還元 の意味・用法を知る
還元 とは、金属の製造または精製 や触媒 などの分野において活用されるキーワードであり、新日鐵住金株式会社 や住友金属鉱山シポレックス株式会社 などが関連する技術を282,352件開発しています。
このページでは、 還元 を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
還元の意味・用法
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還元 剤としては、金属Al、金属Siとすることが好ましい。
- 公開日:2018/03/01
- 出典:金属マンガンの製造方法
- 出願人:JFEスチール株式会社
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バッテリー電極を形成する方法であって、酸化シリコン粉末と塩化ナトリウムとを混合することと、 還元 剤を添加することと、シリコンを生成するために、前記酸化シリコン−塩化ナトリウム混合物を還元することと、多孔質シリコン微細構造を形成するために、前記還元されたシリコンにエッチングを施すこととを含む方法。
- 公開日:2017/07/20
- 出典:バッテリー電極を形成する方法、及び、バッテリーを形成する方法
- 出願人:ザ・レジェンツ・オブ・ザ・ユニバーシティ・オブ・カリフォルニア
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酸素豊富条件および酸素欠乏条件を含むさまざまな条件下でNOxを 還元 する改善された触媒を提供する。
- 公開日:2016/05/23
- 出典:窒素酸化物(NOx)還元触媒および窒素酸化物(NOx)を還元するプロセス
- 出願人:トヨタモーターエンジニアリングアンドマニュファクチャリングノースアメリカ,インコーポレイティド
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そして特に重要なことが、 還元 初期において、ペレット表面にシェル状のメタルが生成することである
- 公開日:2017/11/02
- 出典:ペレットの製造方法、及びニッケル酸化鉱石の製錬方法
- 出願人:住友金属鉱山シポレックス株式会社
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塊状物の表面に付着させる炭素質 還元 剤を付着量としては、酸化ニッケルと酸化鉄とを過不足なく還元するのに必要な炭素質還元剤の量を100%としたとき0.1%以上20.0%以下の割合とすることが好ましい。
- 公開日:2017/10/26
- 出典:ペレットの製造方法、及びニッケル酸化鉱石の製錬方法
- 出願人:住友金属鉱山シポレックス株式会社
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米国特許第7851404号には、二酸化チタン担持体を含む 還元 コバルト触媒及び425℃の還元温度が例示される水素還元工程を利用するFT法が開示されている。
- 公開日:2018/02/15
- 出典:還元活性化コバルト触媒を用いるフィッシャー-トロプシュ法
- 出願人:ビーピーピー・エル・シー・
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還元 用薬液の経時劣化を抑え、還元用薬液の寿命を長くすることが可能な方法を提供する。
- 公開日:2018/01/18
- 出典:還元用薬液の処理方法、プリント配線板に用いる銅箔の処理方法
- 出願人:ナミックス株式会社
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ニッケル酸化鉱石を含む混合物を 還元 することによってフェロニッケルを製造する方法において、生産効率が高く、安定して均一なメタルシェルを生成させ、反応効率の低下や組成ばらつきの発生を防ぐことができるニッケル酸化鉱石の製錬方法を提供する。
- 公開日:2017/11/02
- 出典:ニッケル酸化鉱石の製錬方法
- 出願人:住友金属鉱山シポレックス株式会社
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この方法において、該 還元 性ガスは反応器Aにおいて10,000容量ppm未満の水分含有量で維持される。
- 公開日:2017/02/09
- 出典:フィッシャー・トロプシュ反応における使用を意図した触媒の調製方法
- 出願人:アンスティテュ・フランセ・デュ・ペトロール
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請求項1〜6のいずれかに記載の電極活物質を製造する方法であって、酸化グラファイトと、MeX2シートとを混合するステップと、前記混合するステップで得られた混合物を 還元 するステップとを包含する、方法。
- 公開日:2018/03/15
- 出典:グラフェンシートを用いた電極活物質の製造方法
- 出願人:国立研究開発法人物質・材料研究機構
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触媒
- 技術主題
- 成分I特定物質
- 成分II無機物質
- 成分III金属元素
- 成分IV非金属元素
- 成分V有機物質及び配位子
- 使用対象反応I環境保全関連
- 使用対象反応II化学合成用(C1化学除く)
- 使用対象反応IIIエネルギーと化学原料関連
- 使用対象反応IVその他
- 使用形態
- 構造及び物性I‐I外形(それ自体)
- 構造及び物性I‐II外形に関する他の特徴
- 構造及び物性II微細構造
- 構造及び物性III 物性
- 構造及び物性IV その他
- 調製及び活性化I 目的
- 調製及び活性化II プロセス
- 調製及び活性化III材料及び条件(クレーム)
- 再生または再活性化
- 光触媒の技術主題
- 光触媒の成分
- 光触媒の活性化
- 光触媒の調製
- 光触媒の使用対象
- その他
- ゼオライト及びモレキュラーシーブ(MS)
- ゼオライト及びMSの合成
- ゼオライト及びMS触媒の特定(クレームのみ)
