鎖状 の意味・用法を知る
鎖状 とは、化合物または医薬の治療活性 やフォトリソグラフィー用材料 などの分野において活用されるキーワードであり、JX日鉱日石エネルギー株式会社 や信越化学工業株式会社 などが関連する技術を193,931件開発しています。
このページでは、 鎖状 を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
鎖状の意味・用法
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(式中、R1、R2及びR3は、それぞれ独立に、ヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数1〜20の直 鎖状 、分岐状又は環状の1価炭化水素基を表す。
- 公開日:2017/11/16
- 出典:新規スルホニウム化合物及びその製造方法、レジスト組成物、並びにパターン形成方法
- 出願人:信越化学工業株式会社
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R14及びR15は、それぞれ独立に、ヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数1〜20の直 鎖状 、分岐状又は環状の1価炭化水素基を表す。
- 公開日:2017/11/02
- 出典:新規カルボン酸オニウム塩、化学増幅レジスト組成物、及びパターン形成方法
- 出願人:信越化学工業株式会社
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構造:を有する式Iの化合物または薬学的に許容できるその塩[式中、Rは、水素、ジュウテリウム、C1〜C6直 鎖状 または分枝状アルキル、C1〜C6直鎖状または分枝状ペルフルオロアルキル、アリール、およびアルキルアリールから選択され、Xは、−NH−および−CRaRb−から選択され、(a)RaおよびRbは、独立に、水素、ジュウテリウム、C1〜C6直鎖状もしくは分枝状アルキル、C3〜C6シクロアルキル、アリール、(アリール)C1〜C6直鎖状もしくは分枝状アルキル、ヘテロアリール、(C1〜C6直鎖状または分枝状アルキル)ヘテロアリール、(ヘテロアリール)C1〜C6直鎖状もしくは分枝状アルキル、(複素環式)C...
- 公開日:2017/08/24
- 出典:ヤヌスキナーゼの阻害に有用なピロロ[2,3−d]ピリミジン誘導体
- 出願人:ファイザー・インコーポレーテッド
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ベースポリマー、及び下記式(A)で表されるホスファゼン塩化合物を含むレジスト材料。[式中、R1〜R7は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜24の直 鎖状 、分岐状若しくは環状のアルキル基、炭素数2〜24の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルケニル基、炭素数2〜24の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキニル基、又は炭素数6〜20のアリール基であり、これらの中にエステル基、エーテル基、スルフィド基、スルホキシド基、カーボネート基、カーバメート基、スルホン基、ハロゲン原子、アミノ基、アミド基、ヒドロキシ基、チオール基、ニトロ基、又はハロゲン原子を含んでいてもよく、R1とR2と、R2とR3と、R3とR4と、R...
- 公開日:2017/07/06
- 出典:レジスト材料及びパターン形成方法
- 出願人:信越化学工業株式会社
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ベースポリマー、及び下記式(A)で表されるビグアニド塩化合物を含むレジスト材料。[式中、R1〜R8は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜24の直 鎖状 、分岐状若しくは環状のアルキル基、炭素数2〜24の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルケニル基、炭素数2〜24の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキニル基、又は炭素数6〜20のアリール基であり、これらの中にエステル基、エーテル基、スルフィド基、スルホキシド基、カーボネート基、カーバメート基、スルホン基、ハロゲン原子、アミノ基、アミド基、ヒドロキシ基、チオール基、ニトロ基又はハロゲン原子を含んでいてもよく、R1とR2と、R2とR3と、R3とR4と、R5と...
- 公開日:2017/07/06
- 出典:レジスト材料及びパターン形成方法
- 出願人:信越化学工業株式会社
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...含有ポリマーが、下記式(1)で表される繰り返し単位及び/又は下記式(2)で表される繰り返し単位を含む請求項4記載のレジスト組成物。(式中、R1及びR4は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基である。R2は、単結合、若しくはエーテル基、エステル基若しくはカルボニル基を含んでいてもよい炭素数1〜12の直 鎖状 、分岐状若しくは環状のアルキレン基、又はフェニレン基である。R3は、水素原子、フッ素原子、メチル基、トリフルオロメチル基又はジフルオロメチル基であり、R2と結合して環を形成してもよく、環の中にエーテル基、フッ素原子で置換されたアルキレン基又はトリフルオロメチル基を含んでいてもよい。R5は、単結合...
