繰り返し単位 の意味・用法を知る

電極活物質が、一般式１で表される 繰り返し単位 又は一般式１の２位の水酸基が１位に存する繰り返し単位を有するポリマーを含む二次電池。

• 公開日：2016/09/23
• 出典：二次電池
• 出願人：株式会社リコー

（Ａ）下記一般式（１）で表される構造を２個以上有し、酸架橋性基を有さない化合物（但し、下記の３つの 繰り返し単位 を有する樹脂を除く）、及び、活性光線又は放射線により酸を発生する化合物を含有する、感活性光線又は感放射線性組成物により形成されたレジスト膜に活性光線又は放射線を照射することと、前記活性光線又は放射線を照射した膜を現像することとを含むパターン形成方法であって、前記活性光線又は放射線を照射した膜を、有機溶剤を含有する現像液により現像して、ネガ型パターンを形成する、パターン形成方法。 式中、Ｘは、酸素原子又は硫黄原子を表し、Ｒは、水素原子又は１価の有機基を表す。＊は、結合手を表す。

• 登録日：2019/09/06
• 出典：感活性光線又は感放射線性組成物、並びに、これを用いたレジスト膜、パターン形成方法及び電子デバイスの製造方法
• 出願人：富士フイルム株式会社

前記フッ素原子含有ポリマーが、下記式（１）で表される 繰り返し単位 及び／又は下記式（２）で表される繰り返し単位を含む請求項４記載のレジスト組成物。

• 公開日：2017/01/19
• 出典：レジスト組成物及びパターン形成方法
• 出願人：信越化学工業株式会社

式（１）で表される 繰り返し単位 を有する高分子化合物を含む、固体高分子形燃料電池用電極触媒バインダー。

• 公開日：2016/06/02
• 出典：固体高分子形燃料電池の電極触媒バインダー
• 出願人：セントラル硝子株式会社

前記ベースポリマーが、下記式（ａ１）で表される 繰り返し単位 又は下記式（ａ２）で表される繰り返し単位を含むものである請求項１〜４のいずれか１項記載のレジスト材料。

• 公開日：2018/03/29
• 出典：レジスト材料及びパターン形成方法
• 出願人：信越化学工業株式会社

...はＯであり、ここで、Ｓｐ１−Ｘ１−Ｃ（Ｏ）−ＯＲ１基がＡｒ基中の窒素原子に結合している場合、Ｓｐ１−Ｘ１基は単結合であってもよく、Ｒ０およびＲ００は、各々独立に、Ｈまたは１〜１２個の炭素原子を有するアルキルであり、そしてＲ１は、１〜４０個の炭素原子を有するヒドロカルビル基であり、但し、式Ｉで表される 繰り返し単位 であって、その中でＡｒが−ＮＨ−Ｃ（Ｏ）−ＯＲ１でモノ−もしくは多置換されたフェニレンであり、且つポリマー骨格において、必要に応じて置換されたベンゾ［ｌｍｎ］［３，８］フェナントロリン−１，３，６，８−テトラオン−４，９−ジイル単位に直接隣接するもの、および式Ｉで表される繰り返し単位であ...

• 登録日：2019/08/30
• 出典：共役ポリマー
• 出願人：イノベーションラブ、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツング

有機媒質と微粒子状固体との間の接触面において使用するための分散剤であって、前記分散剤は、アミン系多塩基種およびその塩と反応させたポリエーテル官能化ポリ酸の表面活性反応生成物を含み、ここで、前記ポリエーテル官能化ポリ酸種は、１０から５００の 繰り返し単位 のポリ酸部分を含み、前記繰り返し単位の少なくとも４５モル％は、１つまたは複数のカルボン酸基を持つフリーラジカル重合可能な不飽和モノマー由来であり、前記ポリ酸部分は、カルボン酸、カルボン酸の塩、ジカルボン酸の無水物、リン由来の酸および硫黄由来の酸からなる種類から選択される少なくとも２つの遊離酸基を含み、前記繰り返し単位は、重合可能な炭素−炭素二重結合...

• 登録日：2019/08/23
• 出典：多酸多塩基グラフトコポリマー分散剤
• 出願人：ルブリゾル・アドバンスド・マテリアルズ，インコーポレイテッド

Ｓｉ原子を有する 繰り返し単位 （ａ）と酸分解性基を有する繰り返し単位（ｃ）とを含む樹脂（Ａ）、架橋剤（Ｂ）、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｃ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、前記樹脂（Ａ）の含有率が、該組成物中の全固形分を基準として５０質量％以上であり、前記活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｃ）として下記一般式（３）で表される化合物を少なくとも含む感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物；但し、Ｓｉ原子を有する繰り返し単位が、酸の作用により分解し脱離する脱離基で極性基が保護された構造を有し、かつ、前記脱離基のみにＳｉ原子を含む場合、該繰...

• 登録日：2019/08/16
• 出典：感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法及び電子デバイスの製造方法
• 出願人：富士フイルム株式会社

...び、（ｉｉｉ）前記活性光線又は放射線が照射された膜を、有機溶剤を含有する現像液を用いて現像する工程、を少なくとも有するパターン形成方法であって、前記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物が、樹脂Ｐと、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有し、前記樹脂Ｐが、下記一般式（ｑ１）で表される 繰り返し単位 Ｑ１、及び、下記一般式（ｑ２）で表される繰り返し単位Ｑ２を有し、前記樹脂Ｐの全繰り返し単位に対する、前記繰り返し単位Ｑ１の含有量が、５〜４０モル％であり、前記樹脂Ｐの全繰り返し単位に対する、前記繰り返し単位Ｑ２の含有量が、４０モル％以上である、パターン形成方法。一般式（ｑ１）中、Ｒ１は、...

• 登録日：2019/08/16
• 出典：パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物
• 出願人：富士フイルム株式会社

（Ａ）下記式（Ａ）で表されるスルホニウム化合物、及び（Ｂ）側鎖にヒドロキシ芳香族環を有する 繰り返し単位 を含むポリマーを含むベースポリマーを含むネガ型レジスト組成物。

• 公開日：2018/02/08
• 出典：ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
• 出願人：信越化学工業株式会社