雰囲気 の意味・用法を知る
雰囲気 とは、熱処理 や半導体の露光(電子、イオン線露光を除く) などの分野において活用されるキーワードであり、JFEスチール株式会社 や新日鐵住金株式会社 などが関連する技術を27,959件開発しています。
このページでは、 雰囲気 を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
雰囲気の意味・用法
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本発明のオゾン殺菌方法は、殺菌が必要な環境1Eを区画するチャンバ2の内側にオゾンガスを供給するオゾンガス供給ステップS11と、チャンバ2の内側に水を散布する水散布ステップS12と、オゾンガスおよび水のミストが存在するチャンバ2内の 雰囲気 を循環させる循環ステップS13とを含む。
- 公開日:2017/09/21
- 出典:オゾン殺菌方法
- 出願人:三菱重工メカトロシステムズ株式会社
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車載のバッテリの近傍の 雰囲気 の温度を検出するセンサを介して得られる温度値の時系列をなまし処理することを通じて現在のバッテリの液温を推測するものであって、車速が高い場合におけるなましの程度を、車速が低い場合におけるなましの程度と比較して大きくする制御装置を構成した。
- 公開日:2017/08/31
- 出典:制御装置
- 出願人:ダイハツ工業株式会社
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耐浸炭性及び耐酸化性に優れた、浸炭性を有する 雰囲気 となる自動車排気系又は燃料改質器用フェライト系ステンレス鋼板及びその製造方法を提供する。
- 公開日:2018/02/01
- 出典:耐浸炭性及び耐酸化性に優れたフェライト系ステンレス鋼板及びその製造方法
- 出願人:新日鐵住金ステンレス株式会社
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カーボンモレキュラーシーブ(CMS)膜が、硫黄含有化合物を含む熱分解 雰囲気 中で、ポリマー前駆体膜を熱分解することによって作製される。
- 公開日:2018/03/29
- 出典:硫黄含有化合物を含む熱分解雰囲気を用いた、カーボンモレキュラーシーブ膜の製造
- 出願人:レール・リキード-ソシエテ・アノニム・ア・ディレクトワール・エ・コンセイユ・ドゥ・スールベイランス・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード
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集束剤を付与した多数本のガラスフィラメント1を集束してガラスストランド2を成形する工程と、ガラスストランド2をケーキ3として巻き取る巻き取り工程と、ケーキ3からガラスストランド2を引き出す引き出し工程と、引き出したガラスストランド2を切断することで、ガラスチョップドストランド4を得る切断工程とを備え、引き出し工程においてケーキ3が置かれる 雰囲気 30を湿潤状態に維持する。
- 公開日:2016/05/26
- 出典:ガラスチョップドストランドの製造方法及び製造装置
- 出願人:日本電気硝子株式会社
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...イに支持されるシールドチップが、前記レーザ光通路を形成し内部基端部を前記トーチボデイに向け内部先端部を被加工部に向けることをできる部材である内部シールドチップと、外部基端部を前記トーチボデイに向け外部先端部を前記内部先端部の位置より該外部基端部の側へ所定の距離Dだけずれた箇所に位置させ該外部先端部に 雰囲気 に開かれた環状の開口である外部開口を形成する部材である外部シールドチップと、を有し、レーザ光を被加工部に照射するための姿勢にあるとき、シールドガスが前記外部開口を通過して雰囲気に噴出し、被加工物に吹き付けられ被加工部をシールドする、ものとした。
- 公開日:2017/10/05
- 出典:レーザ加工装置用加工ヘッド
- 出願人:株式会社WEL-KEN
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水晶振動子が置かれる 雰囲気 の温度を検出し、その温度検出値に基づいて加熱部を制御して前記雰囲気の温度を一定にする発振装置において、周波数の安定度の高い発振出力を得る。
- 公開日:2017/08/24
- 出典:発振装置
- 出願人:日本電波工業株式会社
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本発明は、歯科用セラミック体の外表面の少なくとも一部をビスマス含有物質で処理することにより、前記歯科用セラミック体又はその前駆体に蛍光を付与する方法であって、以下のステップ: a) 歯科用セラミック体またはその前駆体を密閉可能な容器に配置すること; b) 容器内にビスマス含有 雰囲気 を生成させること、及び c) 1000℃を超える温度で、歯科用セラミックまたは前駆体の少なくとも一部の外表 面にビスマス含有雰囲気に暴露するステップを特徴とする方法。
- 公開日:2018/02/15
- 出典:歯科用セラミック体に蛍光を提供するための方法
- 出願人:ストラウマンホールディングアーゲー
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水平に保持された基板の上面と遮断部材との間の 雰囲気 の酸素濃度および湿度を低減した状態で、水平に移動可能な処理液供給ノズルから基板の上面に処理液を供給することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
- 公開日:2017/11/24
- 出典:基板処理装置および基板処理方法
- 出願人:株式会社SCREENホールディングス
