膜厚 の意味・用法を知る

透明性に優れ、 膜厚 １μｍ以上の酸化イットリウム膜を提供する。

• 公開日：2016/12/22
• 出典：酸化イットリウム膜
• 出願人：株式会社ＦＬＯＳＦＩＡ

ｎ側超格子層１５０を形成する工程では、ＩｎＧａＮ層１５１とＩｎＧａＮ層１５１よりＩｎ組成の小さいＧａＮ層１５２とを交互に積層するとともに、ＩｎＧａＮ層１５１のＩｎ組成および 膜厚 を次式 Ｙ ≦ １８０Ｘ ＋ ２２， ０ ≦ Ｘ ≦ ０．１， ０ ＜ Ｙ， Ｘ：ＩｎＧａＮ層１５１のＩｎ組成， Ｙ：ＩｎＧａＮ層１５１の膜厚（ｎｍ）を満たすように形成する。

• 公開日：2018/01/25
• 出典：ＩＩＩ族窒化物半導体発光素子とその製造方法
• 出願人：豊田合成株式会社

多層膜の各層の 膜厚 を精度良く推定する方法の提供。

• 公開日：2017/12/14
• 出典：多層膜の成膜方法
• 出願人：日東電工株式会社

前記中間層と前記光触媒層の 膜厚 の和は、０．３μｍ以上１．５μｍ以下である。

• 公開日：2017/04/06
• 出典：光触媒塗装体
• 出願人：ＴＯＴＯ株式会社

前記ビア内の前記第２の層の 膜厚 は、前記第１の層と重なる領域における前記第２の層の膜厚よりも大きい、請求項１に記載の配線基板。

• 公開日：2017/06/15
• 出典：配線基板、配線基板を有する半導体パッケージ、およびその製造方法
• 出願人：株式会社ジェイデバイス

基板上に、多層反射膜及び吸収体膜をこの順で有する反射型マスクブランクの製造方法であって、シミュレーションにより、吸収体膜の 膜厚 と、吸収体膜表面での反射率との関係を得る工程と、膜厚Ｄ０の吸収体膜表面での反射率Ｒａｂｓと、吸収体膜を除去して多層反射膜又は保護膜を露出させた多層反射膜表面又は保護膜表面での反射率Ｒｍｕｌｔｉとから、第１のコントラスト値Ｃ１を算出する工程と、前記第１のコントラスト値Ｃ１よりも高い第２のコントラスト値Ｃ２を有する、吸収体膜の膜厚方向の一部を除去して残膜させた場合の残膜層の膜厚ｄ及び総膜厚Ｄ＝Ｄ１（ただし、Ｄ０＝Ｄ１−ｄ）を求める工程と、前記吸収体膜を前記総膜厚Ｄとなる...

• 公開日：2018/03/01
• 出典：反射型マスク、並びに反射型マスクブランク及び半導体装置の製造方法
• 出願人：ＨＯＹＡＴｅｃｈｎｏｓｕｒｇｉｃａｌ株式会社

スパッタ装置を用いて多層膜を構成する各層が時間間隔をおいて１層ずつ積層される多層膜の成膜方法において、材料と時間の無駄のない各層の 膜厚 修正を行う方法の提供。

• 公開日：2017/12/14
• 出典：多層膜の成膜方法
• 出願人：日東電工株式会社

事前に必要な 膜厚 の測定回数を従来よりも減らすことができる膜厚測定装置、研磨装置、膜厚測定方法、及び、研磨方法を提供する。

• 公開日：2018/01/18
• 出典：膜厚測定装置、研磨装置、膜厚測定方法、及び、研磨方法
• 出願人：株式会社荏原製作所

膜厚 が０．０１〜１０μｍの中間層となるように設けられた抗菌層を備える抗菌性積層体に用いる抗菌層形成用コーティング剤であって、前記抗菌層形成用コーティング剤は、樹脂（Ａ）と、有機抗菌剤（Ｂ）と、溶媒（Ｃ）とを含み、前記有機抗菌剤（Ｂ）は、前記抗菌層形成用コーティング剤中に０．０１〜３０質量％含有しており、かつ、有機ヨード系抗菌剤（ｂ１）、ピリジン系抗菌剤（ｂ２）、ハロアルキルチオ系抗菌剤（ｂ３）、チアゾール系抗菌剤（ｂ４）、ベンゾイミダゾール系抗菌剤（ｂ５）、イソフタロニトリル系抗菌剤（ｂ６）、フェノール系抗菌剤（ｂ７）、トリアジン系抗菌剤（ｂ８）、臭素系抗菌剤（ｂ９）、第４級アンモニウム塩系抗...

• 公開日：2017/02/23
• 出典：抗菌層形成用コーティング剤、抗菌性積層体、抗菌性積層体の製造方法、および抗菌性積層体を用いたフィルムまたはシート、包装容器、包装袋、蓋材
• 出願人：東京インキ株式会社

被検査物を搬送方向に搬送しつつ検査を行なう欠陥検査装置であって、ラインセンサから得られる画像データに基づいて前記被検査物における欠陥の検出を行なう欠陥検出部と、前記被検査物の搬送方向に対して直交する方向に対して前記被検査物の 膜厚 を測定する膜厚測定部と、前記欠陥検出部によって得られた欠陥検出結果と当該欠陥検出結果の前記被検査物における位置を表す第１座標とを含む欠陥検査結果と、前記膜厚測定部によって測定された膜厚と当該膜厚が測定された前記被検査物における位置を表す第２座標とを含む膜厚測定結果と、に基づいて、前記欠陥検出結果と前記膜厚測定結果とが、前記被検査物に対応した座標を表すマップに対して表され...

• 公開日：2018/04/05
• 出典：欠陥検査装置及び欠陥検査方法
• 出願人：株式会社メック