- ゼオライト及びMS触媒の処理・修飾
- 処理・修飾及び組成物の目的(目的記載個所)
- 触媒組成物の態様
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有機低分子化合物及びその製造
- 発明の種類
- 用途
- 反応
- 精製;分離;安定化;その他の物理的処理
- 反応の促進・抑制(反応工学的手法によるもの→BD)
- 反応媒体、分離・精製・回収用溶媒
- 反応パラメ−タ−
- 反応工学的手法
- 反応試剤(触媒として明らかなもの→BA01〜85)
- 炭素環構造
- ハロゲン
- OH,OM
- エ−テル,アセタ−ル,ケタ−ル,オルトエステル
- アルデヒド
- ケトン,キノン
- カルボン酸,その塩,ハライド,無水物
- エステル(CO7C213/〜225/、227/〜229/、231/〜237 のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- ニトロ、ニトロソ、アミン(CO7C213/〜225/、227/〜229/、231/〜237/のいずれかが付与されている場合に付与している)
- カルボン酸アミド(C07C231/〜237/のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- オキシム
- 同位元素の種類(C07B59/00が付与されている場合に、付与している)
- ゼオライト、アルミノシリケ−ト;イオン交換樹脂(C071/〜15,27/〜39/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- ハロゲン化炭化水素(C07C19/〜25/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- 安定化剤(混合物は各成分にタ−ム付与)(C07C17/〜25/のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- 炭素骨格(C07C27/〜39/のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- 官能基(C07C27/〜39/のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- アルコ−ル(C07C27/〜39/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- 製法(C07C41/〜43/のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- 目的化合物(C07C41/〜43/のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- エステルの製法(C07C67/〜69/のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- 酸部分が種々の場合をとり得るエステル
- アルコ−ル部分が非環式炭素原子に結合している不飽和アルコールであるもの(C07C69/025 のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- アクリル酸またはメタクリル酸のエステル
- 酸素含有置換基を有するカルボン酸のエステル(C07C69/66〜69/738 のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- アミノカルボン酸(C07C227/229のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- ニトリルの製法(C07C253/〜255/、261/02 のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- カルバミン酸エステルの構造
- カルバミン酸エステルの製造
- 対象化合物の種類(C07C313/〜323/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- −SOn−含有特定部分構造(C07C313/〜323/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- −SOn−不含特定部分構造(C07C313/〜323/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- チオ誘導体のもつ官能基(C07C325/〜381/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- ビタミンD系化合物(C07C401/ のいずれかが付与されている場合は、付与している)
- C≧4不飽和側鎖をもつシクロヘキサン、シクロヘキセン
- プロスタグランジン系化合物(C07C405/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
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触媒
- 技術主題
- 成分1特定物質
- 成分2無機物質
- 成分3金属元素
- 成分4非金属元素
- 成分5有機物質及び配位子
- 使用対象反応1環境保全関連
- 使用対象反応II化学合成用(C1化学除く)
- 使用対象反応3エネルギーと化学原料関連
- 使用対象反応4その他
- 使用形態
- 構造及び物性1‐1外形(それ自体)
- 構造及び物性1‐2外形に関する他の特徴
- 構造及び物性2微細構造
- 構造及び物性III 物性
- 構造及び物性IV その他
- 調製及び活性化I 目的
- 調製及び活性化II プロセス
- 調製及び活性化III材料及び条件(クレーム)
- 再生または再活性化
- ゼオライト及びモレキュラーシーブ(MS)
- ゼオライト及びMSの合成
- ゼオライト及びMS触媒の特定(クレームのみ)
- ゼオライト及びMS触媒の処理・修飾
- 処理・修飾及び組成物の目的(目的記載個所)
- 触媒組成物の態様