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水硬性粉体からなる固化材に対して、温度が88〜92℃の 雰囲気 下で5分間以上加熱した場合における質量の減少量を測定し、その測定結果に基いて、固化材の強度発現性を評価する固化材の評価方法。
- 公開日:2017/06/29
- 出典:固化材、その製造方法、及び固化材の評価方法
- 出願人:太平洋セメント株式会社
雰囲気の原理 に関わる言及
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敷布団の足部と毛布、掛布団のとの間に箱型の囲牆を組立て、空間を構成して足先を保護する。寝具ズレ防止ベルトを囲牆の下部に取付け、毛布、掛布団の上から軽く締め、寝具のズレを防止する。囲牆に電熱器又は通気弁を取付け、 雰囲気 を快適とする。
- 公開日: 2000/01/18
- 出典: 寝具の足部に該器具を介し、寝具による重圧密着を、足の指から除き、並びに寝具のズレを防止、及び器具に設置の暖房、通気弁等の使用法と器具の製造方法。
- 出願人: 折手忠義
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そして、磁気ディスク用ガラス基板を収納容器に収納し、磁気ディスク用ガラス基板収納体とした。この収納容器は、磁気ディスク用ガラス基板を 雰囲気 とともに封入することができる密閉容器を使用した。また、磁気ディスク用ガラス基板を収納容器に収納した後に、収納容器内における磁気ディスク用ガラス基板の周囲の雰囲気を減圧した。
- 公開日: 2007/05/10
- 出典: 磁気ディスク用ガラス基板の収納方法、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板収納体、磁気ディスク用ガラス基板の配送方法及び磁気ディスクの製造方法
- 出願人: HOYATechnosurgical株式会社
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上記各減圧流路開閉弁間の減圧流路に移動した固体分は、上流側の減圧流路開閉弁を閉じた後、下流側の減圧流路開閉弁を開くことによって、低圧の 雰囲気 側に排出することができる。また、固体分の排出後、下流側の減圧流路開閉弁を閉じることによって、各減圧流路開閉弁の間の減圧流路を低圧の雰囲気の圧力と同一の圧力にすることができる。
- 公開日: 2005/10/20
- 出典: 固体分離装置
- 出願人: 三菱マテリアル株式会社
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このような露光装置においては、Siウエハ等の被処理基板を、減圧He 雰囲気 のチャンバー内の露光処理部と大気中の被処理基板供給部の間で搬送するために、それらの間にロードロック室が設けられ、ロードロック室を介して被処理基板を搬送している。
- 公開日: 2001/04/27
- 出典: 基板の搬送方法
- 出願人: キヤノン株式会社
雰囲気の問題点 に関わる言及
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酸素過剰 雰囲気 で運転されるガス焚き原動機の排ガスからの排熱回収に関し、従来の方法では十分な排熱回収効率が得られなかった、低い温度の排ガスから高効率で排熱を回収するための排熱回収方法及び装置を提供する。
- 公開日: 2003/09/05
- 出典: ガス焚き原動機の排熱回収方法およびガス焚き原動機の排熱回収装置
- 出願人: 大阪瓦斯株式会社
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較正の時間を節約するため、以下の混合則を用いて幾つかの応答係数の同時決定を進めるために、組成及び全濃度が既知である、nタールiの 雰囲気 を注入することが可能であることに留意されたい。
- 公開日: 2010/05/06
- 出典: ガス流中に存在する微量のタールを包括的に及び連続的に追跡する結合された測定のための装置及び方法
- 出願人: コミツサリアタレネルジーアトミークエオウゼネルジーアルテルナティブ
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このため、原子炉格納容器内の 雰囲気 の冷却設備の内、原子炉格納容器内に装備される機器の設置に必要な容積が低減でき、原子炉格納容器内の容積が少なくなってもその冷却設備を採用できる。
- 公開日: 2003/07/25
- 出典: 原子炉格納容器内雰囲気冷却設備
- 出願人: ルネサスエレクトロニクス株式会社
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雰囲気 処理部の下流側における濃度が無視できる場合には、雰囲気処理部の処理量は、その上流側の濃度に依存している。従って、上流側の濃度の測定値から、雰囲気処理部の処理量を正確に求めることができる。また、その処理量の積算値から、雰囲気処理部の寿命を正確に判定することができる。
- 公開日: 1998/04/24
- 出典: 基板処理装置のための雰囲気処理部の寿命判定装置
- 出願人: 株式会社SCREENホールディングス
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単結晶の成長速度は、成長温度が高いほど成長速度が大きくなる。また 雰囲気 の圧力が低いほど成長速度は大きくなる。さらに一般的には成長速度が大きいほど結晶の品位は低下する。
- 公開日: 2002/10/03
- 出典: 炭化珪素単結晶の成長方法
- 出願人: 独立行政法人産業技術総合研究所
雰囲気の特徴 に関わる言及
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現地まで行かなくても、実際に行うのと同様の 雰囲気 で商品取引、不動産取引、観光案内の支援ができるような商品取引支援方法、不動産取引支援方法並びに観光案内支援方法を提供するとともに、それらに適した支援装置を提供する。
