窒素含有 の意味・用法を知る

前記積層膜が透明導電層と 窒素含有 光吸収層とを含む請求項１または２に記載の窓ガラス。

• 公開日：2016/05/16
• 出典：窓ガラスおよび積層膜付き透明基板
• 出願人：旭硝子株式会社

透明基板と、前記透明基板上に、透明導電層と膜厚が１０ｎｍ超の 窒素含有 光吸収層とが積層された積層膜とを有する積層膜付き透明基板、透明基板上に、以下の熱処理によってそれぞれ透明導電層および窒素含有光吸収層となる、透明導電層の前駆層および窒素含有光吸収層の前駆層を形成してコーティング付き透明基板を得るコーティング工程と、コーティング付き透明基板を、５５０〜７５０℃の大気中で１〜３０分間、または１５０〜４５０℃大気中で１５分間〜４時間、熱処理する熱処理工程とを具備する上記積層膜付き透明基板の製造方法。

• 公開日：2016/05/16
• 出典：積層膜付き透明基板およびその製造方法
• 出願人：旭硝子株式会社

高分子バインダ内に分散された 窒素含有 酸化剤の粒子と、前記粒子の少なくとも一部の表面に結合された結合剤と、を有するエネルギー組成物であって、前記結合剤は、ルイス酸であり、前記窒素含有酸化剤とルイスアダクトを形成し、前記ルイス酸は、ボロン含有モノマまたはボロン含有高分子である、エネルギー組成物。

• 登録日：2018/11/09
• 出典：窒素含有酸化剤用の結合剤
• 出願人：エイチイー・ホールディングス・インコーポレーテッド・ディービーエー・ヒューズ・エレクトロニクス

実質的に球状の粒子から成る、安定化されたリチウム金属調製物の製造方法において、リチウム金属を、以下の群：・Ｎ2、・ＮxＨy、ただし、ｘ＝１若しくは２、かつｙ＝３若しくは４、又は・Ｃ、Ｈ、及びＮ、任意でＬｉの元素のみを含有する化合物から選択される 窒素含有 不活性化剤１種以上と、１８０．５℃超〜３００℃の範囲の温度で不活性有機溶剤中、分散条件下で接触させ、Ｌｉ金属と不活性化剤とのモル比が、１００：０．０１から１００：１０であり、リチウム金属のナトリウム含分が２００ｐｐｍ未満であることを特徴とする、前記製造方法。

• 登録日：2018/07/06
• 出典：窒素含有シェルで被覆され、安定化されたリチウム金属調製物、及びその製造方法
• 出願人：アルベマール・ジャーマニー・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング

酸素含有量は不活性ガス雰囲気高温溶融−赤外線吸収測定法、 窒素含有 量は不活性ガス雰囲気高温溶融−熱伝導度測定法で、それぞれ検出した。

• 公開日：2015/12/07
• 出典：窒化物蛍光体粉末の製造方法、および顔料の製造方法
• 出願人：宇部興産株式会社

含窒素天然有機物を用意する工程と、含窒素天然有機物を炭化して 窒素含有 カーボンを得る工程と、窒素含有カーボンを用いて、前記窒素含有カーボンを含む空気極を作製する工程とを含む、空気極の製造方法。

• 公開日：2015/12/07
• 出典：含窒素天然有機物を用いた空気極の製造方法
• 出願人：国立大学法人名古屋工業大学

特開２０１１−１９５３５１号公報 しかしながら、従来の 窒素含有 カーボン触媒の酸素還元活性は、白金触媒に比べて依然として低く、更なる酸素還元活性の向上が望まれている

• 登録日：2017/10/06
• 出典：燃料電池用電極触媒、その製造方法、および燃料電池用電極触媒を用いた膜電極接合体
• 出願人：日立化成株式会社

窒素含有 アモルファスシリコンカーバイド(SiC)からなるn型半導体、及び高温下での製造工程を含まない、窒素含有アモルファスシリコンカーバイドからなるn型半導体の製造方法を提供する。

• 公開日：2014/09/22
• 出典：窒素含有アモルファスシリコンカーバイドからなるｎ型半導体及びその製造方法
• 出願人：国立大学法人山口大学

...チウム、リンおよび酸素を含む、容器（２）内に存在する蒸発材料（３）を真空チャンバ内部で蒸発させる方法において、前記蒸発材料（３）を、少なくとも１つの熱的な蒸発装置（４ａ；４ｂ）によって加熱し、それと同時に、垂直方向で見て前記容器（２）と前記蒸発装置（４ａ；４ｂ）との間に配置された流入部（５）を通じて 窒素含有 の成分を前記真空チャンバ内に導入するか、または前記蒸発装置（４ａ；４ｂ）による加熱によって窒素含有の材料を同時蒸発させ、前記容器（２）から立ち上がる蒸気粒子雲を、前記基板への析出前にプラズマ（７）によって貫通させることを特徴とする、基板（１）にＬｉＰＯＮ層を析出させる方法。

• 登録日：2017/05/26
• 出典：基板にＬｉＰＯＮ層を析出させる方法
• 出願人：フラウンホーファー−ゲゼルシャフトツルフェルデルングデルアンゲヴァンテンフォルシュングエー．ファウ．

本発明は、式（１）の化合物の調製方法であって、 （式中、 Ｑは、所望により置換された 窒素含有 ヘテロシクリルまたは所望により置換された窒素含有ヘテロアリールであり、Ｙは、低級アルキル基である） 前記方法が： ａ）式（２）の化合物を、 式（３）の化合物（式中、Ｒは低級アルキル基である）を得るのに十分な条件下、 酸性活性化剤、非求核塩基、低級アルキルＮ、Ｎ−低級ジアルキルアミノアクリレートおよび低級アルキルアミンを用いて処理すること、 ｂ）工程（ａ）からの式（３）の化合物のニトロ基を還元し、式（４）の化合物を得ること、 ｃ）工程（ｂ）からの式（４）の化合物を、式（...

• 登録日：2016/12/09
• 出典：ナフチリジンの調製方法
• 出願人：バイオノミックスリミテッド