系材料 の意味・用法を知る
系材料 とは、半導体のドライエッチング や積層体(2) などの分野において活用されるキーワードであり、ソニー株式会社 や日立金属株式会社 などが関連する技術を25,813件開発しています。
このページでは、 系材料 を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
系材料の意味・用法
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高温雰囲気下において高耐摩耗性を備えた素材を提供する。 高温耐摩耗性アルミニウム青銅 系材料 は、Al の含有量が9.0 質量%以上11.0 質量%以下であり、Ni の含有量が1.0 質量%以上3.0 質量%以下であり、Mn の含有量が8.5 質量%以上15.0 質量%以下であり、Si の含有量が2.0 質量%以上4.0 質量%以下であり、Fe の含有量が0.5 質量%以上5.0 質量%以下であり、Co の含有量が0.01 質量%以上1.5 質量%以下であり、残部が実質的にCu である。
- 公開日:2017/12/07
- 出典:高温耐摩耗性アルミニウム青銅系材料
- 出願人:三協オイルレス工業株式会社
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活物質としてSi系活物質を主材とする負極電極を有する二次電池において、活物質層は、バインダとして水溶性ポリイミド 系材料 または水溶性ポリアミド系材料と、水に可溶な増粘剤と、を有していることを特徴とする二次電池である。
- 公開日:2018/04/12
- 出典:リチウムイオン二次電池
- 出願人:日立ビークルエナジー株式会社
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上記方法によるものなど、変性セルロース 系材料 を製造する装置も提供される。
- 公開日:2017/07/27
- 出典:リグノセルロース系材料の加工方法
- 出願人:リーフサイエンシーズプロプライエタリーリミテッド
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負極活物質と微細黒鉛 系材料 と導電助材と結着材を含むリチウムイオン二次電池用負極であって、微細黒鉛系材料の含有量は、導電助材に対して等量から10倍量(質量比)の範囲にあり、微細黒鉛系材料の平均粒子径(メジアン径D50)は負極活物質の平均粒子径より小さく、1〜15μmの範囲にある、リチウムイオン二次電池用負極。
- 公開日:2017/11/09
- 出典:リチウムイオン二次電池用負極及びリチウムイオン二次電池
- 出願人:NECエナジーデバイス株式会社
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0.01重量%から50重量%の炭素系ナノフィラーを含むマスターバッチを調製するための方法であって、(a)少なくとも一の硫黄 系材料 、炭素系ナノフィラー、及び任意選択的にレオロジー改質剤を配合装置に導入すること;(b)硫黄系材料を溶融させること;(c)溶融させた硫黄系材料及び炭素系ナノフィラー、また任意選択的にレオロジー改質剤を練ること;(d)得られた混合物を凝集した固体の物理的形態で回収すること;(e)任意選択的に混合物を粉末に粉砕することを含む方法。
- 公開日:2018/02/01
- 出典:硫黄及び炭素質ナノフィラーに基づくマスターバッチの製造、製造されたマスターバッチ並びにその使用
- 出願人:エルフアトケムエス.エイ.
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油脂のアニシジン価を低減するために用いられる材料であって、有効成分としてケイ酸マグネシウム 系材料 を含み、前記ケイ酸マグネシウム材料における細孔径200〜500nmにおける累積細孔容積が0.05cc/g以上であることを特徴とするケイ酸マグネシウム系油脂精製剤に係る。
- 公開日:2015/12/03
- 出典:油脂精製剤
- 出願人:富田製薬株式会社
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少なくとも基材シート1上に絵柄模様層2と硬化型樹脂からなる表面保護層3を設けてなる内装用化粧シートにおいて、前記表面保護層3に抗アレルゲン性を有するアニオン性フェノール 系材料 は有機溶剤中で溶解する液体として、抗アレルゲン性を有する亜鉛系材料は有機溶剤中で分散する固体として硬化型樹脂に対する固形分での配合比率が10〜40重量%配合してなることを特徴とする。
- 公開日:2014/04/21
- 出典:抗アレルゲン性を有する内装用化粧シート
- 出願人:凸版印刷株式会社
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ハフニウム 系材料 が電極材料の上に形成され、ハフニウム系材料は、望まれる結晶配向を有する強誘電材料の形成を誘導するために結晶化される。
- 公開日:2016/11/04
- 出典:強誘電体メモリセルを形成する方法および関連する半導体デバイス構造
- 出願人:マイクロンテクノロジー,インコーポレイテッド