- 公開日:2017/01/19
- 出典:レジスト組成物及びパターン形成方法
- 出願人:信越化学工業株式会社
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(A)下記式(A)で表されるスルホニウム化合物、及び(B)下記式(B1)で表される繰り返し単位を含むポリマーを含むベースポリマーを含むネガ型レジスト組成物。(式中、R1、R2及びR3は、それぞれ独立に、ヘテロ原子を含んでいてもよい直 鎖状 、分岐状又は環状の炭素数1〜20の1価炭化水素基を表す。p及びqは、それぞれ独立に、0〜5の整数を表す。rは、0〜4の整数を表す。pが2〜5の場合において、隣接する2つのR1は、互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に環を形成してもよい。qが2〜5の場合において、隣接する2つのR2は、互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に環を形成してもよい。rが2〜4...
- 公開日:2018/02/08
- 出典:ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
- 出願人:信越化学工業株式会社
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前記二官能性ポリマー(a)の前記炭化水素基が、直 鎖状 または分岐鎖状の(C8〜C40)のアルキル基、直鎖状または分岐鎖状の(C8〜C40)のアルケニル基及び直鎖状または分岐鎖状の(C8〜C40)のアラルキル基からなる群から選択される1種以上の炭化水素基である請求項1に記載の核酸輸送用組成物。
- 公開日:2017/04/06
- 出典:核酸送達のための組成物
- 出願人:日本化薬株式会社
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特に好ましいR3aは、炭素原子数が1〜4、且つフッ素原子の置換率が100%の直 鎖状 又は分岐状のパーフルオロアルキル基であり、具体例としては、CF3、CF3CF2、(CF3)2CF、CF3CF2CF2、CF3CF2CF2CF2、(CF3)2CFCF2、CF3CF2(CF3)CF、(CF3)3Cが挙げられる。
- 公開日:2015/11/05
- 出典:厚膜用化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物
- 出願人:東京応化工業株式会社
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[一般式(d1−1)〜(d1−3)中、Rd1〜Rd4は置換基を有していてもよい環式基、置換基を有していてもよい 鎖状 のアルキル基、又は置換基を有していてもよい鎖状のアルケニル基である。
- 公開日:2016/12/28
- 出典:レジストパターン形成方法
- 出願人:東京応化工業株式会社
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有機低分子化合物及びその製造
- 発明の種類
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- 反応工学的手法
- 反応試剤(触媒として明らかなもの→BA01〜85)
- 炭素環構造
- ハロゲン
- OH,OM
- エ−テル,アセタ−ル,ケタ−ル,オルトエステル
- アルデヒド
- ケトン,キノン
- カルボン酸,その塩,ハライド,無水物
- エステル(CO7C213/〜225/、227/〜229/、231/〜237 のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- ニトロ、ニトロソ、アミン(CO7C213/〜225/、227/〜229/、231/〜237/のいずれかが付与されている場合に付与している)
- カルボン酸アミド(C07C231/〜237/のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- オキシム
- 同位元素の種類(C07B59/00が付与されている場合に、付与している)
- ゼオライト、アルミノシリケ−ト;イオン交換樹脂(C071/〜15,27/〜39/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- ハロゲン化炭化水素(C07C19/〜25/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- 安定化剤(混合物は各成分にタ−ム付与)(C07C17/〜25/のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- 炭素骨格(C07C27/〜39/のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- 官能基(C07C27/〜39/のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- アルコ−ル(C07C27/〜39/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- 製法(C07C41/〜43/のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- 目的化合物(C07C41/〜43/のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- エステルの製法(C07C67/〜69/のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- 酸部分が種々の場合をとり得るエステル