- 公開日: 2001/12/14
- 出典: 商品取引支援方法及び商品取引支援装置、不動産取引支援方法及び不動産取引支援装置、並びに観光案内支援方法及び観光案内支援装置
- 出願人: 株式会社トピックス
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そこで、安定した抵抗値を有し、高湿度 雰囲気 においても抵抗値が変化しにくい導電性糸として、導電性である導電部と、非導電性である非導電部とを備えた複合型導電性糸が作られている。
- 公開日: 2006/06/15
- 出典: 芯鞘型導電性糸およびそれを用いた導電性ブラシ
- 出願人: 東英産業株式会社
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プロセスのこの段階で、作り出される真空のために、製品は製造された物品の中のすべての空洞に達する害虫駆除気体 雰囲気 の中にひたされ、従って、害虫がどこにいても害虫を害虫駆除気体との接触にもたらす。
- 公開日: 2001/07/31
- 出典: 真空中での予備処理により大気圧下での気体の使用により製品の害虫駆除を実施するための方法およびシステム
- 出願人: レール・リキード-ソシエテ・アノニム・ア・ディレクトワール・エ・コンセイユ・ドゥ・スールベイランス・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード
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殺菌室と充填室との間に中間室を設け、この中間室の圧力を殺菌室の圧力よりも高く、かつ、充填室の圧力と同じかまたは充填室よりも高く設定し、あるいは、殺菌室と洗浄室との間に中間室を設け、中間室の圧力を殺菌室よりも高く、かつ、洗浄室よりも高く設定したことにより、殺菌室の 雰囲気 が充填室や洗浄室に流れることを阻止し、また、充填室や洗浄室の湿気を含んだ雰囲気や水滴、飛沫等が、電子線の照射を行う殺菌室側に侵入することを防止することができる。
- 公開日: 2008/07/17
- 出典: 容器充填システム
- 出願人: 澁谷工業株式会社
雰囲気の使用状況 に関わる言及
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所望のガンマ特性が容易に得られ、かつ、 雰囲気 の輝度に合せ、中間調における所望の輝度が得られる液晶表示装置およびその液晶表示装置を使用した車載用表示装置を提供する。
- 公開日: 2007/11/29
- 出典: 液晶表示装置及びその液晶表示装置を使用した車載用表示装置
- 出願人: エプソンイメージングデバイス株式会社
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高湿度 雰囲気 の排気においても安定して放射性ヨウ素の除去率を所定の取替えの目安値以上に維持しつつ、更に長期間使用することができる放射性ヨウ素の吸着材及び放射性ヨウ素の除去装置を提供する。
- 公開日: 2012/01/05
- 出典: 放射性ヨウ素の吸着材及び放射性ヨウ素の除去装置
- 出願人: 三菱重工業株式会社
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射出成形時や押出し成形時におけるバリの発生が抑制された密閉型圧縮機用樹脂製部品を提供し、冷凍機油 雰囲気 や冷媒雰囲気に使用しても信頼性の高い密閉型圧縮機及び冷凍サイクルを実現することを目的とする。
- 公開日: 2010/03/18
- 出典: 密閉型圧縮機、密閉型圧縮機用樹脂製部品及び密閉型圧縮機用樹脂製部品の製造方法
- 出願人: パナソニック株式会社
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したがって、黴の繁殖を防止しようとする 雰囲気 における黴の繁殖のし易さ、すなわち、黴の生育速度または生育状態を客観的に、かつできるだけ正確に推定して、黴を防がなければならない時期を客観的に、かつなるべく正確に捕らえることが必要であった。
- 公開日: 1994/04/26
- 出典: 黴の生育速度および生育状態の推定方法ならびにこれを防黴対策に利用する方法
- 出願人: 日本国土開発株式会社
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生きた動物を食品に加工するための大きな設備が長年にわたって使用されている。しかしながら、これらの施設の多くは、有害と思われる微生物の成長を抑制するための適切な装置および制御手段が欠けている。充分な冷却、 雰囲気 の制御、および清浄化の操作が欠けていることなどが、食品加工時に微生物が成長する主要な理由の一部である。
- 公開日: 1998/04/21
- 出典: 生きた動物を微生物の成長を最小限に抑えるようにして食品に加工する方法
- 出願人: ザビーオーシーグループインコーポレイテッド
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半導体の露光(電子、イオン線露光を除く)
- 半導体の露光の共通事項
- 紫外線,光露光の種類
- 紫外線,光露光用光源
- 光学系
- ステージ,チャック機構,及びそれらの動作
- ウェハ,マスクの搬送
- 露光の制御,調整の対象,内容
- 検知機能
- 検知機能の取付場所
- 制御,調整に関する表示,情報
- 位置合わせマーク
- 位置合わせマークの配置
- 位置合わせマークの特殊用途
- 位置を合わせるべき2物体上のマーク
- 位置合わせマークの光学的検出
- 検出用光学系
- 位置合わせマークの検出一般及び検出の補助
- X線露光
- X線光学系
- X線源
- X線露光用マスク
- レジスト塗布以前のウェハの表面処理
- レジスト塗布
- ベーキング装置
- 湿式現像,リンス
- ドライ現像
- レジスト膜の剥離
- 多層レジスト膜及びその処理
- 光の吸収膜,反射膜