ヘリウム の意味・用法を知る
ヘリウム とは、低沸騰点冷媒を用いた圧縮式冷凍機械 や気密性の調査・試験 などの分野において活用されるキーワードであり、レール・リキード-ソシエテ・アノニム・ア・ディレクトワール・エ・コンセイユ・ドゥ・スールベイランス・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード や大陽日酸株式会社 などが関連する技術を7,886件開発しています。
このページでは、 ヘリウム を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
ヘリウムの意味・用法
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VUV放出を調節するステップが、プラズマ中の ヘリウム とネオンの濃度比を変えるためにある比率でヘリウムおよび/またはネオンを処理チャンバ内に流すステップを含んでよい。
- 公開日:2016/06/02
- 出典:エネルギー吸収体ガスへの衝突共鳴エネルギー伝達によるプラズマのVUV放出の調節
- 出願人:ラムリサーチコーポレイション
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ヘリウム 等の不活性ガスに対してバリア性を備えた積層体を提供すること。
- 公開日:2017/10/05
- 出典:包装体
- 出願人:凸版印刷株式会社
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そして、検査室3内にキャリアガスを供給する位置よりも上方側の位置にて採取したキャリアガス中の ヘリウム 濃度を測定した結果に基づいて、被検査容器1に充填された検査用ガスの漏洩を検出する。
- 公開日:2017/09/21
- 出典:被検査容器の漏洩検査方法、及び漏洩検査装置
- 出願人:日揮プラントイノベーション株式会社
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膨張器50内の ヘリウム の温度が2.17[K]以下のとき、低圧のヘリウムの圧力は、横軸を温度、縦軸を圧力とするヘリウムの状態図において、ヘリウムの体積熱膨張率が0となる曲線の圧力以上である。
- 公開日:2016/06/30
- 出典:極低温冷凍機および極低温冷凍機の運転方法
- 出願人:住友重機械工業株式会社
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ケーシング11と、ケーシング11の内部を通過する放射性核種を内包する一次冷却 ヘリウム と接触するインペラ12及び出力シャフト13aを具備した回転機構を備え、回転機構のインペラ12及び出力シャフト13aには、多結晶合金の結晶粒径を粗大化して実効拡散係数を小さくして成る単結晶材を含む粗大結晶粒径材を採用した。
- 公開日:2015/12/07
- 出典:原子力施設の回転機器
- 出願人:株式会社IHI
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ヘリウム コンテナから小容量ヘリウム容器への液体ヘリウムの充填の際に失われるヘリウムの量を低減する。
- 公開日:2016/10/13
- 出典:液体ヘリウムのトランスファー方法およびシステム
- 出願人:株式会社新領域技術研究所
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このプロトンおよび ヘリウム を含む第5n型層(10e)と、プロトンを含む第1〜4n型層(10a)〜(10d)とでn型FS層(10)が構成される。
- 公開日:2017/12/28
- 出典:半導体装置および半導体装置の製造方法
- 出願人:富士電機株式会社
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前記エンジンは、前記伝熱媒体ループにおける前記伝熱媒体として ヘリウム を含む、請求項1〜11のいずれか1項に記載のエンジン。
- 公開日:2016/12/15
- 出典:エンジン
- 出願人:リアクションエンジンズリミテッド
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請求項1または請求項2に記載の回転機械であって、 ヘリウム である作動流体で動作するように適合されている、回転機械。
- 登録日:2019/02/08
- 出典:回転機械
- 出願人:リアクションエンジンズリミテッド
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...0)に関する。このクライオスタット(20)は、それぞれ収容している液体 ヘリウム に関して互いに連通しない2つのヘリウム槽(24,5)を備える。第1のヘリウム槽(24)の下層部分(1)に熱交換器(38)を有するジュールトムソン冷却ユニット(2)は、第1のヘリウム槽(24)の下層部分(1)にある過冷却液体ヘリウムを冷却するために、第2のヘリウム槽(5)に貯留された、(4Kを上回る)液体ヘリウムを用いる。このために、ジュールトムソン冷却ユニット(2)は、第2のヘリウム槽(5)から液体ヘリウムを直接引き込むか、又はジュールトムソン冷却ユニット(2)は、第1のヘリウム槽(24)から、通常は(4Kを上回る)...
