高周波 の意味・用法を知る
高周波 とは、画像処理 や電子レンジ などの分野において活用されるキーワードであり、パナソニック株式会社 や三菱電機株式会社 などが関連する技術を14,273件開発しています。
このページでは、 高周波 を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
高周波の意味・用法
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これにより、送電コイル33と受電コイル43との間で共鳴する 高周波 の位相だけでなく、整流回路か41ら負荷14まで間における高周波の位相のずれも最適化される。
- 公開日:2016/04/25
- 出典:無線給電装置
- 出願人:株式会社デンソー
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...ブレットパケット変換画像を生成するウェーブレットパケット変換部11と、複数階層のウェーブレットパケット変換画像間で位置合わせして位置合わせ情報を生成する位置合わせ部12と、位置合わせ情報に従って、ウェーブレットパケット変換画像を、該ウェーブレットパケット変換画像に含まれるエイリアシング成分に対応する 高周波 成分が含まれる超解像高周波帯域に割付けて、前記被超解像画像の高周波成分を推定した超解像高周波成分画像を生成する超解像高周波成分生成部13と、被超解像画像を低周波成分とし超解像高周波成分画像を高周波成分としてウェーブレットパケット再構成して超解像画像を生成するウェーブレットパケット再構成部14と...
- 公開日:2018/02/08
- 出典:超解像装置及びプログラム
- 出願人:日本放送協会
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前記ピント評価値と、前記画像中における 高周波 成分の所定値とに基づいて強調表示用閾値を設定し、前記高周波成分の所定値が前記強調表示用閾値以上である場合に前記強調表示を行う請求項2に記載の表示制御装置。
- 公開日:2018/04/05
- 出典:表示制御装置、表示制御方法および表示制御プログラム
- 出願人:ソニー株式会社
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右目標転舵角演算部53は、左旋回時に右基本目標転舵角δROの 高周波 成分を低減させるための高周波成分低減処理を行う。
- 公開日:2018/01/25
- 出典:車両用操舵装置
- 出願人:株式会社ジェイテクト
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本発明のアーク倣い溶接方法は、溶接方向に対してトーチを揺動させるウィビング機能を備えた消耗電極型の溶接装置におけるアーク倣い溶接方法であって、消耗電極へ供給する溶接電流及び溶接電圧に 高周波 成分を重畳するようにしておき、溶接中における前記溶接電流及び溶接電圧から、電極の高さ変動に伴う抵抗値変化を検出し、検出された抵抗値の変化量とウィービングの左右位置とから溶接線のズレを検出する。
- 公開日:2017/10/12
- 出典:アーク倣い溶接方法
- 出願人:株式会社神戸製鋼所
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この 高周波 アブレーションカテーテルには複数種類の構造の密着調節ワイヤ(6)が設けられていることから、螺旋構造の高周波アブレーションカテーテルを異なる直径の対象管腔に適用し、電極支持体における電極(2)の密着状態を良好にすることができる。
- 公開日:2018/02/08
- 出典:螺旋構造の高周波アブレーションカテーテル及びその機器
- 出願人:上海魅麗緯叶医療科技有限公司
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信号発生装置2は、低周波電圧信号を発生する低周波発生モードと、低周波電圧信号の発生を終了した後、低周波電圧信号の最大周波数の10倍以上の周波数の 高周波 電圧信号を発生する高周波発生モードを併用する。
- 公開日:2018/02/08
- 出典:育毛促進装置
- 出願人:日本エステサービス株式会社
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前記第1のコイルの自己共振周波数は、前記 高周波 電源が発生する高周波の周波数の2倍以上である、請求項8〜23の何れか一項に記載のプラズマ処理装置。
- 公開日:2017/11/02
- 出典:変圧器、プラズマ処理装置、及び、プラズマ処理方法
- 出願人:東京エレクトロン株式会社
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加算処理部34が、第1および第2の 高周波 成分GH1,GH2に対して重み付け加算を行うことにより加算高周波成分GHaを生成し、合成部35が、加算高周波成分GHaと第2の低周波成分GL2とを合成して処理済み画像を生成する。
- 公開日:2018/03/15
- 出典:画像処理装置、方法およびプログラム
- 出願人:富士フイルム株式会社
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高周波 電源部は、基本周波数の高周波の電圧波形の正の電圧成分を低減させた出力波を発生するよう構成されている。
- 公開日:2017/11/09
- 出典:プラズマ処理装置
- 出願人:東京エレクトロン株式会社
高周波の原理 に関わる言及
高周波の問題点 に関わる言及
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高周波 や超音波をより効率的に供給でき、生体内や配管内など狭い場所でも使用することができる液中プラズマ発生装置や清掃装置、補修装置、清掃方法、補修方法を提供する。
- 公開日: 2011/10/20
