発揮できて脂肪分解効果や皮膚弾力強化効果の様な美容効果がより強化され、2つの回転ローラーに基準値以上の皮膚接触加圧力が作用した場合にのみ電源が供給されるように安全スイッチを取り付けることによって肌の表面から回転ローラーが離隔されても、安全スイッチを通して回転ローラーに電源供...
- 公開日:2017/11/02
- 出典:高周波を用いたマッサージローラー{Massage Roller Using High Frequency Current}
- 出願人:ハン,ソンホ
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したがって、 高周波電源 3から見た負荷のインピーダンスが高くなるので、高周波電源3の出力が低電力であっても、チャンバ1に高い電圧を印加することができる。
- 公開日:2018/03/29
- 出典:プラズマ生成装置
- 出願人:株式会社ダイヘン
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このような構成により、給電施設において 高周波電源 を供給するための装置を別途設ける必要がないため、スペース効率に優れた給電システムが可能となる。
- 公開日:2017/08/10
- 出典:車止め、コイルユニット及びそれらを有する給電システム
- 出願人:矢崎総業株式会社
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高周波電源 部は、基本周波数の高周波の電圧波形の正の電圧成分を低減させた出力波を発生するよう構成されている。
- 公開日:2017/11/09
- 出典:プラズマ処理装置
- 出願人:東京エレクトロン株式会社
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基板Gに対して所定のプラズマ処理を施すプラズマ処理装置1は、基板Gを収容する処理容器2と、処理容器2内に処理ガスを供給するガス供給部28と、処理容器2内に配置された電極3と、電極3に、パルス変調された高周波電力を供給する 高周波電源 部53と、処理容器2から高周波電源部53に向けて戻る反射波電力を所定周期で測定する反射波電力測定部54と、反射波電力測定部54で測定した反射波電力が所定の条件になったときに、処理容器2内でアーク放電が発生する蓋然性がある、または実際にアーク放電が発生したと判定する判定部121とを備え、パルス変調された高周波電力のパルス周期と、反射波電力測定部54における測定周期が異な...
- 公開日:2017/10/05
- 出典:プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
- 出願人:東京エレクトロン株式会社
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充電電源102は、 高周波電源 106の休止期間中にバンクコンデンサ104を目標電圧VREFに充電する。
- 公開日:2017/10/05
- 出典:レーザ駆動装置
- 出願人:住友重機械工業株式会社
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一実施形態のプラズマ発生装置は、高周波電力を発生させる 高周波電源 と、前記高周波電源に接続され、内部に冷却水を流通可能な中空管により形成されたプラズマ生成用電極と、前記プラズマ生成用電極の内部の前記冷却水の導電率を測定する導電率計と、前記導電率計により測定される前記冷却水の導電率に基づいて、前記高周波電源の出力を制御する制御部とを有する。
- 公開日:2018/04/12
- 出典:プラズマ発生装置、プラズマ処理装置及びプラズマ発生装置の制御方法
- 出願人:東京エレクトロン株式会社
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基板に対して原料ガスを供給し、基板に対してプラズマを照射して成膜処理を行う基板処理装置であって、基板を載置する載置台を気密に収容する処理容器と、前記処理容器内にプラズマを生成するプラズマ源と、を備え、前記プラズマ源には、プラズマ生成用の 高周波電源 が備えられ、前記プラズマ源は、生成されるプラズマのシース電位を低減させるシース電位低減手段を備える。
- 公開日:2017/09/07
- 出典:基板処理装置
- 出願人:東京エレクトロン株式会社
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...電体窓を介して配置され、処理容器内に供給された処理ガスを誘導結合によってプラズマ化するための高周波アンテナを備えたプラズマ発生部と、前記高周波アンテナが配置される空間を囲むシールド部材と、を備え、前記プラズマ発生部は、内側と外側とに開放端を持つ渦巻きコイルからなり、これら開放端の間の線路の中央部に、 高周波電源 から供給される高周波の供給点と、コンデンサを介して接地される接地点と、を備え、前記高周波の周波数に対応する共振周波数を持つ第1の高周波アンテナと、前記第1の高周波アンテナを上面側から見たとき、前記内側または外側の一方の開放端から、前記高周波の供給点までの渦巻きコイルからなる第1の高周波アン...
- 公開日:2016/05/23
- 出典:プラズマ処理装置
- 出願人:東京エレクトロン株式会社
高周波電源の特徴 に関わる言及
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プラズマ発生手段は、例えば 高周波電源 と並行平板型の電極を備えた高周波プラズマ処理装置、もしくはマイクロ波電源と放電室を備えたマイクロ波放電プラズマ処理装置等の周知のプラズマ処理装置で構成される。
- 公開日: 2001/07/19
- 出典: 半導体装置の製造方法及び製造装置
- 出願人: ルネサスエレクトロニクス株式会社
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本実施形態のレーザー駆動陽子線照射装置Aは、図10に示すように、エネルギー分布集束装置5Aおよびビーム強度監視装置7Aを備える。また、レーザー駆動陽子線照射装置Aの照射制御装置6Aは、エネルギー分布集束制御部604Aおよび 高周波電源 605Aを有する。
- 公開日: 2010/06/10
- 出典: レーザー駆動粒子線照射装置およびレーザー駆動粒子線照射装置の動作方法
- 出願人: 独立行政法人日本原子力研究開発機構
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気相成長(金属層を除く)
- 成長法
- 成長層の組成
- 導入ガス
- 成長条件(1)成膜温度T 請求項+実施例に記載されている成膜温度を全て付与する(除く従来例)
- 成長条件(2)成膜時の圧力P 請求項+実施例に記載されている成膜時の圧力を全て付与する(除く従来例)
- 被成膜面の組成・基板の特徴・ダミー基板・マスク
- 目的
- 半導体素子等への用途
- 機能的用途
- 半導体成長層の構造
- 半導体層の選択成長
- 絶縁体成長層の構造・絶縁体層の選択成長
- 装置の形式(1)基板支持の形態・成膜中の基板の運動 図面+詳細な説明に例示されている形式をすべて付与する(除く従来例)
- 装置の形式(2)成膜室の形態 図面+詳細な説明に例示されている形式をすべて付与する(除く従来例)
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