鎖状 の意味・用法を知る

（式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、それぞれ独立に、ヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜２０の直 鎖状 、分岐状又は環状の１価炭化水素基を表す。

• 公開日：2017/11/16
• 出典：新規スルホニウム化合物及びその製造方法、レジスト組成物、並びにパターン形成方法
• 出願人：信越化学工業株式会社

Ｒ14及びＲ15は、それぞれ独立に、ヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜２０の直 鎖状 、分岐状又は環状の１価炭化水素基を表す。

• 公開日：2017/11/02
• 出典：新規カルボン酸オニウム塩、化学増幅レジスト組成物、及びパターン形成方法
• 出願人：信越化学工業株式会社

構造：を有する式Ｉの化合物または薬学的に許容できるその塩［式中、Ｒは、水素、ジュウテリウム、Ｃ１〜Ｃ６直 鎖状 または分枝状アルキル、Ｃ１〜Ｃ６直鎖状または分枝状ペルフルオロアルキル、アリール、およびアルキルアリールから選択され、Ｘは、−ＮＨ−および−ＣＲａＲｂ−から選択され、（ａ）ＲａおよびＲｂは、独立に、水素、ジュウテリウム、Ｃ１〜Ｃ６直鎖状もしくは分枝状アルキル、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル、アリール、（アリール）Ｃ１〜Ｃ６直鎖状もしくは分枝状アルキル、ヘテロアリール、（Ｃ１〜Ｃ６直鎖状または分枝状アルキル）ヘテロアリール、（ヘテロアリール）Ｃ１〜Ｃ６直鎖状もしくは分枝状アルキル、（複素環式）Ｃ...

• 公開日：2017/08/24
• 出典：ヤヌスキナーゼの阻害に有用なピロロ［２，３−ｄ］ピリミジン誘導体
• 出願人：ファイザー・インコーポレーテッド

ベースポリマー、及び下記式（Ａ）で表されるホスファゼン塩化合物を含むレジスト材料。［式中、Ｒ1〜Ｒ7は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２４の直 鎖状 、分岐状若しくは環状のアルキル基、炭素数２〜２４の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルケニル基、炭素数２〜２４の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキニル基、又は炭素数６〜２０のアリール基であり、これらの中にエステル基、エーテル基、スルフィド基、スルホキシド基、カーボネート基、カーバメート基、スルホン基、ハロゲン原子、アミノ基、アミド基、ヒドロキシ基、チオール基、ニトロ基、又はハロゲン原子を含んでいてもよく、Ｒ1とＲ2と、Ｒ2とＲ3と、Ｒ3とＲ4と、Ｒ...

• 公開日：2017/07/06
• 出典：レジスト材料及びパターン形成方法
• 出願人：信越化学工業株式会社

ベースポリマー、及び下記式（Ａ）で表されるビグアニド塩化合物を含むレジスト材料。［式中、Ｒ1〜Ｒ8は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２４の直 鎖状 、分岐状若しくは環状のアルキル基、炭素数２〜２４の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルケニル基、炭素数２〜２４の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキニル基、又は炭素数６〜２０のアリール基であり、これらの中にエステル基、エーテル基、スルフィド基、スルホキシド基、カーボネート基、カーバメート基、スルホン基、ハロゲン原子、アミノ基、アミド基、ヒドロキシ基、チオール基、ニトロ基又はハロゲン原子を含んでいてもよく、Ｒ1とＲ2と、Ｒ2とＲ3と、Ｒ3とＲ4と、Ｒ5と...

• 公開日：2017/07/06
• 出典：レジスト材料及びパターン形成方法
• 出願人：信越化学工業株式会社

...含有ポリマーが、下記式（１）で表される繰り返し単位及び／又は下記式（２）で表される繰り返し単位を含む請求項４記載のレジスト組成物。（式中、Ｒ1及びＲ4は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基である。Ｒ2は、単結合、若しくはエーテル基、エステル基若しくはカルボニル基を含んでいてもよい炭素数１〜１２の直 鎖状 、分岐状若しくは環状のアルキレン基、又はフェニレン基である。Ｒ3は、水素原子、フッ素原子、メチル基、トリフルオロメチル基又はジフルオロメチル基であり、Ｒ2と結合して環を形成してもよく、環の中にエーテル基、フッ素原子で置換されたアルキレン基又はトリフルオロメチル基を含んでいてもよい。Ｒ5は、単結合...

• 公開日：2017/01/19
• 出典：レジスト組成物及びパターン形成方法
• 出願人：信越化学工業株式会社

（Ａ）下記式（Ａ）で表されるスルホニウム化合物、及び（Ｂ）下記式（Ｂ１）で表される繰り返し単位を含むポリマーを含むベースポリマーを含むネガ型レジスト組成物。（式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、それぞれ独立に、ヘテロ原子を含んでいてもよい直 鎖状 、分岐状又は環状の炭素数１〜２０の１価炭化水素基を表す。ｐ及びｑは、それぞれ独立に、０〜５の整数を表す。ｒは、０〜４の整数を表す。ｐが２〜５の場合において、隣接する２つのＲ1は、互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に環を形成してもよい。ｑが２〜５の場合において、隣接する２つのＲ2は、互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に環を形成してもよい。ｒが２〜４...

• 公開日：2018/02/08
• 出典：ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
• 出願人：信越化学工業株式会社

前記二官能性ポリマー（ａ）の前記炭化水素基が、直 鎖状 または分岐鎖状の（Ｃ８〜Ｃ４０）のアルキル基、直鎖状または分岐鎖状の（Ｃ８〜Ｃ４０）のアルケニル基及び直鎖状または分岐鎖状の（Ｃ８〜Ｃ４０）のアラルキル基からなる群から選択される１種以上の炭化水素基である請求項１に記載の核酸輸送用組成物。

• 公開日：2017/04/06
• 出典：核酸送達のための組成物
• 出願人：日本化薬株式会社

特に好ましいＲ３ａは、炭素原子数が１〜４、且つフッ素原子の置換率が１００％の直 鎖状 又は分岐状のパーフルオロアルキル基であり、具体例としては、ＣＦ３、ＣＦ３ＣＦ２、（ＣＦ３）２ＣＦ、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２、（ＣＦ３）２ＣＦＣＦ２、ＣＦ３ＣＦ２（ＣＦ３）ＣＦ、（ＣＦ３）３Ｃが挙げられる。

• 公開日：2015/11/05
• 出典：厚膜用化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物
• 出願人：東京応化工業株式会社

［一般式（ｄ１−１）〜（ｄ１−３）中、Ｒｄ１〜Ｒｄ４は置換基を有していてもよい環式基、置換基を有していてもよい 鎖状 のアルキル基、又は置換基を有していてもよい鎖状のアルケニル基である。

• 公開日：2016/12/28
• 出典：レジストパターン形成方法
• 出願人：東京応化工業株式会社