- 公開日:2017/12/14
- 出典:少なくとも下層部分において互いに液密に分割された第1のヘリウム槽と第2のヘリウム槽とを有するクライオスタット
- 出願人:ブルーカーバイオスピンゲゼルシヤフトミツトベシユレンクテルハフツング
ヘリウムの問題点 に関わる言及
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やはり、この文献の中で水素と ヘリウム の共注入によって得られるSOI表面層が、ただ水素だけの注入によって得られる表面のSOI層の粗さに匹敵する粗さを示すと述べられていることにも留意しなければならない。
- 公開日: 2007/01/11
- 出典: 共注入と熱アニールによって特性の改善された薄層を得るための方法
- 出願人: エス.オー.アイ.テックシリコンオンインシュレータテクノロジーズエス.アー.
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また、基板冷却装置を設置する半導体製造装置として、プラズマエッチング装置を挙げたが、その他のドライエッチング装置等であってもよい。さらに、使用する基板冷却用ガスは、 ヘリウム に限らない。
- 公開日: 1997/11/11
- 出典: 基板冷却装置および半導体製造装置
- 出願人: パナソニック株式会社
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さらに、 ヘリウム 式漏れ検査と云われている検査では、被検査品の内部を真空にしてヘリウムにより漏れ検査を行っている。このヘリウム式漏れ検査は、検査装置が極めて高価であり、また、検査に使用するヘリウムも極めて高価で工数のかかる煩わしい作業を行わねばならなかった。
- 公開日: 2001/11/16
- 出典: ハイブリッド式超音波リーケージインスペクション
- 出願人: 株式会社エムイーシー
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輸送機材は、使用中でないとき、反応性化合物または ヘリウム などの不活性化合物でパージすることができる。該パージは、輸送機材の表面が、使用しない時間の間、不純物のないままにとどまることを確実にする。反応性製品の廃棄物および安全性に係わる事故への可能性を最小にするためには、不活性化合物でパージすることが好ましい。
- 公開日: 2006/09/28
- 出典: 輸送中の反応性化合物の劣化を低減する方法
- 出願人: イー・アイ・デュポン・ドゥ・ヌムール・アンド・カンパニー
ヘリウムの特徴 に関わる言及
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また、上記熱加工の ヘリウム の拡散の度合いを表す情報は、被加工部及びその周辺の温度の時間的変化において該温度が特定の温度以上にある時間領域において、ヘリウムの拡散率を該温度の時間的変化を積分経路として時間に関して定積分して得られる積分量であることが好ましい。
- 公開日: 1995/11/28
- 出典: 高エネルギー粒子線を受けた金属材料の熱加工方法及びその最適熱加工条件を算出する装置
- 出願人: ルネサスエレクトロニクス株式会社
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機能的残気量を計測するための別の技法は ヘリウム 希釈技法である。これは、既知の濃度及びボリュームをもつヘリウム源から患者が吸息している閉鎖循環式の方法である。ヘリウム源内と肺内のヘリウム濃度が平衡に達したときに、その得られたヘリウム濃度を用いて患者の肺の機能的残気量を決定することが可能である。
- 公開日: 2007/04/05
- 出典: 換気を受ける患者に関する機能的残気量データ及び関連するパラメータを決定しかつ表示するための装置及び方法
- 出願人: ジエネラル・エレクトリツク・カンパニー
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気相成長(金属層を除く)
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- 導入ガス
- 成長条件(1)成膜温度T 請求項+実施例に記載されている成膜温度を全て付与する(除く従来例)
- 成長条件(2)成膜時の圧力P 請求項+実施例に記載されている成膜時の圧力を全て付与する(除く従来例)
- 被成膜面の組成・基板の特徴・ダミー基板・マスク
- 目的
- 半導体素子等への用途
- 機能的用途
- 半導体成長層の構造
- 半導体層の選択成長
- 絶縁体成長層の構造・絶縁体層の選択成長
- 装置の形式(1)基板支持の形態・成膜中の基板の運動 図面+詳細な説明に例示されている形式をすべて付与する(除く従来例)
- 装置の形式(2)成膜室の形態 図面+詳細な説明に例示されている形式をすべて付与する(除く従来例)
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