- アルコ−ル部分が非環式炭素原子に結合している不飽和アルコールであるもの(C07C69/025 のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- アクリル酸またはメタクリル酸のエステル
- 酸素含有置換基を有するカルボン酸のエステル(C07C69/66〜69/738 のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- アミノカルボン酸(C07C227/229のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- ニトリルの製法(C07C253/〜255/、261/02 のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- カルバミン酸エステルの構造
- カルバミン酸エステルの製造
- 対象化合物の種類(C07C313/〜323/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- −SOn−含有特定部分構造(C07C313/〜323/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- −SOn−不含特定部分構造(C07C313/〜323/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- チオ誘導体のもつ官能基(C07C325/〜381/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- ビタミンD系化合物(C07C401/ のいずれかが付与されている場合は、付与している)
- C≧4不飽和側鎖をもつシクロヘキサン、シクロヘキセン
- プロスタグランジン系化合物(C07C405/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
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潤滑剤
- 無機化合物からなる成分
- 非高分子炭化水素からなる成分
- C29以下の炭素鎖をもつ酸素含有非高分子有機化合物からなる成分
- C30以上の炭素鎖をもつ酸素含有非高分子有機化合物からなる成分
- 非高分子含ハロゲン有機化合物からなる成分
- C29以下の炭素鎖をもつ窒素含有非高分子有機化合物からなる成分
- C30以上の炭素鎖をもつ窒素含有非高分子有機化合物からなる成分
- S、Se、Te含有非高分子有機化合物からなる成分
- P含有非高分子有機化合物からなる成分
- BA〜BHに含まれない元素を含有する非高分子有機化合物からなる成分
- 高分子炭化水素又はその酸化変性物からなる成分
- 酸素含有高分子化合物からなる成分
- ハロゲン含有高分子化合物からなる成分
- 窒素含有高分子化合物からなる成分
- S、Se、Te、含有高分子化合物からなる成分
- P含有高分子化合物からなる成分
- CA〜CHに含まれない元素を含有する高分子化合物からなる成分
- 構造不明又は不明確な成分
- 構造不明の反応生成物からなる成分
- 物理的又は化学的性質による特定、成分の物理的又は化学的性質
- 機能的表現により特定された成分
- 成分中の金属自体又は化合物中の金属成分
- 製造方法、再生又は化学的後処理
- 改良された特定の物理的又は化学的性質
- 潤滑剤の特定の使用又は応用
- 潤滑剤の形態、使用状態
- 被処理材料への適用
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付加系(共)重合体、後処理、化学変成
- オレフィン
- 芳香族オレフィン
- ハロゲン化オレフィン
- 不飽和アルコール
- 不飽和エーテル
- ケテン,不飽和アルデヒド,ケトン,アセタール,ケタール系
- 不飽和アルコールと有機カルボン酸とのエステル
- 不飽和アルコールと有機カルボン酸外以外とのエステル他
- 不飽和カルボン酸
- 不飽和カルボン酸塩,無水物、ハライド他
- 不飽和カルボン酸エステル
- 不飽和ニトリル,アミド,イミド
- N停止オレフィン
- S,P,Se,Te,B,Si,金属等停止オレフィン
- 複素環停止オレフィン
- 環状オレフィン
- ポリエン
- 炭素—炭素三重結合含有化合物
- その他の不飽和炭化水素
- 置換基1—構成元素—
- 置換基2—ハロゲン—
- 置換基3−環−
- 置換基4—特性、機能等—
- 全体構造
- ポリマーの物性
- ポリマーの形態
- 製造方法に特徴があるもの
- 触媒残渣に対する処理
- 未反応単量体に対する処理
- 生成重合体に対する処理
- 上記以外の対象物に対する処理
- 変性反応→該当する反応を全て付与
- 変性時に使用する化合物1—無機化合物—
- 変性時に使用する化合物2—有機化合物—
- 変性反応時に使用する化合物3 —機能、特性等—
- 変性反応条件
- 装置・システム
- 変性される樹脂
- 用途