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セルロース 系材料 を用いて、セルロース系材料の形態が維持された炭素材料を高収率で製造することのできる炭素材料の製造方法を提供する セルロース系材料及び/又は再生セルロース系材料に対して、スルホン酸を吸着させる工程、および、前記スルホン酸を吸着させたセルロース系材料及び/又は再生セルロース系材料を、不活性ガス雰囲気中、600〜2800℃の温度により加熱処理する工程を備えることを特徴とする炭素材料の製造方法である。
- 公開日:2016/02/01
- 出典:触媒を用いた炭素材料の製造方法および炭素材料
- 出願人:日本製紙株式会社
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本発明の熱反射材は、A2Ti2O7層とアルミナ 系材料 層とが各2層以上交互に積層されたものであって、各A2Ti2O7層におけるAは、Y、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb及びLuのうちの少なくとも1種であり、基材上に配設される際、最表面側にA2Ti2O7層が配される。
- 公開日:2014/03/27
- 出典:熱反射材
- 出願人:一般財団法人ファインセラミックスセンター
系材料の特徴 に関わる言及
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積層体(2)
- 無機化合物・単体
- 金属材料
- 鉱物
- セラミック
- 水硬性又は自硬性物質・組成物
- ガラス
- 有機化合物
- 天然有機物
- 高分子材料I
- 高分子材料2
- れき青質
- ゴム材料
- 木質材料
- 機能・物性のみで特定された材料
- その他の材料
- 基材、フィルム、成形品
- 積層体の層構成
- 添加剤、充填材
- 接着材料
- 塗装材料
- 平面以外の一般形状構造
- 特定部分の形状・構造
- 不連続層の形状・構造
- 連続層の形状・構造
- 粉粒体等、又はそれより構成される層
- 繊維又はそれより構成される層
- 補強部材を有する層
- 多孔質構造を有する層
- 材料供給、調整
- 積層手段
- 同一の処理手段を複数回採用
- 層形成手段
- 処理、手段
- 装置
- 用途
- 模様、装飾
- 基本的物性
- 化学的性質、機能
- 生物学的性質・機能
- 物理的性質・機能
- 電気・磁気的性質・機能
- 音波・振動に関する性質・機能
- 熱的性質・機能
- 機械的性質・機能
- その他の性質・機能
- 状態
- 光学的性質・機能
- 数値を限定したもの(クレームにのみ適用)
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半導体レーザ
- 半導体レーザの構造(垂直共振器を除く)−(1)
- 半導体レーザの構造(垂直共振器を除く)−(2)
- 垂直共振器を有するレーザの構造
- モノリシックな集積(同じ成長基板上に複数の素子を備えたもの)
- 半導体の積層方向の構造−1
- 半導体の積層方向の構造−2
- 活性層の材料系−基板材料
- 不純物に特徴があるもの
- 電極構造・材料に特徴があるもの
- 被覆構造・材料に特徴があるもの
- 製造方法1
- 製造方法2
- 課題・目的
- レーザ動作のタイプ
- モジュール・パッケージの用途
- モジュール・パッケージのタイプ(典型的なタイプを抽出)
- マウント・モジュール・パッケージにおける目的
- LDチップのマウント
- パッケージ・光モジュールの構成
- 発明の特徴となっている組合せ光学要素(LDチップ外)
- 駆動におけるレーザーのタイプ
- 用途(駆動)
- 駆動において特徴となる目的
- 安定化制御(主に検知・帰還制御)
- 駆動制御
- 異常対策
- 回路構成に特徴があるもの
- 被試験・被検査形状
- 試験・検査する項目
- 試験・検査において特徴と認められる点
- 試験・検査の内容
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気相成長(金属層を除く)
- 成長法
- 成長層の組成
- 導入ガス
- 成長条件(1)成膜温度T 請求項+実施例に記載されている成膜温度を全て付与する(除く従来例)
- 成長条件(2)成膜時の圧力P 請求項+実施例に記載されている成膜時の圧力を全て付与する(除く従来例)
- 被成膜面の組成・基板の特徴・ダミー基板・マスク
- 目的
- 半導体素子等への用途
- 機能的用途
- 半導体成長層の構造
- 半導体層の選択成長
- 絶縁体成長層の構造・絶縁体層の選択成長
- 装置の形式(1)基板支持の形態・成膜中の基板の運動 図面+詳細な説明に例示されている形式をすべて付与する(除く従来例)
- 装置の形式(2)成膜室の形態 図面+詳細な説明に例示されている形式をすべて付与する(除く従来例)
- 成膜一般
- 成膜室・配管構造・配管方法
- ガス供給・圧力制御
- ノズル・整流・遮蔽・排気口
- 排気・排気制御・廃ガス処理
- プラズマ処理・プラズマ制御
- 冷却
- 加熱(照射)・温度制御
- 基板支持
- 搬出入口・蓋・搬送・搬出入
- 測定・測定結果に基づく制御・制御一般
- 機械加工プロセスとの組み合わせ
- 他プロセスとの組合せ