酸化物 の意味・用法を知る
酸化物 とは、触媒 や酸化物セラミックスの組成2 などの分野において活用されるキーワードであり、新日鐵住金株式会社 やTDK株式会社 などが関連する技術を247,458件開発しています。
このページでは、 酸化物 を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
酸化物の意味・用法
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Ba、Ca及びTiの 酸化物 を主成分とし、上記主成分は、Baの一部がNaまたはCaで置換されて成る組成式(Ba1−x(Na,Ca)x)TiO3で示され、ここで、xは0.005≦x≦0.035であり、0.994<(Ba1−x(Na,Ca)x)/Ti<1.003である条件を満たす誘電体組成物及びこれを含む積層セラミックキャパシタを実現することができる。
- 公開日:2017/07/06
- 出典:誘電体組成物及びこれを含む積層セラミックキャパシタ
- 出願人:三星電機株式会社
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アルカリ土類金属の 酸化物 及びセリウム以外の希土類元素の酸化物のうちの少なくとも1種を更に含む請求項2又は3に記載の複合酸化物。
- 公開日:2017/08/17
- 出典:複合酸化物、及びその酸素貯蔵能の評価方法
- 出願人:三井金属鉱業株式会社
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本発明は、広い波長域に渡ってより低い光吸収特性を示し、かつ低抵抗の 酸化物 透明導電膜を得ることができる酸化物焼結体、及び酸化物透明導電膜を提供することを目的とする。
- 公開日:2017/08/31
- 出典:酸化物焼結体及び酸化物透明導電膜
- 出願人:東ソー株式会社
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このような過剰酸素を含む絶縁体を、トランジスタ400のチャネル領域が形成される 酸化物 230に接して設けることにより、酸化物中の酸素欠損を補償することができる。
- 公開日:2017/06/29
- 出典:半導体装置、表示パネル、及び電子機器
- 出願人:株式会社半導体エネルギー研究所
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本発明によるスパッタリングターゲットは、金属元素として、Mo及びInのいずれか1種又は2種及びCu及びFeのいずれか1種又は2種を主成分とし、Mo及びInのいずれか1種又は2種:5〜80at%と、Cu及びFeのいずれか1種又は2種:20〜95at%とを含有し、前記金属元素の一部又は全部が 酸化物 からなり、該スパッタリングターゲットを用いてスパッタリング成膜すると、金属光沢を低減できる光学機能膜が得られる。
- 公開日:2016/02/18
- 出典:スパッタリングターゲット、光学機能膜、及び、積層配線膜
- 出願人:三菱マテリアル株式会社
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または、トランジスタの活性層が、上記非晶質 酸化物 のいずれか1つから構成された場合、トランジスタの信頼性が悪くなるといった問題がある。
- 公開日:2018/01/11
- 出典:トランジスタ及び表示装置
- 出願人:株式会社半導体エネルギー研究所
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ゲート電極と、第1および第2の導電体と、ゲート絶縁体と、 酸化物 を有し、ゲート絶縁体は、ゲート電極と酸化物との間に位置し、ゲート電極は、ゲート絶縁体を介して、酸化物と重なる領域を有し、第1の導電体および第2の導電体は酸化物の上面および側面と接する領域を有し、酸化物は膜厚方向に第1のバンドギャップを有する酸化物と、第1のバンドギャップを有する酸化物に接する第2のバンドギャップを有する酸化物と、が交互に重なる積層構造を有し、酸化物は第1のバンドギャップを有する酸化物を、2層以上を有し、第1のバンドギャップは第2のバンドギャップより小さく、ゲート電圧が0Vを保持した状態において、第2のバンドギャップを...
- 公開日:2018/02/01
- 出典:トランジスタおよび半導体装置
- 出願人:株式会社半導体エネルギー研究所
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航空機のエンジン、ガスタービン等用いられ、1000℃以上の温度、且つ、1面側と他面側との間で酸素ポテンシャル差のある雰囲気下に曝されても構造安定性に優れる 酸化物 の膜及びそれを備える積層物の提供。
- 公開日:2017/09/07
- 出典:高温部品
- 出願人:一般財団法人ファインセラミックスセンター
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軟磁性金属粒子を複数含む軟磁性金属粉末であって、軟磁性金属粒子の表面は被覆部により覆われ、被覆部は、Siの 酸化物 とアルカリ土類金属の酸化物とを含み、Siの酸化物に含まれるSiに対する、アルカリ土類金属の酸化物に含まれるアルカリ土類金属の比率が、原子量比率で0.03以上0.53以下である軟磁性金属粉末である。
- 公開日:2018/02/22
- 出典:軟磁性金属粉末および圧粉磁心
- 出願人:TDK株式会社
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二元細孔 酸化物 を製造するにあたり、非水溶性ポリマーを使用可能にし、もって使用可能なポリマーの選択幅を拡大し、所望のポリマー原料から二元細孔酸化物を製造することを可能とする。
- 公開日:2017/12/21
- 出典:二元細孔酸化物の製造方法
- 出願人:国立大学法人愛媛大学
酸化物の原理 に関わる言及
酸化物の問題点 に関わる言及
