計測箇所 の意味・用法を知る

被検面の形状を計測する計測装置は、光を前記被検面上の 計測箇所 および参照面に照射し、前記計測箇所で反射された被検光と前記参照面で反射された参照光とを干渉させる光学系と、前記被検光と前記参照光との干渉光を検出することにより、前記被検光と前記参照光との光路長差を検出する検出部と、前記検出部による複数の検出結果に基づいて前記計測箇所の位置を決定する処理部と、を含み、各検出結果は、前記光路長差の変化に対して周期的に変化する誤差を含み、前記複数の検出結果は、前記被検光の光路長が前記誤差の周期の１／ｎ（ｎ≧２）だけ互いに異なるｎ種類の状態の各々において前記検出部が前記光路長差を検出することにより得られたｎ個...

• 公開日：2016/04/04
• 出典：計測装置、計測方法、および物品の製造方法
• 出願人：キヤノン株式会社

切羽１前方の地盤２に設けた試掘孔３内の複数の 計測箇所 Ｐ１〜Ｐ６毎に地盤２の変位を検出し、その変位量を電気信号に変換して出力する変位計測手段４を備え、変位計測手段４から出力された電気信号を変位データとして記録する複数の情報記憶媒体５ａ〜５ｆを試掘孔３内の所望の位置Ｐ１〜Ｐ６毎に備えるとともに、切羽１近傍に位置する情報記憶媒体５ｆから変位データを非接触通信により読み出し可能な非接触式データ読出し機６を備えている地盤の変位測定装置。

• 公開日：2016/04/04
• 出典：地盤の変位測定装置及び変位測定方法
• 出願人：五洋建設株式会社

所望の 計測箇所 までレーザー光やストークス光を伝送することができ、しかも配管、配管継手や配管バルブの表面近傍等のレーザー誘起蛍光の影響下でも、ＣＡＲＳにより水素ガス濃度を計測することができる計測装置および方法を提供する。

• 公開日：2016/05/16
• 出典：水素ガス濃度計測装置および方法
• 出願人：株式会社四国総合研究所

パターンをビームで基板に形成するリソグラフィ装置は、前記基板を保持して可動のステージと、前記基板上の 計測箇所 に関して前記ステージのフォーカス駆動のために得られた計測値と、当該計測値に対する補正値とに基づいて、前記ステージのフォーカス駆動を制御する制御部と、を含み、前記制御部は、前記計測値に基づいて前記ステージを駆動した場合におけるフォーカス誤差を低減するように前記補正値を生成する。

• 公開日：2015/07/16
• 出典：リソグラフィ装置、リソグラフィ方法、および物品の製造方法
• 出願人：キヤノン株式会社

基板上の複数のショット領域のそれぞれに走査露光を行う露光装置は、前記基板の走査に伴い前記基板上の 計測箇所 に関して露光領域内において検出を行う第１検出部と、前記基板の走査に伴い前記第１検出部による検出に先立って前記計測箇所に関して検出を行う第２検出部とを含み、前記第１検出部の出力および前記第２検出部の出力のそれぞれに基づいて前記基板の高さを計測する計測部と、第１ショット領域の走査露光に伴い前記第１検出部の出力に基づいて前記計測部により得られた計測結果に基づいて、前記第１ショット領域の後に走査露光を行う第２ショット領域に関して、前記第２検出部の出力に基づいて前記計測部による計測を最初に行う第１計測...

• 公開日：2015/08/20
• 出典：露光装置、および物品の製造方法
• 出願人：キヤノン株式会社

複数の 計測箇所 ３１，３１，・・・３ｎの各々で計測されたエネルギー使用量をデータ収集装置１で収集するデータ収集システムにおける前記計測箇所での欠測データを補完する欠測データ補完方法であって、欠測が発生した時には、前記欠測が発生した計測箇所のエネルギー使用量の変動パターンと類似のエネルギー使用量の変動パターンの計測箇所における前記欠測の期間に相当する期間の計測時刻間隔ごとのエネルギー使用量比率を算出し、この算出したエネルギー使用量比率を用いて、前記欠測の期間の計測時刻間隔ごとのエネルギー使用量を算出して前記欠測データを補完する。

• 公開日：2015/10/22
• 出典：欠測データ補完方法およびデータ収集装置
• 出願人：三菱電機株式会社

センサ部をリード線によって測定箇所に配置する測定装置において、 計測箇所 に対するセンサ部の位置精度を高めて、計測精度を高める。

• 公開日：2013/10/24
• 出典：測定装置
• 出願人：株式会社デンソー

支持脚１６はいわゆる三脚で、音採取手段１１とカメラ１２とを 計測箇所 に支持する。

• 公開日：2014/03/20
• 出典：フィンガージョイントの破損判定方法
• 出願人：株式会社熊谷組

制御器は、計測器に対する基板の位置により決まる複数の 計測箇所 のうち、コンソールによって設定された有効領域内に位置する計測箇所に関して計測器により計測された表面の位置に基づいて、基板ステージの位置を制御する。

• 公開日：2008/06/19
• 出典：露光装置
• 出願人：キヤノン株式会社

複数のショット領域において同一の 計測箇所 で表面位置を計測するために好適な技術を提供する。

• 公開日：2010/05/27
• 出典：露光装置およびデバイス製造方法
• 出願人：キヤノン株式会社