- 出典: 液中プラズマ発生装置、これを用いた清掃装置、補修装置、清掃方法および補修方法
- 出願人: 豊田洋通
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従来の各種加熱方式は、被加熱物の加熱の均一化が主眼であるため加熱室内の特定領域に 高周波 が集中することを解消させるものであった。このために種類の異なる複数の被加熱物を同時加熱する場合、一つの被加熱物が適温に加熱された時に他の被加熱物は加熱不足であったり加熱されすぎてしまい、種類の異なる複数の被加熱物を同時に適温に加熱することが困難であった。
- 公開日: 2001/10/31
- 出典: 高周波加熱装置
- 出願人: パナソニック株式会社
高周波の特徴 に関わる言及
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製造するのが簡単なシールドを有する直角コネクタと、その直角コネクタを通して伝導される信号の 高周波 まで効果的なシールドを達成することを可能にする直角コネクタのシールドを製造するための方法。
- 公開日: 2012/04/05
- 出典: シールドを有する直角コネクタと直角コネクタのシールドを生成するための方法
- 出願人: エルニプロダクションゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツングウントコンパニーコマンディトゲゼルシャフト
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情報記録再生装置に適用される情報記録再生ヘッドは、 高周波 磁気記録が可能なものである。従って、上記構成によれば、高周波磁気記録が可能な情報記録再生装置を実現できる。
- 公開日: 2006/04/27
- 出典: 電磁界発生素子、情報記録再生ヘッド、及び情報記録再生装置
- 出願人: シャープ株式会社
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放電灯負荷を 高周波 で点灯する放電灯点灯装置において、起動時にフィラメント端子の一端が外れたことを検知し、放電灯の寿命末期も検知できる安全性の優れた、安価で且つ小型化できる放電灯点灯装置を提供する。
- 公開日: 2012/02/09
- 出典: 放電灯点灯装置および放電灯点灯装置を用いた照明器具
- 出願人: パナソニックIPマネジメント株式会社
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近接場による光アシスト磁気記録再生の 高周波 磁気記録再生において、磁界の減衰または遅延を低減させることができる電磁界発生素子、情報記録再生ヘッドおよび情報記録再生装置を提供する。
- 公開日: 2004/10/28
- 出典: 電磁界発生素子、情報記録再生ヘッドおよび情報記録再生装置
- 出願人: シャープ株式会社
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特に本目的は、 高周波 凝固電流を組織へと伝えることが可能な少なくとも一つの電極を含んだ、組織の間質凝固のための装置により達成される。当該電極は、凝固中、連続的あるいは段階的な本体の拡張によって該電極が組織と一定の電気的接触を保つことが可能となるようにそれ自身が異なる大きさに拡張可能な立体的な本体として構成されているか、あるいはこのような本体に結合しているかのどちらかである。
- 公開日: 2007/08/23
- 出典: 組織の間質凝固のための装置
- 出願人: エルベエレクトロメディツィンゲーエムベーハー
高周波の使用状況 に関わる言及
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高周波加熱[構造]
- 目的
- 特定用途に適用
- 加熱源
- アプリケータ
- 給電路
- 高周波放射部(含、アンテナ)
- 被加熱物支持部
- 機器部
- 操作部
- 付属品
- 扉・ドア
- スライド,並行移動蓋天蓋開放
- 覗き窓
- 電波チョークに依らないシール構造
- コンベヤ式等電子レンジ以外のもの
- チョーク一般;チョーク配置、他部品との関係
- 周期体付チョーク溝
- 多チョーク溝及寸法限定
- チョークカバー(吸収体の付加を含む)
- 物品出入口以外の電波洩れ防止,検知
- 目的
- ターンテーブル軸,モータ軸の位置
- ターンテーブルとモータ軸の自在な嵌合
- 固定支持車装置;遊走車装置
- 磁石の回転など貫通軸なし
- ターンテーブルの揺動
- 平行移動(コンベヤ式)
- 平行移動(導波管式)
- 特殊応用
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気相成長(金属層を除く)
- 成長法
- 成長層の組成
- 導入ガス
- 成長条件(1)成膜温度T 請求項+実施例に記載されている成膜温度を全て付与する(除く従来例)
- 成長条件(2)成膜時の圧力P 請求項+実施例に記載されている成膜時の圧力を全て付与する(除く従来例)
- 被成膜面の組成・基板の特徴・ダミー基板・マスク
- 目的
- 半導体素子等への用途
- 機能的用途
- 半導体成長層の構造
- 半導体層の選択成長
- 絶縁体成長層の構造・絶縁体層の選択成長
- 装置の形式(1)基板支持の形態・成膜中の基板の運動 図面+詳細な説明に例示されている形式をすべて付与する(除く従来例)
- 装置の形式(2)成膜室の形態 図面+詳細な説明に例示されている形式をすべて付与する(除く従来例)
- 成膜一般
- 成膜室・配管構造・配管方法
- ガス供給・圧力制御
- ノズル・整流・遮蔽・排気口
- 排気・排気制御・廃ガス処理
- プラズマ処理・プラズマ制御
- 冷却
- 加熱(照射)・温度制御
- 基板支持
- 搬出入口・蓋・搬送・搬出入
- 測定・測定結果に基づく制御・制御一般
- 機械加工プロセスとの組み合わせ
- 他プロセスとの組合せ