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固体原料は、混合 酸化物 または金属酸化物の混合物であってもよい、金属酸化物であることが好ましい。しかしながら、原料は、別の固体化合物、または金属および金属酸化物もしくは金属化合物の混合物であってもよい。
- 公開日: 2012/11/01
- 出典: 固体原料の還元のための装置および方法
- 出願人: メタリシスリミティッド
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粒子状 酸化物 としては、水酸基を表面上に有する粒子状の金属酸化物であれば、特に限定されない。通常、ケイ素酸化物、ホウ素酸化物、アルミニウム酸化物、チタン酸化物、ジルコニウム酸化物およびこれらの複合酸化物が挙げられる。これらは、天然のものであっても、市販のものであっても、任意の方法により調製したものであってもよい。
- 公開日: 2009/11/26
- 出典: イミダゾリウム塩およびそれが固定化された粒子状酸化物
- 出願人: 住友化学株式会社
酸化物の特徴 に関わる言及
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制御部は、触媒温度に応じた体積当たりの窒素 酸化物 貯蔵能力と窒素酸化物低減触媒の有効体積と、を用いて、窒素酸化物の貯蔵能力を計算し、窒素酸化物の貯蔵能力と実際の窒素酸化物貯蔵量を用いて、相対の窒素酸化物貯蔵レベルを計算し、相対の窒素酸化物貯蔵レベルと窒素酸化物貯蔵触媒の温度から、基本の窒素酸化物貯蔵効率を計算し、基本の窒素酸化物貯蔵効率と排気ガス内の窒素酸化物の量を用いて、窒素酸化物低減触媒に貯蔵される窒素酸化物の量を計算する。
- 公開日: 2012/06/21
- 出典: 窒素酸化物低減触媒に貯蔵される窒素酸化物の量を予測する方法及びこれを用いた排気装置
- 出願人: ヒュンダイモーターカンパニー
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高い酸素透過性能を有し、昇降温時に急激な体積変化を生じない混合伝導性複合 酸化物 およびその製造方法、この混合伝導性複合酸化物を用いた酸素製造方法およびガス改質方法を提供する。
- 公開日: 2005/01/20
- 出典: 混合伝導性複合酸化物の製造方法ならびに混合伝導性複合酸化物を用いた酸素製造方法およびガス改質方法
- 出願人: JFEスチール株式会社
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軟磁性裏打ち層の下に、軟磁性裏打ち層の結晶性の向上または基板との密着性の向上のために、さらに下地層を設けてもよい。こうした下地層の材料としては、Ti、Ta、W、Cr、Pt、これらを含む合金、またはこれらの 酸化物 もしくは窒化物を用いることができる。
- 公開日: 2014/05/12
- 出典: 磁気記録媒体の製造方法及び微細パターンの製造方法
- 出願人: 株式会社東芝
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その第三の 酸化物 は、第一の酸化物層と第二の酸化物層に含まれる価数の異なる元素同士を置き換えることによって形成され、その置き換えられた元素によってキャリアを導入して絶縁体から金属までの幅広い導電率を有する。
- 公開日: 2006/11/02
- 出典: ペロブスカイト構造の酸化物層を有する酸化物素子の製造方法及び誘電体ベーストランジスタの製造方法
- 出願人: 富士通株式会社
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触媒
- 技術主題
- 成分I特定物質
- 成分II無機物質
- 成分III金属元素
- 成分IV非金属元素
- 成分V有機物質及び配位子
- 使用対象反応I環境保全関連
- 使用対象反応II化学合成用(C1化学除く)
- 使用対象反応IIIエネルギーと化学原料関連
- 使用対象反応IVその他
- 使用形態
- 構造及び物性I‐I外形(それ自体)
- 構造及び物性I‐II外形に関する他の特徴
- 構造及び物性II微細構造
- 構造及び物性III 物性
- 構造及び物性IV その他
- 調製及び活性化I 目的
- 調製及び活性化II プロセス
- 調製及び活性化III材料及び条件(クレーム)
- 再生または再活性化
- 光触媒の技術主題
- 光触媒の成分
- 光触媒の活性化
- 光触媒の調製
- 光触媒の使用対象
- その他
- ゼオライト及びモレキュラーシーブ(MS)
- ゼオライト及びMSの合成
- ゼオライト及びMS触媒の特定(クレームのみ)
- ゼオライト及びMS触媒の処理・修飾
- 処理・修飾及び組成物の目的(目的記載個所)
- 触媒組成物の態様
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触媒
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- 成分5有機物質及び配位子
- 使用対象反応1環境保全関連
- 使用対象反応II化学合成用(C1化学除く)
- 使用対象反応3エネルギーと化学原料関連
- 使用対象反応4その他
- 使用形態
- 構造及び物性1‐1外形(それ自体)
- 構造及び物性1‐2外形に関する他の特徴
- 構造及び物性2微細構造
- 構造及び物性III 物性
- 構造及び物性IV その他
- 調製及び活性化I 目的
- 調製及び活性化II プロセス
- 調製及び活性化III材料及び条件(クレーム)
- 再生または再活性化
- ゼオライト及びモレキュラーシーブ(MS)
- ゼオライト及びMSの合成
- ゼオライト及びMS触媒の特定(クレームのみ)
- ゼオライト及びMS触媒の処理・修飾
- 処理・修飾及び組成物の目的(目的記載個所)
- 触媒組成物の態様
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重金属無機化合物(I)
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