置換基 の意味・用法を知る

（式中、Ｒ１は２−エチルヘキシル基、２−ヘキシルデシル基、ヘキサデシル基及びドコシル基からなる群のうち、いずれか一種以上であり、Ｒ２〜Ｒ５はそれぞれ独立に、水素、ハロゲン、 置換基 を有してもよい炭素数１〜２０のアルキル基及び置換基を有してもよい炭素数６〜１２のアリール基からなる群のうちいずれかを表す。

• 登録日：2020/07/06
• 出典：導光板用成形体
• 出願人：三菱瓦斯化学株式会社

Ｘ３は 置換基 を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい複素環基または有機色素残基を表す。

• 公開日：2017/09/28
• 出典：分散組成物、電池用分散組成物、電池
• 出願人：東洋インキＳＣホールディングス株式会社

...式（１）で表されるエレクトロクロミック化合物。（Ｘ１及びＸ２は夫々独立に、炭素原子又は窒素原子；Ｒ１〜Ｒ３は夫々独立に、ハロゲン原子、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアルコキシ基；ｘは０〜３の整数；ｙ及びｚは夫々独立に、０〜４の整数；Ｌ１及びＬ２の少なくともいずれかは、２価の 置換基 を介して又は介さずに直接、ピリジミウム環の窒素原子に結合する一価の官能基）

• 公開日：2016/09/23
• 出典：エレクトロクロミック化合物、エレクトロクロミック組成物、並びにエレクトロクロミック素子及びエレクトロクロミック調光素子
• 出願人：株式会社リコー

一般式（Ｘ１）中、Ｒ４０１、Ｒ４０２、Ｒ４０３、Ｒ４０４及びＲ４０５は各々独立に水素原子又は 置換基 を表す。

• 公開日：2018/04/05
• 出典：水溶液、インクジェット記録用インク、インクジェット記録用インクの製造方法、インクジェット記録方法、及びインクカートリッジ
• 出願人：富士フイルム株式会社

ジアルキルベンゼン化合物 の部位選択的官能化プロセスであって、ここで、位置（ａ）で官能化された化合物：位置（ｂ）で官能化された化合物の比が、少なくとも７０：３０であり、 置換基 Ｒは、イソブチル基であることを特徴とし、ここで反応が、式（ＩＩ）で表される化合物から式（ＩＩＩ）で表される化合物へのカルボニル化反応である、 前記部位選択的官能化プロセス。

• 登録日：2020/07/03
• 出典：プロセス
• 出願人：ジボダンエスエー

下記一般式（１）で表される 置換基 及び下記一般式（２）で表される置換基から選ばれる１種又は２種以上の置換基がエーテル結合を介してセルロースに結合してなり、相対結晶化度が５０％未満である改質セルロースと、相溶化剤と、熱可塑性樹脂とを含有してなる、樹脂組成物。

• 公開日：2018/03/29
• 出典：樹脂組成物
• 出願人：花王株式会社

ｍとｎは各々独立に２以上の整数を表すが、ｍ＋ｎがＡｒの芳香環に置換可能な 置換基 数の最大値を超えることはない。

• 公開日：2018/03/08
• 出典：有機発光素子ならびにそれに用いる発光材料および化合物
• 出願人：国立大学法人九州大学

Ｗａｘ１は、 置換基 を有していてもよい（ｎａｘ１＋１）価の芳香族炭化水素基である。

• 公開日：2018/02/08
• 出典：レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
• 出願人：東京応化工業株式会社

以下、α位の炭素原子に結合した水素原子が 置換基 で置換されたアクリル酸エステルをα置換アクリル酸エステルということがある。

• 公開日：2017/03/02
• 出典：レジストパターン形成方法、シュリンク剤組成物及びシュリンク剤組成物の製造方法
• 出願人：東京応化工業株式会社

。アルキルは、さらに適当な 置換基 によって置換されてもよい。

• 公開日：2020/03/26
• 出典：ＡＭＰＡ受容体に関連する疾患の予防及び／又は治療剤
• 出願人：公立大学法人横浜市立大学